【課題】保護配位子によって表面修飾された金ナノ粒子がアルコール中に分散された測定液中の金ナノ粒子を効果的に定量する。
【解決手段】測定液を加熱して、金ナノ粒子を残渣物とする。得られた残渣物に対し、硝酸と、塩酸または塩化物とを混合して調整された薬液を添加して前記残渣物を溶解した溶解液を得る。得られた溶解液についてＩＣＰ−ＭＳによって分析し、測定液中の金ナノ粒子の量を検出する。 （もっと読む）

【課題】共鳴多光子イオン化スパッタ中性粒子質量分析法により、鋼材中に微量添加されたＢ化合物の化合物種を特定する。
【解決手段】Ｂ化合物を含有する鋼材に対して、不活性な一次イオンビーム２によってスパッタリングされた中性粒子５をレーザー光でイオン化し、引出電極６を介して質量分析計７に取り込まれたイオン種の質量分析をするスパッタ中性粒子質量分析法を利用する。このとき、Ｂ原子の第１の遷移（2s²2p(²P^o_1/2)→2s²3s (²S_1/2)（249.7 nm））および第２の遷移（2s²2p(²P^o_3/2)→2s²3s(²S_1/2)（249.8 nm））に対応する波長を基点として、基点となる波長を中心に±0.02 nm〜±0.05 nm以内の範囲でレーザー光の波長掃引を行い、これにより検出されたＢ⁺の最大ピークのカウント数の比からＢ原子の化合物種を特定する。 （もっと読む）

【課題】シリコンウェーハ等のシリコン試料の所望領域において、ドーパント種（Ｂ、Ｐ）を特定および定量するための手段を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様は、シリコン試料の一部または全部を分解すること、上記分解後に得られるシリコンを含む溶液を加熱蒸発させること、ただし、液滴が１滴残留している状態で加熱蒸発を停止し、上記液滴を回収し、該液滴中に含まれるボロンおよびリンからなる群から選ばれるドーパント元素を誘導結合プラズマ質量分析装置により分析すること、を含むことを特徴とする、シリコン試料の分析方法に関する。 （もっと読む）

【課題】迅速且つ精確に定量分析でき、定量操作が容易な、レーザーアブレーションＩＣＰ分析法を用いた貴金属の分析方法を提供する。
【解決手段】貴金属を含む試料を秤量する工程Ｓ１１と、試料に融剤を調合する工程Ｓ１２と、融剤を調合させた試料を融解させる工程Ｓ１３と、融解した試料から鉛ボタンを形成する工程Ｓ１４と、鉛ボタンにレーザー光を照射して鉛ボタンの一部を微粒子にするアブレーション工程Ｓ１５１と、微粒子をヘリウム（Ｈｅ）ガスによりＩＣＰ分析装置内へ搬送し（Ｓ１５２）、微粒子をイオン化させて分析するＩＣＰ分析工程Ｓ１５３とを備える。 （もっと読む）

【課題】公定法に準拠し抽出した液、または、それに準拠し抽出した被検査液、さらに濃縮して、対象とする元素の濃度を濃縮した液、もしくは、検査対象としない元素の濃度を相対的に下げる、元素（イオン物質）を選択およびまたは濃縮した液を被検査液として用いて、ラボ分析や現場分析にも使用可能な、検出検体を得る金属検出用センサを提供する。
【解決手段】ベース絶縁基板上に、参照電極、対極電極、及び作用電極を備え、各電極と電気的に接続された端子部を備え、前記各電極のうち、少なくとも作用電極を覆うように、多孔性の交互積層膜が形成されたことを特徴とする金属検出用センサである。 （もっと読む）

【課題】ＨＩＰＩＭＳのスパッタ源のプラズマに含まれるイオンの生成分布を安定して検出する。
【解決手段】ＨＩＰＩＭＳのスパッタ源で発生したプラズマに含まれるイオンをＴＯＦ質量分析にかけて、イオンの生成分布を検出する。その際、プラズマからの光を検出し、ＴＯＦ分析装置におけるイオンの飛行時間の開始時刻をプラズマからの光に基づき定める。ＨＩＰＩＭＳのスパッタ源に対向するＴＯＦ質量分析装置の開口部はスパッタ源のターゲットより低い電位とする。 （もっと読む）

【課題】加熱して発生したガスの分析精度をより高める。
【解決手段】発生気体分析装置１０は、先細りの先端側に第１オリフィス２２があり他端側にガス供給管２６が接続された筒状体の試料セル２０と、先細りの先端側に第２オリフィス５２があり他端側に四重極質量分析器６２が配設された筒状体のスキマー部５１と、をオリフィス側で対向させ減圧室３０に内包した状態で配設している。減圧室３０は、拡散ポンプ３３及びロータリポンプ３４で減圧される。試料セル２０は、高耐熱性材料（アルミナなど）により取り外し可能に配設されており、試料ホルダ２３を接続管２４側から試料セル２０に挿入することにより試料を配置する。この発生気体分析装置１０はで、減圧室３０を減圧することにより対向した両オリフィスの間の試料ガスの移動を分子流領域で行うことが可能であり、試料ガスの不要な拡散を抑制可能である。 （もっと読む）

【課題】亜鉛系めっき鋼材にて、焼き入れ後の成形品の耐食性を冷間成型品と同等以上とした、耐食性と耐疲労性に優れた高強度焼き入れ成形体を提供する。
【解決手段】亜鉛めっき系鋼材をホットスタンプのため加熱し、成形して焼き入れした高強度焼き入れ成形体であって、焼き入れ後の成形体鋼材表面に、Ｚｎを主成分としてＦｅが下記測定方法で９質量％以上、３０質量％以下の亜鉛めっき層が、３０ｇ／ｍ^２以上形成されていることを特徴とする。なお亜鉛めっき層中のＦｅ濃度測定方法は、ＮＨ_４Ｃｌ：１５０ｇ／ｌの水溶液中で４ｍＡ／ｃｍ^２で飽和カロメル電極を参照電極として定電流電解により−８００ｍＶｖｓ．ＳＣＥ以下に大きく変化する点でのГ層までを電解し電解液をＩＣＰによりＦｅ、Ｚｎの量、組成比を測定する方法である。 （もっと読む）

【課題】ガラス中のアンチモンの価数別分析と定量分析を高精度に行う方法を提供することを目的とする。
【解決手段】このアンチモンの価数別分析方法は、アンチモンを成分として含むガラスを粉砕し、ガラス粉末とする工程と、前記ガラス粉末を秤量し、フッ酸および塩酸で溶解しガラス溶解溶液を得る工程と、前記ガラス溶解溶液にアルミニウムイオンを添加し、フッ酸をマスキングする工程と、フッ酸をマスキングした前記ガラス溶解溶液中に水酸化ホウ素ナトリウムと塩酸を加えることによってアンチモン（III）の水素化物を発生させる工程と、前記水素化物から、前記ガラス溶解溶液中のアンチモン（III）の濃度を定量する工程と、前記ガラス溶解溶液中の総アンチモンの濃度を定量する工程と、前記総アンチモンの濃度と前記アンチモン（III）の濃度との差分をとり、アンチモン（Ｖ）の濃度を求める工程と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

触媒を生成する方法であって、この方法は、触媒粒子と溶媒とを混合し、それによって混合物を形成することと、混合物に対して粒度分布分析を行い、それによって粒度分布プロファイルを決定することと、粒度分布プロファイルが閾値未満である場合には、混合物の混合を反復することと、粒度分布プロファイルが閾値以上である場合には、混合物を遠心分離し、それによって上清と沈殿物とを形成することであって、上清は、触媒粒子と溶媒とを含む分散を含む、ことと、混合物をデカントし、上清を沈殿物から分離することと、分離された上清の粒子含有率を決定することと、触媒支持体の１つ以上の特性に基づいて、触媒支持体に適用される分散の体積を決定することと、分散の体積を触媒支持体に適用することによって、分散中の触媒粒子で触媒支持体を含浸することとを包含する。
（もっと読む）

【課題】迅速且つ精確に定量分析でき、定量操作が容易な、レーザーアブレーションＩＣＰ分析法を用いた貴金属の分析方法を提供する。
【解決手段】貴金属を含む試料を秤量する工程Ｓ１１と、試料に融剤を調合する工程Ｓ１２と、融剤を調合させた試料を融解させる工程Ｓ１３と、融解した試料から鉛ボタンを形成する工程Ｓ１４と、鉛ボタンにレーザー光を照射して鉛ボタンの一部を微粒子にするアブレーション工程Ｓ１５１と、微粒子をヘリウム（Ｈｅ）ガスによりＩＣＰ分析装置内へ搬送し（Ｓ１５２）、微粒子をイオン化させて分析するＩＣＰ分析工程Ｓ１５３とを備える。 （もっと読む）

【課題】 金属元素の深さ方向分析方法及び二次イオン質量分析装置に関し、分析に用いる一次イオンとしての酸素イオンビーム照射に誘起される金属元素の拡散現象を抑制する。
【解決手段】 一次イオンに酸素を用いて単結晶シリコンを母材とする試料中のＧａ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ａｕ或いはＡｇの少なくとも一つの金属元素の深さ方向分析を二次イオン質量分析法によって行う際に、前記試料が前記一次イオンとしての酸素により酸化される領域より少なくとも深い領域を、予め試料の酸化に伴う前記金属元素の拡散を抑制する拡散抑制領域に改質しておく。 （もっと読む）

【課題】
既存のレーザー顕微解剖装置（ＬＭＤ）での使用に適したレーザー照射チャンバーが、ＬＭＤと組み合わせて試料の元素濃度の定量的に場所分解されたナノ局所分析及び分布分析と同じ試料のナノメートルの範囲内の表面のトポグラフィーの顕微鏡による検出との双方を可能にする。オプション的には、試料が当該試料を有するスライドガラスから除去される必要なしに、その他の検査が続く。当該検査のため、試料の分析すべき領域が、ＬＭＤの顕微鏡によって検査される。
【解決手段】
この場合、当該試料は、カバーガラス（スライドガラス）の下面に存在する。同時に、このカバーガラスは、スライドガラスの下で且つＬＭＤの内部に取り付けられたレーザー照射チャンバーの一部である。当該試料の一部が照射されて分析される。オプション的には、組織の、金属が検出された特定の領域が、既存のＬＭＤ装置によってその他の分析のために適切に切除され、レーザー照射後にスライドガラスの下に取り付けられる試料容器内に収集される。
（もっと読む）

【課題】セラミックス部材の表面の一部のみを効率的にエッチングすることが可能であり、また、該部材の形状により、酸性溶液によって該部材の表面以外の部分がエッチングされたり、抽出液を回収できなかったりする等の不具合を生じることなく、金属不純物の抽出液を簡便かつ効率的に回収して、該部材の表面の金属不純物を高精度で分析することができるセラミックス部材の不純物分析方法を提供する。
【解決手段】セラミックス部材の表面の一部に、酸性溶液の液滴を形成した後、前記酸性溶液の膜を形成してエッチングし、金属不純物を抽出する工程（Ｓ１０１）と、前記金属不純物の抽出液を回収する工程（Ｓ１０２）と、前記抽出液に含まれる金属不純物を分析する工程（Ｓ１０３）とを経て、分析を行う。 （もっと読む）

【課題】流体供給装置から一定品質の流体を安定して供給する。
【解決手段】流体供給装置の流路内に流体を一定時間封入し、その封入前後の流体の不純物成分量から、その流路内における不純物成分の単位時間当たりの変化量を求める（ステップＳ１〜Ｓ５）。そして、その変化量を、予め設定された許容変化量と比較することにより、流路内に封入した流体の品質や流路の清浄度を判定する（ステップＳ６，Ｓ７）。一定の品質が確認された後、流体供給装置からの流体の供給を開始する。 （もっと読む）

【課題】レジスト洗浄処理や再生処理後の各種レジスト由来成分を含む炭酸エチレン等のレジスト洗浄剤において、誘導結合プラズマ質量分析装置等の一般的な分析装置を用いて、簡便な前処理、試料調製により精度よく金属定量を行なう方法を提供する。
【解決手段】レジスト成分を含有する、カルボニル基を有し酸素原子を環の構成原子として有してもよい４〜７員の飽和環式化合物の少なくとも１種を含むレジスト洗浄剤中の金属の定量方法であって、前記レジスト洗浄剤を酸性水溶液で希釈する希釈工程と、前記希釈工程で得られた溶液を逆相型固相抽出剤および／または活性炭固相抽出剤と接触させる固相抽出剤接触工程と、前記固相抽出剤接触工程で得られた逆相型固相抽出剤および／または活性炭固相抽出剤と接触させた後の溶液について金属を定量する金属定量工程と、を含むことを特徴とするレジスト洗浄剤中の金属定量方法。 （もっと読む）

【課題】溶液中の金属を高感度に分析する手段の提供。
【解決手段】溶液中の金属濃度を分析する方法。分析対象の金属と錯体を形成し得るキレート剤を含む溶液（分析対象の金属が含まれている場合、前記キレート剤の少なくとも一部は前記金属と錯体を形成する）を、前記錯体を捕獲し得る充填剤を含むカラムに通液する工程、前記カラムに金属分離用溶液を通液する工程、および、前記カラムを通過した金属分離用溶液中の分析対象の金属濃度を測定する工程を含む。または、分析対象の金属と錯体を形成し得るキレート剤および前記錯体を捕獲し得る充填剤を含むカラムに溶液を通液する工程、前記カラムに金属分離用溶液を通液する工程、および、前記カラムを通過した金属分離用溶液中の分析対象の金属濃度を測定する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】従来の金ナノ微粒子分散基板においては、ミクロな立場で基板表面を観察すると、表面プラズモン励起効率が非常に不均一になってしまう。例えば、金ナノ微粒子が存在する場所、存在しない場所、共鳴的に高まった場所、そうでない場所が存在する。このような不均一性は、質量分析測定において再現性を損なわせるものである。
【解決手段】上記課題を解決するためには、均一な表面プラズモン励起が基板表面上で展開する必要がある。本願発明においては、粒子径の揃った金属ナノ微粒子の分散溶液を用いて、金属ナノ微粒子を２次元最密充填させることにより上記課題を解決した。 （もっと読む）

【課題】二次イオン質量分析法において、二次イオン強度の変化を簡便に抑制できる技術を提供する。
【解決手段】一次イオンの試料表面への照射中に、試料電流値の変化に応じて、一次イオンの入射方向に対する試料ステージの角度を変更することにより、一次イオンの試料表面への入射角度を補正する。 （もっと読む）

【課題】イオン化効率が向上した質量分析方法を提供する。
【解決手段】試料から放出されるイオンを検出して質量分析を行う質量分析方法において、その試料近傍に設けられた導電体へ光を照射してプラズモン共鳴を発生させた状態で、その試料へエネルギービームを照射してイオン化を行う。 （もっと読む）