【課題】
ダイ比較方式を用いた光学式半導体欠陥検査方法及び検査装置に関して、より微細な欠陥や回路パターンにおけるショート欠陥を、より高い感度で検出する検査方法及び検査装置を提供する必要があった。
【解決手段】
基板表面を検査する検査装置であって、前記基板表面に対して斜め方向から直線偏光した光を線状に照射する照明光学系と、前記照射された光による前記基板表面からの散乱光による像を撮像する検出光学系と、前記検出光学系により撮像された前記基板の複数の表面画像の中から選択された検査画像と前記検査画像とは異なる前記複数の表面画像の中から選択された参照画像とを比較して欠陥を検出する欠陥検出手段と、を有し、前記照明光学系は、前記基板の走査方向又は走査方向に直交する方向に合わせて前記光の偏光方向を制御する偏光制御手段を有することを特徴とする検査装置を提供する （もっと読む）

【課題】 平面画像による位置決め精度が上がらない場合でも三次元情報を利用して、必要な位置決め精度を実現しつつ、検査を可能な限り短時間で行うこと。
【解決手段】 移動ステージと、被検体の平面画像を取得する平面画像取得手段と、三次元情報を取得する三次元情報取得手段と、予め記憶されている基準画像と平面画像とに基づき位置ズレ量を演算する平面画像位置ズレ検出部と、三次元情報取得の要否を判断する三次元情報取得判断部と、三次元情報取得手段で取得した三次元情報に基づき二次元画像を生成する二次元画像生成部と、予め記憶されている基準画像と二次元画像とに基づき位置ズレ量を演算する二次元画像位置ズレ検出部と、位置ズレ量に基づきステージの位置補正量を演算する補正計算部と、移動指令または位置補正量に基づきステージの移動を制御するステージ制御部と、平面画像取得手段にて取得した平面画像に基づき検査判定を行う。 （もっと読む）

【課題】ＣＤエラーやピッチエラーであるムラを可視画像（コントラスト画像）として検出する。
【解決手段】周期性パターンが形成された試料１に向けて平行光束のレーザビームを投射する。試料から出射した回折光は集光レンズ４により集光されＣＣＤカメラ５に入射する。周期性パターン中に局所的にパターン間隔が異なるパターン部分が存在すると、当該パターン部分から回折角の異なる回折光が出射する。当該回折光は、撮像装置の瞳により遮光される。このため、撮像される画像上において当該パターン部分は光量が少なく、周囲の輝度よりも低い低輝度画像として検出される。特に、レーザ光は干渉距離が長いため、多数のパターンから出射した回折光同士の相互干渉が発生する。ＣＤエラーやピッチエラーであるムラはある方向に連続的複数のパターンにわたって発生するため、レーザ光の干渉距離が長い特性と相まって、ムラによる回折効果が画像上明瞭に撮像される。 （もっと読む）

【課題】被検物の全面でフォーカスが合い、さらに被検物の全面が撮像素子と共役となる表面検査装置および表面検査方法を提供する。
【解決手段】表面検査装置１は、ウエハ１０を支持するホルダ５と、ホルダ５に支持されたウエハ１０の検査面１０ａに検査用照明光を照射する照明光学系２０と、検査用照明光が照射されたウエハ１０の検査面１０ａからの検査光を受光する撮像装置４０と、撮像装置４０で受光した検査光に基づいてウエハ１０の検査面１０ａの検査を行う画像処理検査部４５とを有し、ホルダ５はウエハ１０の検査面１０ａと検査光の光軸とが成す角度を調整可能であり、前記角度に応じて、ウエハ１０と撮像装置４０とがシャインプルーフの条件を満たすように、撮像装置４０を検査光の光軸に対して傾動させるシャインプルーフ条件制御部５１を備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】 欠陥の高さ方向位置を検出できる欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】ガラス板９９は一定の速度ｖで移動され、ステージ２の位置ｄはステージ位置検出装置４により検出される。照明装置１からマスク１０を介してガラス板９９に対して光を所定角度斜めに入射させ、画像検出装置３によりガラス板９９下面で反射した反射光を検出する。入射光と反射光の両方で欠陥を検出し、その時間間隔を測定し、コントローラ５は前記所定角度と所定速度ｖと時間間隔に基づいて欠陥の高さ方向位置を演算する。 （もっと読む）

【課題】 アライメント部によるアライメント処理を良好に実行できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 アライメント部１３０は、主として、定置台１３３と、複数の支持ピン１３４と、入出射部１７１と、を有している。定置台１３３は、ウェハーステージであり、基準用基板Ｗ１は、その上面に第１水平姿勢にて定置されている。複数の支持ピン１３４は、定置台１３３の上面から入出射部１７１側に立設されている。処理基板Ｗおよび比較用基板Ｗ２は、これら支持ピン１３４により第２水平姿勢にて支持される。入出射部１７１は、定置台１３３側に光を照射とともに、基準用基板Ｗ１および比較用基板Ｗ２で反射される反射光を受光する。そして、複数の支持ピン１３４による処理基板Ｗおよび比較用基板Ｗ２の支持状況は、基準用基板Ｗ１の反射光と比較用基板Ｗ２の反射光と、に基づいて判定される。 （もっと読む）

【課題】 アライメント部によるアライメント処理を良好に実行できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 アライメント部１３０は、主として、定置台１３３と、複数の支持ピン１３４と、入出射部１７１と、を有している。定置台１３３は、ウェハーステージであり、検査用基板Ｗ２は、その上面に定置されている。複数の支持ピン１３４は、定置台１３３の上面から入出射部１７１側に立設されている。処理基板Ｗ１および検査用基板Ｗ３は、これら支持ピン１３４により支持される。入出射部１７１は、定置台１３３側に光を照射するとともに、処理基板Ｗ１、基準用基板Ｗ２、Ｗ３で反射される反射光を受光する。そして、光源１７１ａの発光状況は、定置台１３３上の処理基板Ｗ１、検査用基板Ｗ２、Ｗ３で反射された複数の反射光について、各反射光の反射光スペクトルから演算される各積分演算値に基づいて判定される。 （もっと読む）

光学検査システム又はツールは、照明の１つ又はそれよりも多くの特性が、異なる区域の検査の必要性を満たすように調節される動的照明を用いて物体を検査するように構成することができる。例えば、照明強度は、ツールがメモリの区域及びウェーハダイの周縁部特徴を検査する時に増加又は減少させることができる。一部の実施形態では、調節は、様々な特性を有する照明に基づいて撮った画像が検査工程の残りの部分の適合性に対して評価される検査前設定シーケンス中に得られるデータに基づくことができる。 （もっと読む）

【課題】製品レチクルにＴＤＩセンサ撮像面積に比して充分な広さの黒領域及び白領域が存在しなくても、製品レチクルを用いてセンサアンプのオフセット及びゲインの調整が可能なレチクル欠陥検査方法及びレチクル欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】ＴＤＩセンサ１１の各画素の出力がセンサアンプ１５により増幅される。増幅された各画素の光量信号のボトム値が、オフセット／ゲイン調整手段１６のボトム値記憶手段１６ａにより記憶され、ピーク値がピーク値記憶手段１６ｂにより記憶される。各画素のボトム値に基づいて、オフセット算出手段１６ｃにより各画素のオフセットが算出される。各画素のオフセットと、各画素のピーク値とに基づいて、ゲイン算出手段１６ｄにより各画素のゲインが算出される。算出された各画素のオフセット及びゲインがレジスタ１５３に記憶されることで、センサアンプ１５のオフセット及びゲインが調整される。 （もっと読む）

【課題】被検査物の表面の欠陥を高い精度で検出する。
【解決手段】表面欠陥検査装置は、被検査物１の微分干渉光学像を形成する微分干渉光学系と前記微分干渉光学像を撮像して微分干渉画像を得る撮像部とを有する微分干渉画像取得部２と、前記微分干渉画像を処理して、被検査物１の表面における欠陥を検出する処理部３と、を備える。処理部３は、前記微分干渉光学系のシア方向と前記撮像部における画素の１つの並び方向との間のずれに応じて、前記撮像部により得られた前記微分干渉画像又はこれに対して所定の前処理を行った画像を回転させる画像回転処理を行う画像回転処理手段を、有する。 （もっと読む）

【課題】画素分解能を高め、また、放射線によるノイズを排除することで、欠陥検出能力の高いパターン欠陥検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】第１の方向に沿って第１の画素ピッチで配列した複数の第１の画素を有し、被検査体の光学像の第１の画像データを出力する第１のセンサと、第１の方向と略直交する第２の方向に並列して設けられ、第１の方向に沿って第１の画素ピッチで配列し且つ第１の方向において第１の画素位置から第１の画素ピッチの１／Ｎ（Ｎは１以上の整数）だけずれた位置に配置された複数の第２の画素を有し、被検査体の光学像の第２の画像データを出力する第２のセンサと、第１の画像データ及び第２の画像データに基づいて被検査体の欠陥を検出する欠陥検出部と、を備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】試料のパターンからアシストパターンを透過画像と反射画像を用いて識別すること。
【解決手段】パターンを有する試料の透過画像と反射画像を同時に取得する光学画像取得部と、アシストパターンの識別条件により透過画像と反射画像のパターン形状からアシストパターンを識別するアシストパターン識別部と、を備えているアシストパターン識別装置、及び、パターンを有する試料の透過画像と反射画像を同時に取得する光学画像取得部と、アシストパターンの識別条件により透過画像と反射画像のパターン形状からアシストパターンを識別するアシストパターン識別部と、アシストパターンをデセンス領域に設定するデセンス領域設定部と、デセンス領域において、パターンの比較検査を行う比較判定部と、を備えている試料検査装置。 （もっと読む）

【課題】アライメントの合わせこみ残差があっても、開口パターンの欠陥を高精度に検出することが可能なパターン検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】パターン検査装置は、複数の開口パターンが形成されたパターン形成体を撮像して撮像画像を得る撮像部と、前記撮像画像と比較するための参照画像を取得する参照画像取得部と、前記撮像画像と前記参照画像との間で前記開口パターン像の位置を個別に一致させて、前記撮像画像と前記参照画像との間で前記開口パターン像の差画像を前記開口パターン毎に生成する差画像生成部と、前記差画像に基づいて前記開口パターンの欠陥を検出するパターン欠陥検出部とを備える。 （もっと読む）

【課題】適正な感度で異物を検出することが可能な異物検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】異物検査装置は、所定の感度でフォトマスク上の異物を検出する異物検出部と、露光装置の使用条件に応じた検出感度情報を取得する検出感度情報取得部と、前記検出感度情報に基づいて前記異物検出部の前記感度を変更する感度変更部とを備える。 （もっと読む）

【課題】試料のパターンから特定パターンを透過画像と反射画像を用いて識別すること。
【解決手段】パターンを有する試料の透過画像と反射画像を同時に取得する光学画像取得部と、特定パターンの識別条件により透過画像と反射画像のパターン形状から特定パターンを識別する特定パターン識別部と、を備えているパターン識別装置、及び、パターンを有する試料の透過画像と反射画像の光学画像を同時に取得する光学画像取得部と、特定パターンの識別条件により透過画像と反射画像のパターン形状から特定パターンを識別する特定パターン識別部と、特定パターンを特定検査実行領域に設定する特定検査実行領域設定部と、特定検査実行領域において、光学画像取得部で取得した光学画像のパターン検査を行う比較判定部と、を備えている試料検査装置。 （もっと読む）

【課題】 欠陥検知及び分類のための共通光路干渉イメージング用のシステム及び方法を記載する。
【解決手段】 照明光源が可干渉光を発生し且つサンプルへ向けて指向させる。光学的イメージングシステムが、該サンプルにより主に回折されていない鏡面成分と散乱成分とを包含しており該サンプルから反射又は透過された光を回収する。可変位相制御システムが、画像面において干渉する態様を変化させるために散乱成分と鏡面成分の相対的位相を調節するために使用される。その結果発生する信号は該サンプル上の同じ位置に対する参照信号と比較され、スレッシュホールドを超える差が欠陥であると考えられる。このプロセスは、各々が異なる相対的位相シフト及び各欠陥位置で複数回繰り返され、且つその差信号がメモリ内に格納される。このデータは各欠陥に対する振幅及び位相を計算するために使用される。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成された薄膜に存在する欠陥の正確な検出を可能とする標準基板を提供すること。
【解決手段】清浄表面を有する基板１の表面に粒径が既知の粒度が揃った微粒子４、５を付着させる。このような微粒子としては、ポリスチレン、ポリアクリレート、シリカ等のものを使用し得る。続いて、微粒子が付着した状態の基板表面上に薄膜を形成する。これにより、人工的に形成されたモデル欠陥となる微粒子が含まれた薄膜が得られる。このような薄膜の形成に続いて、薄膜２から微粒子の少なくとも一部を脱離させて欠損部３を形成する。このような微粒子の脱離は、超音波洗浄やスクラブ洗浄により実行することができる。得られた欠損部３は薄膜２に形成される径の揃ったピンホールとなり、微粒子が脱離しなかった部分は突起状のモデル欠陥となる。 （もっと読む）

【課題】パターン検査装置において、膜厚の違いやパターン幅のばらつきなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度な欠陥検査を実現する。
【解決手段】同一パターンとなるように形成されたパターンの画像を比較して不一致部を欠陥と判定する欠陥検査装置を複数の光学条件の対応する領域の画像の特徴量を特徴空間にプロットし、特徴空間上のはずれ値を欠陥として検出。これにより、ウェハ内の画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても各種の欠陥を高感度に検出できるようにした。また、これらの画像処理部のシステム構成を、画像の分割，タスクの生成を行うタスク管理部とからなり、タスクに応じて並列もしくは時系列に欠陥判定処理を行う構成とすることにより，高速な欠陥検査を行えるようにした。 （もっと読む）

【課題】光学画像受光部の受光面上に照射されたパターン像の焦点合わせを容易にすること。
【解決手段】検査対象試料を載置する載置部と、載置部に載置された検査対象試料に照射光を照射する光照射部と、検査対象試料に照射された照射光を受光する光学画像受光部と、検査対象試料のパターン像の焦点を光学画像受光部に合わせる焦点調整装置と、検査対象試料上にスリット像を形成するスリット像形成装置と、検査対象試料上のスリット像を表示する観察用表示装置と、を備え、観察用表示装置で表示される検査対象試料上のスリット像から、光学画像受光部における検査対象試料のパターン像の焦点を調整する、光学画像取得装置。 （もっと読む）

【課題】被検査体における内部析出物、空洞欠陥、表面の異物ないしスクラッチ、表層のクラックの欠陥を精度よく検出し、欠陥の種類を特定して欠陥を分類できるようにする。
【解決手段】光源装置４からの光をポラライザー５を介して偏光を与えて被検査体Ｗに対し斜め方向に入射させ、その散乱光ＳＢを暗視野に配置された偏光分離素子９を有するＣＣＤ撮像装置７で撮像し、得られたＰ偏光成分画像とＳ偏光成分画像とについて成分光強度を得て、それらの比としての偏光方向を求める。被検査体に応力を印加していない状態と、応力を印加した状態の光散乱体の撮像により得られた画像から成分光強度、偏光方向を求め、所定の閾値と対比することにより欠陥の検出、分類がなされる。 （もっと読む）