【課題】従来の縞パターン投影法とフーリエ変換法による三次元計測方法に、新たな処理フローを加えることにより、感光体表面に発生する膜厚むら、きず、突起、異物及び色むら等の全種の欠陥を検出する表面検査装置、それを用いた欠陥検出方法、プログラム及び記録媒体を提供する。
【解決手段】表面検査装置は、対象物上に縞パターンを投影する手段と、対象物の表面を撮像する手段と、対象物の画像データからフーリエ変換法により対象物の三次元形状データを算出する手段と、画像データの高周波成分に基づいて欠陥検出を行う手段と、低周波成分に基づいて欠陥検出を行う手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
光学的な表面を有する基板の検査方法において、特に、原器あるいはマスターから複製される基板の適切な表面検査方法が開発されていないため、高密度化する記録媒体や光学素子の量産化が遅れている。
【解決手段】
原器あるいはマスターとそれから複製される基板とをそれぞれ反射ミラーとするような構成のマイケルソン型干渉計あるいは、マッハツェンダー型干渉計を構築することにより、原器あるいはマスターから反射する位相情報を含む光と、検査対象から反射する光とが干渉し干渉縞を観測する。干渉縞を解析することにより、原器あるいはマスターの表面が有する特定の光学的構造と、検査対象の表面構造との差異を観測することができ、検査対象の表面状態を検知することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】面取り面の形状が異常であるか否かの判定を簡便に行うことができる半導体ウェーハの検査方法を提供すること。
【解決手段】半導体ウェーハの検査方法は、第１の撮像装置１２ａを用いて主表面２１側から視た面取り面２３の画像である第１の画像を撮像し、第２の撮像装置１２ｂを用いて裏面２２側から視た面取り面２３の画像である第２の画像を撮像する撮像工程と、撮像工程により撮像された第１の画像に基づいて面取り面２３を主表面２１側から視たときの幅である第１の幅を求め、撮像工程により撮像された第２の画像に基づいて面取り面２３を裏面２２側から視たときの幅である第２の幅を求め、求められた第１の幅と第２の幅との比率を算出する算出工程と、算出工程により算出された比率が所定の範囲から外れている場合には、面取り面２３の形状が異常であると判定する形状判定工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクの平面部及び端面（エッジ部）の同時検査に好適なディスク検査装置及び方法並びにプログラムを提供する。
【解決手段】エッジを含んだディスク表面の所定形状の検査領域部分を視野内に含む撮像手段を用いて当該検査領域部分からの反射光を撮像することにより得た取り込み画像からハードディスクのエッジ位置を検出するエッジ検出処理手段と、当該検査対象ディスクの内径、外径及び記録面領域の範囲を規定する仕様情報を取得する情報取得手段と、検出したエッジ位置と仕様情報に基づき、取り込み画像を記録面領域、非記録内周領域、非記録外周領域、外周エッジ領域、内周エッジ領域の各領域に対応したウインドウに分離するウインドウ分離手段と、各領域ごとにデータ処理を行い、塵埃の位置及び大きさの情報を得る画像解析手段と、得られた結果をモニタ画面上に表示させる表示制御手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクの検査対象領域に対する照明光の光量の安定化・均一化を図り、ディスク表面（記録面部分）及び端面（エッジ部）の同時検査や両面の同時検査への適用にも好適なハードディスク検査装置を提供する。
【解決手段】垂直姿勢で保持されたディスク（12）の面に対し、照明装置（112，114,116,118）からエッジを含んだ検査領域の形状と略同一形状の照射範囲となる照明光パターンの照明光を照射し、当該エッジを含んだ検査領域部分からの反射光をカメラ（102,104）によって撮像する。ディスク（12）の表面側及び裏面側の各検査面に対して、それぞれ１台ずつ光源装置（310,311）を備え、１台の光源装置（310又は311)から光ファイバー（312又は313）を２分岐して、ディスク検査領域に対して２方向（左右）から対称的に照明する。 （もっと読む）

【課題】様々に半径の異なる円盤状物体の撮像画像に発生する歪みを低減し、精密な画像を容易に取得することができ、かつ低コスト化が実現できる撮像装置を提供する。
【解決手段】本発明の撮像装置２０は、少なくともライン領域１ａを撮像できるセンサ１を備え、円形の平面に光学的に識別可能な模様を有する円盤状物体４の円形の平面をセンサ１で撮像するための撮像装置２０であって、２つの、支持面２ａを有する支持具２と、円盤状物体４の周面を押さえつけるために移動し、円盤状物体４を回転させるために回転する円形の回転装置３とを備え、２つの支持面２ａが、ライン領域１ａを軸として対称に配置され、撮像される円盤状物体４を２つの支持面２ａと回転装置３とで挟み、回転装置３が円盤状物体４を回転させている間に、円盤状物体４を所定の時間の間撮像するので、撮像装置２０は歪みを低減した精密な画像を容易に取得し、かつ低コスト化を実現できる。 （もっと読む）

【課題】 アライメント部によるアライメント処理を良好に実行できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 アライメント部１３０は、主として、定置台１３３と、複数の支持ピン１３４と、入出射部１７１と、を有している。定置台１３３は、ウェハーステージであり、基準用基板Ｗ１は、その上面に第１水平姿勢にて定置されている。複数の支持ピン１３４は、定置台１３３の上面から入出射部１７１側に立設されている。処理基板Ｗおよび比較用基板Ｗ２は、これら支持ピン１３４により第２水平姿勢にて支持される。入出射部１７１は、定置台１３３側に光を照射とともに、基準用基板Ｗ１および比較用基板Ｗ２で反射される反射光を受光する。そして、複数の支持ピン１３４による処理基板Ｗおよび比較用基板Ｗ２の支持状況は、基準用基板Ｗ１の反射光と比較用基板Ｗ２の反射光と、に基づいて判定される。 （もっと読む）

【課題】
半導体基板などの基板の表面あれを高精度に検査する。
【解決手段】
基板表面に照明を照射し、散乱光や反射光を複数の方位、仰角で検出することで基板の
表面あれを表面あれの周波数帯域ごとに計測する。 （もっと読む）

【課題】被検査対象であるパターンドメディアやビットパターンドメディア等からなる磁気記録媒体又はそのスタンパ等のパターン形状を高速で、且つ高感度に検査できるようにしたパターン形状検査装置及びその方法を提供することにある。
【解決手段】被検査対象を載置して回転させながら半径方向に移動させる移動機構と、該移動機構により回転させながら半径方向に移動する前記被検査対象に対して遠紫外光を含む広帯域の照明光を前記被検査対象に適する偏光状態で斜め方向から照射する照射光学系と、該照射光学系で照射された被検査対象から発生する０次反射光を検出する検出光学系と、前記検出された０次反射光を分光して得られる分光反射率波形を基に前記被検査対象に形成されたパターン形状を検査する形状検査手段とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】欠陥画像と参照画像との差画像から欠陥を抽出する検査装置において，位置合わせのための画素間補間演算に時間がかかっていた。また，欠陥の寸法算出や分類を行う場合もサンプリング点数が不足するため，十分な精度が得られない。
【解決手段】検査試料を搭載したステージ１の移動方向に対して２次元センサ３を所定の角度傾けて設置し，ステージ１の移動と同期して撮像，画像を再構成することにより，ウエハ２に対して，２次元センサ３の画素サイズ以下の高密度サンプリングの画像を得ることが出来る。これにより，位置合わせ時の補間演算が不要になり，また，欠陥の寸法算出，分類が高精度に行える。 （もっと読む）

【課題】屈折・回折型レンズを用いたSchupmann光学系で配置される分光光学系により垂直落射照明を可能とし、かつ、ＤＵＶ−ＵＶ（２００ｎｍ〜４００ｎｍ）領域の広帯域色補正を行うことを可能とする分光光学系および分光測定装置を提供する。
【解決手段】光源１１０と、視野絞り１１１と、リレーレンズ系１４０と、フィールドレンズ系１５０と、結像レンズ系１６０と、分光器１７０とを有し、リレーレンズ系１４０、フィールドレンズ系１５０および結像レンズ系１６０は、屈折型レンズおよび／または回折型レンズによるSchupmann光学系で配置され、かつ、リレーレンズ系１４０と結像レンズ系１６０のいずれか一方に回折型レンズを有する分光光学系であって、フィールドレンズ系１５０が２枚以上のレンズで構成され、そのうちの１箇所においてレンズが所定の距離だけ離して配置されている。 （もっと読む）

【課題】ディスク表面に発生する線状，円弧状欠陥に対して、周期的に発生する線状，円弧状欠陥と、孤立に発生する線状，円弧状欠陥とを分類して検出する。
【解決手段】ディスク表面を送光系（101、102）により投光し、その正反射光、散乱光を受光系（102、103、104、105、202）によって受光し、その信号に対して２次元周波数フィルタ処理(4013)により欠陥の顕在化を行う。次に、線状，円弧状欠陥の特徴量である，欠陥幅，長さ等のパラメータにより欠陥判定処理(4015)を行い、線状，孤立欠陥候補を抽出する。次に、周期性特徴量である、欠陥の発生方向，欠陥同士の間隔，発生座標等のパラメータにより周期性判定処理(4016)を行うことによって、周期的に発生する線状，円弧状欠陥と、孤立に発生する線状，円弧状欠陥とを分類して検出する。 （もっと読む）

【課題】ディスクの表面（記録面部分）及び端面（エッジ部）の同時検査や両面の同時検査に好適なディスク検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】垂直姿勢で保持されたディスク12の面に対し、照明装置112，114,116,118からエッジを含んだ検査領域の形状と略同一形状の照射範囲となる照明光パターンの照明光を照射し、当該エッジを含んだ検査領域部分からの反射光をカメラ102,104によって撮像する。照明光は、光ファイバーなどのライトガイドを使用して照射パターン形状を整形し、ディスク12のテクスチャの接線方向に沿って照射する。カメラ102,104から得られる画像を解析し、ディスクの中心位置と半径を求めて自動的に各検査面のウインドウを形成する。また、検査画像からエッジ部分における反射形状を認識し、当該反射形状に基づき、塵埃と塵埃以外の要因によるものとを判別して塵埃の検出と測定を行う。 （もっと読む）

【課題】
被検査物の検査により得られたパターン信号の飽和による欠陥の見逃しを防ぎ、早期に欠陥発生の原因究明ができる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】
パターンが形成された被検査物にレーザ光を照射し、該被検査物からの信号を検出して欠陥を検出する欠陥検査において、被検査物に関するレイアウトデータに含まれるパターン情報を入力し、該入力されたパターン情報から被検査物の複数の被検査領域毎に、配置，繰り返し性，粗密のうちの少なくともいずれかひとつを判定し、該判定結果に基づいて検出した信号の飽和レベルを予測し、該信号が飽和しないような透過率条件を決定する。 （もっと読む）

【課題】所定のパターンを有する光源を用いて表面が鏡面反射の性質を有する被検査物について、微細な傷を測定することができる。
【解決手段】面光源３Ａ，３Ｂから周期式が既知の前記パターン光を所定の位相ずつずらしながら被検査物１００に投射可能した状態で、撮像装置５で被検査物を撮像し、撮像画像の画素ごとに、前記撮像装置５により撮像された前記パターン光の位相が異なる複数の撮像画像の輝度値を前記光源３Ａ，３Ｂが照射するパターン光の周期式にあてはめ、画素ごとのパターン光の周期変化及び振幅を演算し、撮像画像の周期式の振幅の値に基づいて、前記振幅値を明度とする振幅画像を作成し、前記振幅画像に基づいて前記被検査物の表面欠陥を検査する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の表面欠陥の原因となっている工程を同定し、当該工程を修繕することで、それ以上の表面欠陥の発生を防止する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造システム１００は、磁気ディスク用ガラス基板２００を製造するための１つ以上の工程１０３、１０５、１０６ａ、１０６ｂに対応して、各工程の処理に異常がある場合にガラス基板に生じる表面欠陥を典型的に示す表面欠陥マップ１２０ａ〜１２０ｄを記憶する記憶手段と、各工程を経て製造された磁気ディスク用ガラス基板２００の表面欠陥４０２を検出する表面欠陥検出装置１３０と、表面欠陥４０２に類似する表面欠陥マップを認識する認識部４０４と、表面欠陥４０２に類似すると認識された表面欠陥マップに対応する工程を報知する報知部４０６と、を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板の製造工程で生じる内包物と表面に含まれる凹欠陥および凸欠陥とを区別することで、ガラス基板の歩留まりを向上させることが可能な、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを提供することを目的としている。
【解決手段】本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板１００の製造方法は、基板状態測定工程Ｓ２００と、欠陥面内位置特定工程Ｓ２０２と、面内位置を特定した欠陥が磁気ディスク用ガラス基板１００の表面にあるか否かを、結像手段が面内位置で結像する像の数に基づいて判断する表面欠陥判断工程Ｓ２０４と、表面欠陥判断工程Ｓ２０４の結果に基づいて磁気ディスク用ガラス基板１００を良品であるか否かを判定する良品判定工程Ｓ２０６と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターンドメディアの検査方法において、ナノインプリントのプロセス管理を目的とした場合には、パターンの正確な形状を計測する必要があり、製品の品質管理が目的の場合には、製品全数を検査する必要があるが、ＳＥＭやＡＦＭを用いた方法では、これらの要求を満たすことができない。
【解決手段】磁性体のパターンが形成されたハードディスクメディア表面に複数の波長を含む光を照射し、ハードディスクメディアからの反射光の強度を波長毎に検出する(S102)。次に、検出した反射光の強度から分光反射率を算出し(S104)、算出した分光反射率に基づいてハードディスクメディア上に形成されたパターンの形状を検出する(S110)。 （もっと読む）

【課題】レンズ効果により凹凸欠陥の判定をする従来技術では、欠陥の正確な大きさ、高さに関しての精度向上が図れない。
【解決手段】ステージ上に搭載されたディスクの面板表面に光ビームを照射して面板表面を走査する照射光学系と、前記ディスクに照射された光ビームによる面板からの正反射光の光量を変化させる濃淡差を有する濃淡フィルタを備え、前記濃淡フィルタを透過した正反射光を受光する受光光学系と、前記フィルタを通過して得られた正反射光の光量変化より面板表面上の欠陥を識別する処理手段とを有する検査装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】エラーとなり得る情報記録媒体の表面の欠陥を精度良く検出可能な表面欠陥検査方法および表面欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】表面欠陥検査装置１の微分干渉顕微鏡３とＣＣＤカメラ４で検査対象物Ｍの情報記録媒体表面の微分干渉画像を撮像する。画像処理装置５では、この微分干渉画像に対して欠陥を含むレファレンスサンプルの画像例に基づく欠陥候補スライスレベルを設定し、微分干渉画像から欠陥候補を選定する。そして、選別された各欠陥候補に対して、その面積がエラーとなる最小サイズの欠陥の面積に基づく欠陥面積判定値以上のものを真にエラーに対応する欠陥として抽出する。 （もっと読む）