【課題】物体と結像レンズとの間にビームスプリッターを配置したことに起因する非点収差あるいは球面収差を小さくすることのできる同軸落射照明方法及び同軸落射照明装置を提供する。
【解決手段】同軸落射照明装置１０は、光源１２から発せられた光を、検査対象物Ｗと結像レンズ１８との間に配置されたハーフミラー１６を介して検査対象物Ｗに対して結像レンズ１８の光軸２０と同軸に照射するための装置である。ハーフミラー１６の反射面は、結像レンズ１８の光軸２０に対して４５度よりも大きい角度をなしている。 （もっと読む）

【課題】 高価な位置検出器を取り付けることなく、シート材端部の観察画像が常に最適状態にある観察装置及び方法、並びに、観察画像を用いた評価結果にばらつきが生じることを防ぐことができる観察評価装置及び方法を提供する。
【解決手段】 連続搬送されるシート材端部を第１及び第２の観察手段を用いて観察評価する装置及び方法において、
第１の観察手段は、シート材の幅方向端部を視野に含み、厚み方向にシート材端部との距離が変更可能な第１の観察手段位置変更機構に取り付けられ、
第２の観察手段は、シート材の厚み方向端部を視野に含み、幅方向にシート材端部との距離が変更可能な第２の観察手段位置変更機構に取り付けられており、
第１及び第２の観察手段での観察情報に基づき、シート材の幅及び厚み方向端部の位置を検出し、第１及び第２の観察手段位置変更機構を制御することを特徴とするシート材端部の観察評価装置及び方法である。 （もっと読む）

【課題】
欠陥信号を低下させて欠陥を見逃してしまうことのない欠陥検査装置および欠陥検査方法と提供する。
【解決手段】
表面にパターンが形成された検査対象物に光を照射し、この光が照射された検査対象物から発生する反射、回折、散乱光を集光して第１の遮光パターンを備えた第１の空間フィルタを透過した光による第１の光学像を第１の検出器で受光して第１の画像を取得し、光が照射された検査対象物から発生する反射、回折、散乱光を集光して第２の遮光パターンを備えた第２の空間フィルタを透過した光による第２の光学像を第２の検出器で受光して第２の画像を取得し、取得した第１の画像と第２の画像を統合的に処理して欠陥候補を判定する欠陥検査方法及びその装置とした。 （もっと読む）

【課題】露光ユニット全体を小型化することができ、また、タクトタイムの短縮を図ることができ、且つ、適切に基板の温調を行うことができる異物検出装置及び異物検出異物検出方法を提供する。
【解決手段】異物検出装置２０は、精密温調プレート２２に載置された基板Ｗを温調する基板温調機構、精密温調プレート２２の上方に配置され、所定の方向に直線状に配置される複数のカメラ３０と、該カメラ３０が撮像する基板の位置に光を照射する光源３１と、を有し、精密温調プレート２２に載置された基板Ｗの異物を検出する異物検出機構３４とを有することで、異物検出機構と基板温調機構３４とが単一の装置に設けられため、露光ユニット全体を小型化でき、また、温調が行われている基板Ｗの異物の検出を行う場合には、タクトタイム短縮ができ、さらに、異物を検出する際に、基板Ｗにはレーザー以外の光源３１を照射するため、活性化による基板Ｗの温度上昇を防止できる。 （もっと読む）

【課題】
複数条件の画像を同時に検出して統合する構成を用いた場合、高レートのデータ転送手段と大容量のメモリや記憶媒体が必要となる。
【解決手段】
複数の撮像条件にて試料の画像データを取得する工程と、前記複数の撮像条件にて取得した複数の画像データを画像記憶部へ格納する工程と、前記複数の画像データのそれぞれより欠陥候補を取得する工程と、前記画像記憶部に格納された、少なくとも２つの撮像条件の前記画像データから、前記複数の画像データのいずれかで検出した前記欠陥候補位置とその周辺を含む部分画像を切り出す工程と、前記欠陥候補に対応する少なくとも２つの撮像条件で取得した前記部分画像を統合処理することで、欠陥候補を分類する工程と、を有することを特徴とする欠陥検査方法である。 （もっと読む）

【課題】設置スペースを抑制した検査ステージを備えたマクロ検査装置を提供する。
【解決手段】基板を目視によって検査する場合に用いられるマクロ検査装置であって、基板を搬送する搬送ラインの横に配置し、少なくとも、基板の１つの基板端を吸着及び吸着解除する基板端吸着及び吸着解除手段と、前記基板端吸着及び吸着解除手段をスライドする手段と、前記基板端が吸着された基板をスライドする際には浮上させ、スライドした後には浮上を解除し吸着する浮上吸着手段と、を有する検査ステージを備えたことを特徴とする基板マクロ検査装置。 （もっと読む）

【課題】 疑似欠陥が存在しない領域の検査を確実に行い、自動検査での検査結果を利用して、疑似欠陥による負荷の増大と検査精度低下を防ぐことができる欠陥検査装置、欠陥検査方法、プログラムおよび記録媒体を提供する。
【解決手段】 自動検査工程３１では、撮像検査阻害要因判定部は、アライメントエラー、コンタクトエラーおよび付着異物などの撮像検査阻害要因の有無を判定する。撮像検査領域判定部は、判定された撮像検査阻害要因に応じて、検査領域および非検査領域を判定する。画像処理装置１４は、撮像画像に基づいて、撮像検査領域判定部によって判定された検査領域の欠陥を検出し、検査結果を表示制御装置４に送る。目視検査工程３２では、表示部８は、目視検査作業者に自動検査での非検査領域と検出された欠陥とを表示する。目視検査作業者は、表示部８の情報に従って目視検査を行い、検査結果を入力部９で入力する。 （もっと読む）

【課題】板材の表面の側端部近傍における汚れ、傷、めっき不良、異物の付着等を検出することができる板材検査方法及び板材検査装置を提供すること。
【解決手段】板材Ｗの表面側から反射用の照明光を照射するとともに、板材Ｗの裏面側からバックライト用の照明光を照射して、板材Ｗの表面と板材Ｗの側端部よりも外側の部分までを含む範囲Ｓを撮像部４で撮像する。そして、その画像に基づいて板材Ｗの表面で反射した反射光１２の光量と、板材Ｗの側端部Ｗｂよりも外側部分のバックライト光１１の光量を測定して、これら２つの光量が同一且つ予め設定された範囲の光量となるように、反射用の照明光とバックライト用の照明光の光量を調節する。そして、光量の調節がなされた状態で、板材Ｗの表面と板材Ｗの側端部Ｗｂよりも外側の部分とを含む範囲を撮像して、その撮像した画像に基づいて板材Ｗの欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】
測定時間及び費用を低減させるようにガラス基板から反射された反射光のうち上面から反射された光のみを用いてガラス基板の不均一度を測定するシステム及び方法を提供する。
【解決手段】
ガラス基板の不均一度測定システムは、第１光をガラス基板に照射する光源部及びスクリーンを含む。ここで、光源部から照射された第１光はガラス基板の上面及び下面で反射され、ガラス基板の上面によって反射された第１反射光がスクリーンに入射されて第１帯を形成し、ガラス基板の下面によって反射されて上面を通じて出力された第２反射光がスクリーンに入射されて第２帯を形成し、第１帯と第２帯が分離されて形成されるように光源部及びスクリーンがガラス基板を基準として配列される。 （もっと読む）

【課題】撮像した検査対象の画像が、検査領域から外れた場合であっても、検査対象の位置合わせにかかる検索時間を短縮して、検査時間の増大を抑制することができる位置合わせ装置、位置合わせ方法および位置合わせプログラムを提供すること。
【解決手段】検査測定のための基板画像を撮像する撮像部と、検査測定を行う測定箇所が設定された高倍レシピ画像、および高倍レシピ画像と比して広範囲な視野領域を有する低倍レシピ画像を記憶する記憶部と、高倍レシピ画像と同等の倍率の検査画像の低倍レシピ画像内の位置を検索する検索部と、検索の結果、検査画像の視野領域内から測定箇所が外れている場合、検査画像および測定箇所の位置を含む位置情報を算出する算出部と、算出部が算出した位置情報をもとに、検査画像の視野領域内に測定箇所が入るように撮像部を移動した後、検査画像を撮像させる制御部と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】分ガラス基板の全面亘って平坦性を確保し、精度よく検査できるガラス基板欠陥検査装置またはガラス基板欠陥検査方法あるいはガラス基板欠陥検査システムを提供する。
【解決手段】ガラス基板をエアで浮上力を発生させて浮上させ、前記浮上力のない検査領域に搬送し、前記検査領域において前記ガラス基板を撮像し検査するガラス基板欠陥検査装置またはガラス基板欠陥検査方法において、前記検査領域の周囲において、前記浮上力を発生する前記ガラス基板面と反対側の面に前記ガラス基板をエアで挟み込む挟込力を発生させる。 （もっと読む）

【課題】光ファイバの端面を容易に、かつ確実に観察し検査する。
【解決手段】光ファイバ１０の端面１０ａを観察するための拡大レンズを備える本体部と、本体部に着脱可能であるとともに光ファイバ１０を把持し、光ファイバ１０の端面１０ａを観察するための鏡２４が設けられた光ファイバ把持具２と、を備える。鏡２４は、その鏡面２４ａが上側（拡大レンズが配される方向）から見て、光ファイバ１０の延在方向に直交する面Ａ（方向）に対して所定角度（θ２）傾斜している。 （もっと読む）

【課題】パターン付き基板の表面検査方法及びその装置において、周囲を隔壁で囲まれた有機ＥＬ発光層を形成する領域に存在する０．１μｍよりも小さい異物欠陥を、感度よく検出する。
【解決手段】パターン付き基板の表面検査方法において、２次元状に並んで形成されたパターンの並びの一方の方向に基板を連続的に移動させ、線状に成形された光を連続的に移動している基板の表面に対して斜め方向から入射させて連続的に移動する方向に対して傾いた方向に照射し、基板上の線状の光が照射された領域からの反射散乱光のうち試料の法線方向に反射散乱した光を集光することにより基板上に形成されたパターンからの低次の回折光を検出することなく反射散乱光の像を基板の連続的に移動する方向に対して傾いた方向に設置された１次元または２次元のアレイセンサ上に結像して検出し、アレイセンサで検出して得た信号を処理して試料上の欠陥を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】液晶用カラーフィルターや有機ＥＬなどのディスプレイに用いられるカラーフィルターの製造工程における、塗膜コーテングでのスリットダイの搬送方向に発生している膜厚ムラを、膜厚ムラ検査装置の測定搬送時に発生している搬送擬似ムラと容易に、区別、判別することができる装置、方法を提供する。
【解決手段】透明基板８に製膜された塗工膜の欠陥を検査する装置、方法であって、撮像用センサーカメラ９と透過照明光源１０を透明基板８の搬送方向と垂直方向にスライトさせながら透明基板８を撮像し、その画像データを短形処理により画像補正処理することによって、透明基板８の搬送方向に発生する疑似搬送ムラを容易に判別でき、膜厚ムラや濃度ムラを的確に検査できる長所を有する。 （もっと読む）

【課題】より小さい設置スペースで貼り合わせを良好に行うことができる液晶表示素子の製造システム及び製造方法を提供する。
【解決手段】パネル旋回部２００で液晶パネルＷを上下反転及び水平方向に回転させることにより、第１連続ロールＲ１及び第２連続ロールＲ２から繰り出される光学機能フィルムを平面視で直線状に配置されたフィルム搬送ラインＬ１で搬送し、かつ、フィルム搬送ラインＬ１に対して上側に位置するように重畳的に配置された平面視で直線状のパネル搬送ラインＬ２で液晶パネルＷを搬送する。フィルム搬送ラインに対して上方にパネル搬送ラインを配置し、第１連続ロールＲ１及び第２連続ロールＲ２から繰り出される光学機能フィルムを、いずれも下側から液晶パネルＷに貼り合せる。 （もっと読む）

【課題】プリント基板を斜め上下方向に搬送させる場合、ピントのぼけをなくすようにするとともに、その取り付けや取り外し作業を簡単に行えるようにする。
【解決手段】傾斜させた状態でプリント基板５を載置して斜め上下方向に搬送させるステージ２１と、ステージ２１に載置されたプリント基板５を保持する保持部３とを備えてなる外観検査装置１において、保持部３を、ステージ２１に載置されるプリント基板５の裏面によってステージ２１の平面より下方側に押圧される顎片３１と、当該顎片３１を平面の下方に押圧することによって、当該顎片３１と一体的に回動し、プリント基板５の表面をステージ２１側に押圧させる押圧片３３と、前記顎片３１をステージ２１の平面よりも上方に突出させた第一の状態と、押圧片３３によって平面上板材をステージ２１の平面に押圧させた第二の状態とに切り替える弾性体とを有するように構成する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で容易に撮像面の傾斜状態を検出可能な傾斜検出方法を提供する。
【解決手段】２つの撮像装置のそれぞれについて、撮像装置の傾斜状態を検出する傾斜検出工程と、撮像装置の傾斜を調整する傾斜調整工程と、撮像装置の位置を検出する位置検出工程と、撮像装置の位置を調整する位置調整工程と、を有し、傾斜検出工程は、均等間隔で設けられたパターンを、撮像装置の焦点位置を順次変化させて撮像し、撮像画像におけるパターン位置を検出してパターン領域を設定し、パターン領域における各画素の輝度値を検出し、検査方向に沿って画素間の輝度変化量を算出し、各パターン領域における輝度変化量の積算値を算出し、積算値が最大となる撮像画像に対応した焦点一致位置を検出し、焦点一致位置に基づいて、撮像装置の傾斜状態を検出することを特徴とする調整方法。 （もっと読む）

【課題】 不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する。
【解決手段】 基板試料を載置してＸ-Ｙ-Ｚ-θの各方向へ任意に移動可能なステージ部と、基板試料を斜方から照射する照明系と、照明された検査領域を受光器上に結像する結像光学系とを有し、該照明系の照射により前記基板試料上に発生する反射散乱光を集光する。更に、互いに異なる複数の偏光成分を同時に検出する偏光検出部を有する。更に、上記偏光検出部で検出される互いに異なる複数の偏光成分信号を複数チップ間あるいは所定領域の画像内で比較して、統計的な外れ値を試料上の欠陥として検査する。 （もっと読む）

【課題】撮像した画像を高い精度で高解像化することが可能な画像処理装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、被写体と撮像素子の相対位置を異ならせて撮像した複数の画像を合成して高画素化を行う画像処理装置において、相対位置検出手段と、画像合成手段とを備える。相対位置検出手段は、被写体と標本図形の間の相対的な位置を固定した状態が撮影された複数の画像について、前記標本図形が写る部分を比較して、前記複数の画像間の相対位置を検出する。そして、画像合成手段は、相対位置検出手段が検出した相対位置に基づいて、前記複数の画像を合成するするようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ上に形成されたチップ内の直接周辺回路部の近辺に存在する致命欠陥を高感度に検出することができる欠陥検査装置及びその方法を提供する。
【解決手段】被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系とを備えた欠陥検査装置において、前記検出光学系で取得される光学条件若しくは画像データ取得条件が異なる複数の画像データから領域毎に複数の異なる欠陥判定を行い，結果を統合して欠陥候補を検出するようにした。 （もっと読む）