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Fターム[2G051AA73]の内容

光学的手段による材料の調査の特殊な応用 (70,229) | 調査・分析対象 (8,670) | その他の電子デバイス(例;カード) (612)

Fターム[2G051AA73]に分類される特許

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【課題】検査対象パターン画像と基準パターンとの比較検査を実時間で行うこと等である。
【解決手段】検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査対象パターンを検査するパターン検査装置であって、前記データから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成する基準パターン生成手段と、前記検査対象パターン画像を生成する検査対象パターン画像生成手段と、前記検査対象パターン画像のエッジを検出するエッジ検出手段と、前記検査対象パターン画像のエッジと前記基準パターンの前記線分もしくは曲線とを比較することにより、前記検査対象パターンを検査する検査手段を備えた。 (もっと読む)


【課題】従来のパターン付き基板検査装置として、正常パターン部からの散乱光の影響による欠陥の誤検出を抑えるために、照明光はS偏光ビームであり受光部分はP偏光のみ検出する検光機能を備えた検査装置があった。しかしながら、上記従来技術では、かえって欠陥の誤検出が増えることがあることを発明者は確認した。
【解決手段】検査エリアを、検光機能が欠陥の誤検出を抑えられる領域と、抑えることができない領域に弁別し、この2つの領域を違う検査処理で検査を行うことにより、本当に検出が必要である欠陥のみを高感度で検出することが可能である。 (もっと読む)


【課題】スジ状欠陥を精度よく検出する欠陥検出方法、欠陥検出装置、および欠陥検出プログラムを提供する。
【解決手段】欠陥検出方法は、被検査物の撮像画像に対して検査対象画素を順次選定する検査対象画素選定工程、比較対象画素群を設定する比較対象画素群設定工程、最小輝度差を求める最小輝度差算出工程、および欠陥強調値を求める欠陥強調値算出工程、を有する欠陥強調処理工程と、欠陥強調値から欠陥候補画素を抽出する欠陥候補抽出工程ST31、欠陥候補画素群に外接する検査外接四角形を検出する外接四角形設定工程ST33、検査外接四角形の長辺に対する短辺の寸法比を算出する寸法比算出工程ST34、検査外接四角形に対する欠陥候補画素群の面積比を算出する面積比算出工程ST35、および寸法比および面積比に基づいてスジ状欠陥を特定する欠陥特定工程ST36を有する欠陥検出工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】半導体などの回路パターンの検査は、高感度化と高速化が絶えず追求されているが、パターンの微細化に伴い、パターンのラフネス等の違いに起因して、欠陥と正常部の識別が困難となり、検査感度が大きく不足している。
【解決手段】正常事例からなる学習データを対象に、観測データと類似したデータを探索し、探索した正常データからの乖離度の大小によって、欠陥を認識するものであり、高感度検査を実現し得る。具体的には、(1)主に正常事例からなる学習データを準備、(2)観測データと類似する学習データの部分空間を生成、(3)観測データから部分空間までの距離を算出、(4)距離の大小により欠陥かどうか判定、からなる手順により実現され、画素ごとにラフネス等に対応した、適切な感度設定が可能となる。なお、上記部分空間以外の方法にても、類似性判断を行う。 (もっと読む)


【課題】パターン形成前の検査段階において、基板コストの削減と歩留まりの向上を図ることができる基板検査装置および基板検査方法を提供する。
【解決手段】パターン形成前の基板検査において、設計データ303を利用して、検出された欠陥504がウェハ上の場所を示した検査マップ上のどの位置にあるを考慮して不良率506を計算する。また、不良率506に応じてパターンの位置を変更する情報を出力する。これにより、基板に欠陥があってもパターンに影響を与えなければ廃棄することなく、基板コストの削減を図ることができる。また、欠陥の位置を設計データ上で変更させることにより、不良率を下げて歩留まりの向上を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、温度上昇に伴って被測定物の表面応力によって生じる複屈折現象を客観的に評価することを課題とする。
【解決手段】複屈折評価装置10は、被測定物20の保持部30と、第1、第2の偏光板40,50と、光源60と、加熱部70と、温度測定器80と、応力測定器90と、照度計100と、イメージセンサ110と、記憶部120と、制御部130と、モニタ140により構成される。制御部130は、加熱部70により被測定物20を任意の設定温度に加熱すると共に、温度、応力、照度、画像データの各測定信号が入力されるのに伴って各測定信号を記憶部120の記憶させる制御処理を実行すると共に、複屈折現象の評価処理を実行する。そして、制御部130は、各設定温度毎の複屈折評価処理の結果(各測定値、画像データ、評価レベル)を各温度に対応させてモニタ140に表示する。 (もっと読む)


【課題】基板の設計データ、または同一設計で製造の複数基板の画像を得ることで、検出された欠陥データから擬似欠陥データを除去して、本来の欠陥のみを効率よく検査する。
【解決手段】欠陥データPnの座標を取得する(ステップS301)。擬似欠陥データQmの座標を取得する(ステップS302)。欠陥データPnと擬似欠陥データQmの間の距離Dを取得する(ステップS303)。距離Dが擬似欠陥判定距離しきい値d以下のとき、欠陥Pnは擬似欠陥と判定(ステップS304)。擬似欠陥であると判定された欠陥データPnを欠陥データPnから除外する(ステップS305)。擬似欠陥であると判定された欠陥データを除外する処理を、欠陥データの全て、および擬似欠陥データの全てについて総当りで実施し、擬似欠陥データの除外を行う。 (もっと読む)


【課題】感度の高い表面検査が可能な表面検査装置及び表面検査方法を提供する。
【解決手段】所定のパターンが形成されたウェハ20の表面に直線偏光L1を照射する照明部10と、ウェハ20から出射される楕円偏光を受光し、直線偏光L1と振動方向が異なる第2の直線偏光成分のみを通過させる検光子3と、ウェハ20の像の信号強度を検出し、信号強度に基づいて被検基板の表面におけるパターンが形成されている位置を検出する位置検出部8bと、パターンが形成されている位置の信号強度が最小となるように、楕円偏光及び検光子3のいずれか一方を他方に対して相対回転させ、上記位置の信号強度が最小となる楕円偏光に対する検光子3の相対位置を決定し、上記相対位置に相対回転させる回転駆動装置30と、検光子3を通過した第2の直線偏光成分を検出し、パターンを検査する表面検査部とを備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 検査員の熟練度に依存することが少なく、検査効率の良い目視検査装置及び目視検査方法と、そのような目視検査装置を備えた検査システムを提供することを課題とする。
【解決手段】 検査対象パネルにテストパターンを表示させる手段を備えたディスプレイパネルの目視検査装置であって、テストパターン記憶手段と、自動検査装置が作成した自動検査結果情報を取得する手段と、自動検査装置が検査対象パネルに存在すると判断した欠陥についてのマーカーパターンを上記取得した自動検査結果情報に基づいて作成する手段と、作成したマーカーパターンをテストパターンに重畳させる手段と、マーカーパターンが重畳されたテストパターンを検査対象パネルに表示させる手段を備えている目視検査装置及び目視検査方法、並びにそのような目視検査装置を備えた検査システム並びに目視検査方法を提供することによって解決する。 (もっと読む)


【課題】スミヤやブルーミング等を抑えて適切な検査を行い、バックライト光の範囲を調節して誤判定を抑制する。
【解決手段】被検査パネルの非点灯検査を行う非点灯検査装置である。搬送装置に臨ませて設けられ、当該搬送装置で搬送される前記被検査パネルの画像を取り込むラインカメラと、前記ラインカメラに臨ませて配置され前記被検査パネルに光を照射するバックライトと、前記搬送装置で搬送されてくる前記被検査パネルの位置を、前記ラインカメラの上流側で検知するパネルセンサと、前記バックライトからの光を制御して効率的に前記ラインカメラに入射させる光制御板と、前記被検査パネルが前記ラインカメラの視野に入るまでの設定時間後に前記バックライトを点灯させる制御部とを備えた。 (もっと読む)


【課題】体積型ホログラム層の再生光の影響を受けることなく、体積型ホログラム積層体の欠陥を精度良く安定して検出することが可能な体積型ホログラム積層体の検査方法を提供する。
【解決手段】まず照明装置41により、体積型ホログラム層11を有する体積型ホログラム積層体10に対して体積型ホログラム層11の特定波長と異なる波長の検査光L1を照射する。次に、カメラ(受光装置)42は、体積型ホログラム積層体10からの反射光L2を受光する。その後、検出装置50は、反射光L2による画像を画像処理することにより、体積型ホログラム積層体10の欠陥を検出する。 (もっと読む)


【課題】被検査物のパターンを検査して求めた欠陥を再検査するレビュー動作の時間を短縮できる撮像検査装置を提供する。
【解決手段】被検査物(109)と被検査物(109)を撮像走査して欠陥を検出する検査光学系(103)をX方向に相対移動させる検査光学系移動機構(107)と、被検査物と欠陥の周辺のみを撮像するレビュー光学系(104)をX方向に相対移動させつつ、検査光学系(103)とレビュー光学系(104)をX方向と直交するY方向に相対移動させるレビュー光学系移動機構(105)と、検査光学系移動機構(107)とレビュー光学系移動機構(105)を運転する制御機構(300)を有し、制御機構(300)が、検査光学系(103)の撮像走査中にレビュー光学系(104)を制御して欠陥の周辺を撮像させる。 (もっと読む)


【課題】照明光を短波長化しなくても、確実に繰り返しピッチの微細化に対応できる表面検査装置および表面検査方法を提供する。
【解決手段】被検基板20の表面に形成された繰り返しパターンを直線偏光L1により照明する手段13と、表面における直線偏光L1の振動面の方向と繰り返しパターンの繰り返し方向との成す角度を斜めに設定する手段11,12と、繰り返しパターンから正反射方向に発生した光L2のうち、直線偏光L1の振動面に垂直な偏光成分L4を抽出する手段38と、偏光成分L4の光強度に基づいて、繰り返しパターンの欠陥を検出する手段39,15とを備える。 (もっと読む)


【課題】基板上に塗布された着色膜に生じる微小な濃度変動を光学フィルターによって強調することでS/N比を向上させ、きわめて小さな濃度変動の良否判定を行う基板検査装置および基板観察装置を提供すること。
【解決手段】撮像素子をもつカメラ22と、基板を把持するステージと、ステージ後方から基板を照明する照明手段24と、カメラのシャッターを制御する制御手段と、カメラの撮像レンズ又は/及び照明手段の前面に、基板の光透過率の低い波長域のみを透過する光学フィルター21と、カメラから得られた画像を蓄積、保存する記録手段と、画像を元に良否判定を行う判定手段とを有すること。 (もっと読む)


【課題】被検査物が複雑な形状である場合でも、精度よく欠陥を検出することができる欠陥検出方法および欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】欠陥検出方法は、撮像工程により被検査物を撮像し、エッジ検出工程により得られた画像データに基づいてエッジを検出し、追跡方向設定工程により、検出されたエッジに対して、始点および終点を設定し、エッジに沿って始点から終点に向かうエッジ追跡方向を設定する。この後、角度変化算出工程により、エッジ上の各画素位置における角度変化量を算出し、総和算出工程により、始点から所定画素位置までの角度変化量の総和を、各画素位置に対して算出する。そして、欠陥検出工程により、被検査物に対して算出される前記角度変化量の総和と、所定の基準パターンに対して算出される角度変化量の総和とを比較して、欠陥を検出する。 (もっと読む)


【課題】カラーフィルタなどの大型表示デバイスを製造する場合に検査の信頼性を向上し欠陥製品の得意先への流出を防止すること。
【解決手段】表示デバイスの出荷前にマクロ検査機にて目視による最終的な品質検査を行う目視検査システムであって、
各マクロ検査機での検査結果情報を格納する検査結果格納手段と、
各検査結果情報を総合的に判定するための判定条件を格納する判定条件格納手段と、
判定条件格納手段に格納されている判定条件を参照しながら、検査結果格納手段から収集した各検査結果情報を総合的に判定して、判定結果を各マクロ検査機に表示させる検査結果判定手段とを備えることを特徴とする目視検査システム。 (もっと読む)


【課題】検出信号を検査位置によらず所望の強度分布にする。
【解決手段】検査領域に対してスリットまたは複数の照明を用いてまたは走査可能な照明を用いて、照明強度を任意の形状に整形することによって、欠陥検査に使用する被検査対象からの信号強度を容易に所望の分布とし、検査領域における検査信号の強度むらを低減させ、欠陥検出性能を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】欠陥を誤って検出することが少ない欠陥検出装置及び欠陥検出方法を提供する。
【解決手段】欠陥検出部108は、エッジ強度を算出するエッジ強度算出部110,112,114と、エッジの方向を角度で表現した特徴量を算出する特徴量算出部116,118,120と、2個のエッジ強度が条件を満たすか否かを判定するエッジ強度判定部124,126と、2個の特徴量の差の絶対値が特徴量差閾値を超える場合に画素を欠陥画素と判定する特徴量差判定部128,130とを備える。欠陥検出部108は、2個のエッジ強度が条件を満たすエッジ部において特徴量を比較し、2個の特徴量の差の絶対値が大きい場合に画素を欠陥を撮像した欠陥画素と判定する。 (もっと読む)


【課題】乾燥前の塗布膜であっても塗布ムラを検出することができ、塗布工程直後から塗布ムラを検出することができる塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ塗布液を吐出することにより基板上に塗布膜を形成する塗布ユニットと、基板上に形成された塗布膜に対し、特定の照射パターンの光を出力する照射部と、塗布膜の表面で反射された反射光を受光する受光部と、受光部によって受光された反射光の受光パターンと、特定の照射パターンとを比較することにより、塗布膜の形成状態の良否を判断する制御装置とを備える塗布装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】液晶パネルの欠陥検査技術において、異物混入に起因する欠陥を精度高く検出する技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る検査装置1は、表偏光板10、検査対象の液晶パネル20、裏偏光板30およびバックライト40を、表偏光板10側から撮像して検査用画像60を取得し、検査用画像60および欠陥を精度よく検出するための視角特性情報を用いて液晶パネル20の検査を行う。上記視角特性情報は、検査装置1が、表偏光板10、標準として用いる液晶パネル20’、裏偏光板30およびバックライト40を、表偏光板10側から撮像して第1画像を取得するとともに、表偏光板10およびバックライト40を表偏光板10側から撮像して第2画像を取得し、第1画像および第2画像に基づいて生成したものである。 (もっと読む)


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