【課題】不良と判定される欠陥を内在する半導体基板のウェハプロセスにおける製造効率を向上させ、良品率を向上させる。
【解決手段】ウェハ１を搬送してウェハ支持台４へ載置するための搬送装置３と、該ウェハ支持台４の位置を可変制御する駆動装置１４と、該ウェハ１が載置される前記支持台４の位置の可変制御により、ウェハ１の上部に配設される照射光８を前記ウェハ１表面に走査させながら照射する光照射部６と該光照射部６に照射光８を供給する光源７と、前記ウェハ１表面からの散乱光９を検出する第１受光検出部１３とウェハ１の透過光を検出する第２受光検出部１０と、該受光検出部からの信号を受けて演算処理する演算部１１と該演算部１１からの信号を受けて画像として出力するモニター１２とを含む半導体基板の欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】金属製部品及びプラスチック製部品の表面及び内部に存在する微細なキズ、バリを、画像処理技術を用いて検知する検出装置において、目視検査を超える検出精度、検出速度を有し、かつ従来の画像処理技術を使用する自動検出装置を超える検出精度を有する検出装置、及び検出方法を提供する。
【解決手段】検査部品と全く同じ形状の無欠陥標準部品とを、全く同じように回転、傾動、停止させる機構を有し、停止させるごとに両部品の画像を撮影するカメラを有し、撮影を効果的に行うための照明を有し、撮影した両部品の画像をコンピューター上で重ね合わせて比較する処理を行う画像処理コンピューターを有し、両部品の画像の不一致をキズ、バリとして表示するモニターを有する検出装置により、金属製部品及びプラスチック製部品の表面及び内部に存在する微細なキズ、バリを検出する。 （もっと読む）

【課題】マーキング装置の動作遅延と、印刷物の搬送速度を考慮して、位置精度良く欠陥位置にマーキングすることが可能な印刷物欠陥検査におけるマーキング信号制御方法を提供する。
【解決手段】基材に印刷された印刷物を検査し、欠陥を検出した場合にマーキング装置により欠陥位置にマーキングを行うための印刷物欠陥検査におけるマーキング信号制御方法であって、マーキング装置の動作遅延時間と印刷物の搬送速度から、マーキング信号を得てからマーキングするまでのマーキング装置の動作遅延時間内の印刷物の搬送量を求め、予め設定した検査位置からマーキング装置までの距離を示す固有遅延量から前記マーキング装置の動作遅延時間内の印刷物の搬送量を減算して本来遅延すべき遅延量を求め、前記本来遅延すべき遅延量に基づいてマーキング装置を動作させることを特徴とする印刷物欠陥検査におけるマーキング信号制御方法。 （もっと読む）

【課題】検査装置で欠陥検出の行いやすい画像を得られるように、従来のリング照明に替わって、照明光が方向によらず一定の強さであり、検査する物体に対して均一に照明され、光が効率的に利用できるような照明装置を提供すること。
【解決手段】狭い波長幅の平行光を発する照明光源と、平行光で照明すると円環形状に広がる回折光を発する第１ホログラムと、１点から拡がる光で照明すると特定の範囲に収束する回折光を発する第２ホログラムと、を有する照明装置であって、
照明光源からの平行光が第１ホログラムに入射して回折され、円環形状の回折光として第２ホログラムに入射し、第２ホログラムから発し収束する回折光が対象物を照明するように配置されている。 （もっと読む）

【課題】ウエハの構造や欠陥がばらついて適切な波長が変化しても欠陥を精度よく検出でき、かつ、スループットが速いパターン検査装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、パターン検出装置は、光を発生する光源と、前記光をラインビームに整形してウエハ上に照射する集光器とを備える。さらに、前記装置は、前記ウエハで反射した前記ラインビームを分光する分光器を備える。さらに、前記装置は、前記分光器により分光された前記ラインビームを検出し、前記ラインビームのスペクトル情報を保持する信号を出力する二次元検出器を備える。さらに、前記装置は、前記ウエハ上の繰り返しパターンの対応箇所から得られた前記スペクトル情報を比較する比較部と、前記スペクトル情報の比較結果に基づいて、前記ウエハの欠陥の有無を判定する判定部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 より高い精度で紙葉類を処理することが出来る紙葉類処理装置、及び紙葉類処理方法を提供する。
【解決手段】 一実施形態に係る紙葉類処理装置は、紙葉類を搬送する搬送手段と、搬送される前記紙葉類に対して光を照射する照明手段と、前記紙葉類から画像を取得する画像取得手段と、搬送される前記紙葉類の深度と前記照明手段から放射される光の照度分布とに基づいて予め算出される補正係数を格納する補正係数格納手段と、前記補正係数により、前記画像取得手段により取得された前記画像を補正する補正処理手段と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ上を検査装置により検出した欠陥座標の観察と，ユーザにより指定された座標の検査を行う場合に，スループットの低下しない欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ上の座標であって、システマティック欠陥が発生し得る座標である危険点座標と検査結果から取得した半導体ウェハ上の座標である欠陥検査座標と、前記危険点座標と前記欠陥検査座標とを座標の種類を示す情報を付加した上でマージし、マージした座標の検査順序を決定し、マージした座標の種類を示す情報を用いて選択し、検査すべき座標ごとに複数の検査装置から検査方法を選択して検査を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】
表面検査装置では、より粒径の小さいＰＳＬを使用することで、より小さい欠陥を検査することが可能となる。しかし、ＰＳＬの粒径は、有限である。このことから、従来の表面検査装置では、近い将来に半導体製造工程の検査で必要となるＰＳＬに設定の無いほど小さい粒径の欠陥をどのように検査するかということに関しては配慮がなされていなかった。
【解決手段】
本発明は、被検査物体で散乱，回折、または反射された光の、波長，光量，光量の時間変化、および偏光の少なくとも１つを模擬した光を発生する光源装置を有し、前記光を表面検査装置の光検出器に入射させるより微小な欠陥を検査することができる。 （もっと読む）

【課題】
繰り返しパターンと非繰り返しパターンとが混在する被検査対象基板に対して、微小な異物または欠陥を高速で、しかも高精度に検査できる欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】
異物付着防止手段１８０は、透明基板１８７が枠１８５を介して載置台３４の上に設置される。異物付着防止手段１８０はベース１８６上に固定された２本の支柱１８４に回転可能に支持されたシャフト１８１がカップリング１８３でモータ１８２に連結されている。そして、２本に支柱１８４の間で、枠１８５の一部にシャフト１８１が挿入され、枠１８５及び透明基板１８７がシャフト１８１を中心として回動できるように構成されている。つまり、枠１８５全体がシャフト１８１を軸としてＺ方向に開閉する構造になっており、枠１８５及び透明基板１８７により、載置台３４上のウェハ１を覆うことができる。 （もっと読む）

【課題】出力結果を読み取った画像と検査用画像とを比較することによる画像の検査において、モノクロ出力の場合や画像にスキューが発生している場合であっても画像の位置あわせを可能とすること。
【解決手段】検査用画像に含まれる形状のコーナーを抽出して検査用画像と読み取り画像との位置合わせ用の基準点として設定するマスター画像生成部４０２と、読み取り画像に含まれる形状のコーナーを抽出して検査用画像と読み取り画像との位置合わせ用の基準点として設定し、検査用画像について設定された基準点の位置と読み取り画像について設定した基準点の位置との差異に基づいて検査用画像と前記読み取り画像との位置合わせを行った後に、検査用画像と読み取り画像とを比較して検査を行う比較検査部４０５とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 反射画像と透過画像とを同時に同じ位置で撮影することができる太陽電池セル検査装置を提供する。
【解決手段】 半導体ウエハ２の第一面に向かって可視光を照射する第一照射部４と、半導体ウエハ２で反射した可視光を受光することにより、半導体ウエハ２の反射画像を取得する第一撮像部５と、半導体ウエハ２の第一面に対向する第二面に向かって赤外光を照射する第二照射部６と、半導体ウエハ２を透過した赤外光を受光することにより、半導体ウエハ２の透過画像を取得する第二撮像部７と、反射画像及び透過画像に基づいて、半導体ウエハ２に欠陥があるか否かを判定する判定部２１ｄとを備える太陽電池セル検査装置１であって、第一撮像部５及び第二撮像部７との間に配置されるビームスプリッタ１１を備え、ビームスプリッタ１１は、設定波長未満の光を第一撮像部５に導くとともに、設定波長以上の光を第二撮像部７に導くことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】連続的に走行するシートに発生するキズ欠点を高精度に検査できる検査装置を提供する。
【解決手段】ライン状光線を照射する光照射手段と、前記ライン状光線の一部を受光する受光手段と、前記受光手段で受光した信号に応じてキズ欠点を検出する画像処理手段とを備え、かつ、前記光照射手段と前記受光手段とを同時に、シートと平行を維持した状態で回転させる回転手段を設けることを特徴とするシートにおけるキズ欠点検査装置、とすることにより、連続的に走行するシートに発生する欠点を高精度に検出することができる。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴ基板の材質に依らず、配線やガラスなどのパターン材質の差異を、明瞭に顕在化する欠陥検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板の配線を通電することにより発熱する短絡欠陥を赤外カメラで検出する欠陥検査装置であって、ＴＦＴ基板に赤外線を照射する赤外線源と、ＴＦＴ基板の基準画像を保持する記憶部と、前記赤外カメラで得られた赤外画像と前記基準画像とのマッチングを行う画像処理部とを備え、前記赤外線源は、前記ＴＦＴ基板から見て前記赤外カメラと同じ側に設置されることを特徴とする欠陥検査装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】照明光学系を用いた検査で表面の透明薄膜状異物を容易に検査することができる表面異物検査方法を提供する。
【解決手段】白色光光源３からウエーハ１０の上面に白色光を照射し、前記ウエーハ１０の前記上面のうち前記白色光が照射される領域内に透明異物１２ａが存在する場合に、透明異物１２において光干渉による暗部を生じさせる入射角θで単色光を単色光光源４から前記ウエーハ１０に照射し、前記ウエーハ１０の前記上面のうち前記単色光の前記暗部において反射する白色光と、前記上面において反射する前記単色光を共通の受光素子５で受光することを特徴とする表面異物検査方法。 （もっと読む）

【課題】パターン化位相差フィルムの欠陥を精度よく検出する。
【解決手段】投光機１１と撮影装置１２との間に、第１及び第２偏光板１３，１５を配置する。第１及び第２偏光板１３，１５の間に、検査対象のパターン化位相差フィルム２０を配置する。撮影装置１２側でフィルム２０と第２偏光板１５との間にλ／４波長板１４を配置する。第２偏光板１５を回転させて、第１偏光板１３の透過軸をフィルム２０の光学軸に対し４５°傾けた状態で、第２偏光板１５の透過軸を前記λ／４波長板１４の光学軸に対して＋４５度にした第１状態で撮影装置１２により第１画像を撮影する。第２偏光板１５の透過軸をλ／４波長板１４の光学軸に対して−４５度にした第２状態で撮影装置１２により第２画像を撮影する。第１画像と第２画像とを第１及び第２位相差領域が一致する位置で重ね合わせて合成する。得られた合成画像に基づき欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】パターン化位相差フィルムの欠陥を精度よく検出する。
【解決手段】パターン化位相差フィルム１２を挟んで第１，第２偏光板１８，１９が配される。各偏光板１８，１９は、クロスニコル配置とされる。パターン化位相差フィルム１２には、遅相軸がほぼ直交する第１位相差領域１４，第２位相差領域１５が交互に配されている。光源部１６は、第１偏光板１８を介してパターン化位相差フィルム１２に検査光を照射し、撮影装置１７は、パターン化位相差フィルム１２，第２偏光板１９を透過する光を受光して輝度画像を撮影する。第１位相差領域１４の遅相軸Ａｓ１と第１偏光板１８の偏光透過軸Ｐ１とをほぼ平行となる状態で、正常な第１位相差領域１４と第２位相差領域１５の各輝度が同じレベルとなるように偏光透過軸Ｐ１の方向を調整する。 （もっと読む）

【課題】 着火確認法を用いなくとも、微小ギャップを原因とした点火源の発生を確認可能とする。
【解決手段】 供試体に対して電流を付与し局所放電の有無を確認するための局所放電の可視化試験法である。供試体は、板状の複合材と、複合材の少なくとも一方の主面から外周面の一部が露出するように複合材に取り付けられたファスナと、ファスナを挟むように複合材の両端部に取り付けられた一対の電極と、複合材の少なくとも一方の主面及びファスナの外周面を覆うように複合材に取り付けられた透明樹脂とを備えている。複合材とファスナとの間の微小ギャップを、透明樹脂を介してカメラによって撮影した状態で、一対の電極を介して電流を付与し、複合材及びファスナに電流を通過させることで、微小ギャップでの点火源の有無を撮影する。 （もっと読む）

【課題】ステージ上で大きく撓むようなマスク基板の欠陥を高精度に検出できるようにする。
【解決手段】マスク基板の対向する二辺を検査テーブル手段の基板支持部となる傾斜面に載置すると共にマスク基板の下面にエア浮上ステージ手段からエア噴流を吹き付けることによってマスク基板が撓まないようにする。さらに、マスク基板の対向する二辺の上面側からエア噴流を吹き付けてマスク基板の下側辺を傾斜面に押し付け、マスク基板の二辺を検査テーブル手段に固定的にエア挟持させる。マスク基板の下面にエア噴流を吹き付けることでマスク基板の撓みを矯正することができ、基板検査装置は撓みの矯正されたほぼ平面状のマスク基板の欠陥を高精度に検出することができる。 （もっと読む）

【課題】検査の定量性を確保するとともに、作業効率を改善するフォトマスク洗浄システムを提供する。
【解決手段】フォトマスクを洗浄する洗浄装置と、フォトマスクに付着している異物を検出する異物検出手段を有し洗浄装置により洗浄されたフォトマスクを検査する検査装置と、検査装置による検査結果に基づいてフォトマスクに異物が付着している箇所を再生部位として指示する指示手段を有し当該フォトマスクを再生する再生装置と、洗浄装置、検査装置および再生装置との間でフォトマスクを運搬する運搬装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】従来技術では、欠陥の寸法を得ることは開示している。しかし、欠陥の寸法をより正確に得るためには、基板からの光を検出するセンサの状態を考慮しなければならないことについては、配慮が成されていない。
【解決手段】本発明は、上記の課題に配慮してなされたものであり、基板からの光を検出するセンサの中から、欠陥の寸法を得るために好適な部分を選択し、さらに前記好適な部分に対応させて基板を移動させることを特徴とする。 （もっと読む）