【課題】疑似位相整合型の波長変換光学素子におけるフォトリフラクティブ効果を抑制し得る手法を提供し、同効果に起因した問題を解決可能なレーザ装置等を提供する。
【解決手段】レーザ装置ＬＳは、レーザ光を出力するレーザ光出力部１と、レーザ光出力部から出力されたレーザ光を波長変換して出力する波長変換部３とを備える。波長変換部３には、波長λのレーザ光を波長λ／２のレーザ光に波長変換する疑似位相整合型の波長変換光学素子３１を備え、この波長変換光学素子３１の入射面及び出射面の少なくともいずれかに、波長がλ〜λ／ｎ（ｎ≧３）の光の反射率を低減する反射率低減コーティングが施されて構成される。 （もっと読む）

【課題】バーコードの外観不良を簡易に検査できるバーコード外観検査システム等を提供する。
【解決手段】バーコード外観検査システムの画像処理装置の制御部は、カメラで撮影されたバーコード６の撮影画像データを取得し、バーコード６のバー配列方向の両端部のエッジ６５の位置と、バー配列方向の両端部の近傍におけるバー長さ方向の両端部のエッジ６７ａ、６７ｂの位置を算出する。続いて、これらエッジ６５、６７ａ、６７ｂの位置に基づきバーコード６の中心座標等を演算して求め、これに基づきバーコード６の欠陥検出領域を生成する。次に、この欠陥検出領域において、バー長さ方向の微分フィルタ演算と演算結果の２値化を行い、バーコード６の汚れ６１、抜け６３等の欠陥領域を検出する。いずれかの欠陥領域の面積が所定値以上の場合に、画像処理装置の制御部は、バーコード６に外観不良があると判定する。 （もっと読む）

【課題】検査感度を向上させることができるパターン検査装置、パターン検査方法、およびパターンを有する構造体を提供する。
【解決手段】本実施形態によれば、被検査体に形成されたパターンの光学画像に基づいて第１の検出データを作成する第１の検出データ作成部と、前記パターンに関する第１の参照データを作成する第１の参照データ作成部と、前記第１の参照データの出力レベルが前記第１の検出データの出力レベルに対応したものとなるように出力レベルの変換を行う第１の階調変換部と、前記第１の検出データと、前記出力レベルの変換が行われた前記第１の参照データと、の差を演算する第３のレベル差演算部と、前記第３のレベル差演算部による演算結果に基づいて、欠陥の有無を判定する第５の判定部と、を備えたことを特徴とするパターン検査装置が提供される。 （もっと読む）

【目的】マスクに形成されたパターン自体の位置精度の均質性を検査可能な検査装置を提供する。
【構成】検査装置１００は、離散的な領域を撮像した際に取得されたそれぞれの光学画像中の図形の寸法と、対応する参照画像中の図形の寸法との間での第１の位置ずれ量を用いて、被検査領域全体における第１の位置ずれ量マップを作成するマップ作成回路１３１と、検査領域全体を撮像した際に取得されたそれぞれの光学画像中の図形の寸法と、それぞれ対応する参照画像中の図形の寸法との間での第２の位置ずれ量を用いて、被検査領域全体における第２の位置ずれ量マップを作成するマップ作成回路１３２と、第２の位置ずれ量マップを、第１の位置ずれ量マップと第２の位置ずれ量マップとの第１の差分マップで補正した第３の位置ずれ量マップに定義される各値のうち、許容値を超える値の有無を判定する判定回路１５６と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面に細かな凹凸を有する部材であってもその表面の欠陥を検出できる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】被検査対象Ｓの表面の欠陥を検査する装置であって、被検査対象Ｓに向けて光を放出する投光手段１０と、被検査対象Ｓの表面において反射した光を受光する受光素子21sを備えた撮影手段２０と、を備えており、投光手段１０は、光源１１と、光源１１と被検査対象Ｓとの間に設けられた、光源１１から被検査対象Ｓに照射される光を制限する遮光部材１５と、を備えており、遮光部材１５は、光源１１から放出される光を通過させるスリット15hを備えており、スリット15hは、被検査対象Ｓの表面が平坦面である場合において、該スリットを通過して前記被検査対象の表面で反射する光の光軸方向と前記撮影手段の受光部の光軸方向とが同軸となるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】 不良の太陽電池パネルについて低下した出力電力の推定値を算出する太陽電池アレイの検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】 複数の太陽電池パネル１０を含む太陽電池アレイの検査方法であって、太陽電池アレイに直流電源６を接続して通電し、太陽電池アレイの太陽電池パネル１０の画像を取得し、画像を解析して指標を算出し、指標に対する太陽電池パネル１０の出力特性を用いて太陽電池パネル１０の出力電力の推定値を算出し、算出した推定値に基づいて太陽電池パネル１０を交換すべきか否か判断する。 （もっと読む）

【課題】１台のカメラで検査対象物の複数箇所の画像を取得しながらも、検査時間の短縮が可能な画像処理装置を提供する。
【解決手段】制御部１５は、エリア画像内において互いに離間した複数の領域を抽出領域とするように設定データを決定し、設定記憶部１３に書き込む。画像取込部１１１は、これら複数の抽出領域の全てについてカメラ２から部分画像を取り込み、抽出領域ごとに部分画像を記憶部１１２に記憶する。これにより、記憶部１１２には、各抽出領域について、時間経過に伴って取り込まれた複数の部分画像が記憶されることになる。画像生成部１１４は、抽出領域ごとに複数の部分画像を時系列に沿って並べて二次元画像を生成し、画像記憶部１１５に二次元画像を抽出領域ごとに記憶する。 （もっと読む）

【解決手段】
プリプレグ材１の欠陥認識方法は、第１横断クロスライン４ｂを、プリプレグ材１内の欠陥領域２の境界の始まり３ｂに引く。第２横断クロスライン４ｅは、欠陥領域２の境界の終わり３ｅに同様に引かれる。クロスライン４ｂ、４ｅは、プリプレグ材１の移動方向５に対して、角度αを形成する。
欠陥領域２の始まり及び終わりを区切る、各横断クロスライン４ｂ、４ｅは、識別コードＢ_ｉ、Ｅ_ｉを有している。 （もっと読む）

【課題】公差を統計学的に意味を持つ値として客観的に設定するために、予め良品を選別しておく必要が無く、作業者の能力に依存しない検査プログラムを提供する。
【解決手段】コンピュータに、同一仕様の複数の対象物のうち所定数から個別に取得されたデジタル画像群について、同一座標をもつ画素毎に特性の統計量を算出して暫定良画素範囲を作成する第一の統計ステップと、前記デジタル画像群をメモリに記憶する記憶ステップと、記憶された前記デジタル画像群における各画像に対して画素毎に前記特性が暫定良画素範囲に属するか否かを判定する仮判定ステップと、記暫定良画素範囲に属すると判定された画素毎に前記特性の統計量を算出して設定良画素範囲を作成する第二の統計ステップと、対象物から取得されるデジタル画像に対して画素毎に前記特性が設定良画素範囲に属するか否かを判定する本判定ステップとを実行させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 修理ラインで直すことができる欠陥と製造ラインを止めなければならない欠陥であるかを判定できる表示デバイス（５０）の欠陥検出方法を提供する。
【解決手段】 表示デバイスの欠陥検出方法は、表示デバイスを部分領域ごとに特徴量を計測し（Ｐ３２）、計測された領域の特徴量に基づいて欠陥領域と判定された領域をカウントする欠陥カウントステップ（Ｐ３６）と、欠陥カウントステップで第１閾値より欠陥数が多い場合には表示デバイスの製造ラインを停止するステップ（Ｐ３８，Ｐ４２）と、欠陥カウントステップで第１閾値より欠陥数が少ない場合に所定面積内の欠陥密度を計算する欠陥密度計算ステップ（Ｐ３８）と、欠陥密度計算ステップで第２閾値より欠陥密度が高い場合には表示デバイスの製造ラインを停止するステップ（Ｐ４０，Ｐ４２）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ウェハ上の欠陥によって散乱される光は非常に弱く、その微弱光を高速かつ高感度に測定する検出方法としてはＰＭＴやＭＰＰＣがある。上記検出方法では、微弱光を光電変換して、電子を増倍する機能があるが、光電変換の量子効率が５０％以下と低いため、信号光を損失し、Ｓ／Ｎ比を低下させるという課題がある。
【解決手段】そこで、本発明では、光電変換をする前に直接光を増幅する光増幅に着目した。光増幅とは、信号光と励起用光源の光とを希土類を添加したファイバに導入し、誘導放出を起こして信号光を増幅する増幅方法である。本発明は、この光増幅を利用することを特徴とする。また、本発明は、この増幅率を様々な条件により変えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板上に電子部品が実装されているか否か等、被検査面における被検査対象物の存否を的確に検査できる欠品検査方法を提供する。
【解決手段】被検査面（基板２１上面）における被検査対象物２２の存否をカメラ１１で取り込んだ輝度情報によって検査する欠品検査方法であって、被検査対象物２２の表面と被検査面（基板２１上面）とのうち、いずれか一方の面をその面からの反射光３２がカメラ１１に入射しにくい凹凸面２２ｂとする。他方の面は、その面からの反射光３２がカメラ１１に入射しやすい平坦面とする。被検査対象物２２の存否によってカメラ１１の撮像画像の輝度に大きな高低差が生じるようにする。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウェーハ等の板状部材の外周エッジ部を適切に検査することを可能とした表面検査装置を提供する。
【解決手段】 半導体ウェーハ検査装置１０は、半導体ウェーハ１００の外周エッジ部分１０１に対向して配置される撮像レンズ２２と、撮像レンズ２２を介して半導体ウェーハ１００の外周端面に対向して配置される撮像面２４と、半導体ウェーハ１００の第１外周ベベル面１０１ｂの像を撮像レンズ２２を介して撮像面２４に結像させるミラー１２と、半導体ウェーハ１００の第２外周ベベル面１０１ｃの像を撮像レンズ２２を介して撮像面２４に結像させるミラー１４と、半導体ウェーハ１００の外周端面１０１ａの像を撮像レンズ２２の中央部を介して撮像面２４に結像させる補正レンズ２６と、外周端面１０１ａより第１外周ベベル面１０１ｂ及び第２外周ベベル面１０１ｃの方が明るくなるように、これらを照明する照明ライトガイド灯光部１８とを有する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬパネルの欠陥検査を行うに際して、有機層の成膜直後に成膜の不具合を検知することを可能にする。
【解決手段】有機層１２に検査光２Ａを照射する光源２を基板１０に対して斜めに向けて配置し、検査光２Ａが入射しない位置に有機層１２を撮像する撮像手段３を配置し、検査光２Ａの照射によって有機層１２から発せられる光を撮像手段３にて検出し、撮像手段３によって得られる有機層１２の撮像信号に基づいて欠陥を検査する。 （もっと読む）

【課題】白米又は玄米試料が供給されると、コンピューターシステムが自動的に試料の外観品位を判別して、その個数及び構成割合を表示する、白米等の外観品位の判別において、数十個の試料を連続的に供給しても、それぞれの試料一粒ずつの品位を判別することができる、白米等の外観品位を測定する方法を提供すること。
【手段】試料台の上に置かれた白米等をカメラで撮影する工程と；原画像をフレームグラバーによってRGB又はYUVモデルに該当するデータ形態で保存する工程と；保存された画像を二進化する工程と；二進化された画像を等高線形の2次元画像を作る工程と；前記2次元画像を3次元化して、境界線を抽出する工程と；前記境界線を基準にして接している白米等の画像を分離し、それぞれの画像に対してラベリングをする工程と；ラベリングされた各画像を分析して完全米、粉状質の米、屑米、ひびわれ米、着色米等の中の一つ以上の割合及び個数を判定する工程とからなることを特徴とする白米及び玄米の外観品位測定方法。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能で、光の透過率の高い薄い異物やシワ等を原因とするシール不良の検出も可能な高精度のシール検査装置を提供する。
【解決手段】本実施形態に係るシール検査装置１は、内容物を密封した包装袋７０の袋口シール領域７７のシール不良を検査するシール検査装置１において、シール後の包装袋７０をその袋口シール領域７７が検査場所５０を通過するように案内するガイド部材３０と、検査場所５０にコリメート光を照射するための光源１０と、検査場所５０に位置する袋口シール領域７７の表面に対して略垂直な方向において、光源１０と同じ側に設置された、袋口シール領域７７からの反射光を撮像する撮像装置２０と、撮像装置２０が撮影した撮像画像に基づいて、袋口シール領域７７においてシール不良が発生していないか判定する制御手段４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】撮像装置により撮像された画像のコントラストを高め、視認性を向上させる。
【解決手段】基板を撮像し、当該撮像された基板画像の画素値を変換する画像処理の方法において、撮像された基板画像の画素値をヒストグラム化し、ヒストグラムにおける画素値の分布に基づいて、所定の振幅、所定の周期の三角関数からなるトーンカーブＴを作成する。トーンカーブＴにより、撮像された基板画像の画素値を変換することで、高コントラストな基板画像を得る。 （もっと読む）

【課題】検査の労力を低減することが可能なハニカム構造体の検査方法、製造方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】端面に複数の貫通孔であるセル７０ａが開口したハニカム構造体７０の検査方法において、Ｓ１３の工程により端面の外周から一定範囲のセル７０ａが不完全セル７０ｉｍｐとして検査対象から除外される。ハニカム構造体７０の端面の外周から一定範囲のセル７０ａは、ハニカム構造体外周部付近であるために正規の形状から大きく歪んだ不完全な物が多く、詳細な検査対象から省くことが省力化につながると考えられる。そこで、Ｓ１４〜Ｓ１６の処理において、Ｓ１３によって検査対象から除外された不完全セル７０ｉｍｐ以外のセル７０ａについての検査を行なうことにより、ハニカム構造体７０の検査の労力を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】マスクブランクに存在する位相欠陥とＥＵＶＬ用マスクを製造した後に残存する位相欠陥との両方を感度良く検出する方法を提供する。
【解決手段】マスクブランクを検査する場合は、中心遮蔽ＮＡ以内で大きい照明ＮＡを有するＥＵＶ光を照射し、ＥＵＶＬ用マスクを検査する場合は、ＥＵＶ光を遮蔽する中心遮蔽部と、中心遮蔽部の直径よりも小さい幅を有し、ＥＵＶ光を遮断する線状遮蔽部とをその瞳面に有する暗視野結像光学系を用いて、線状遮蔽部の幅と同じ照明ＮＡまたは線状遮蔽部の幅よりも小さい照明ＮＡを有するＥＵＶ光を照射する。 （もっと読む）

【課題】光学フィルムの製造時、発生する欠陥を検出し、それにより製品の予想歩留まりを算出するためのフィルムの歩留まり予測システム及び方法を提供する。
【解決手段】歩留まり予測システムは、光学フィルムの製造工程中、特定段階を遂行中の光学フィルム上の欠陥を検出し、検出された欠陥の位置を含む第１の欠陥データを生成する第１の検査部と、前記特定段階と区別される前記製造工程中の他の段階を遂行中の前記光学フィルム上の欠陥を検出し、検出された欠陥の位置を含む第２の欠陥データを生成する第２の検査部と、前記第１の欠陥データ及び前記第２の欠陥データを併合するデータ併合部と、前記データ併合部で併合された欠陥データにより、前記光学フィルムの予想切削の位置及び切削のサイズによる前記光学フィルムの予想歩留まりを算出する歩留まり予測部とを含む。 （もっと読む）