【課題】
半導体等の製造工程で用いられる欠陥検査において、微弱な欠陥散乱光をもとに高速に検査するためにはゲインの高い検出器が必要であるが、一般的な検出器、典型的には光電子増倍管ではゲインを高くするに従い、暗電流ノイズが大きくなり、欠陥検出感度が低下する。
【解決手段】
試料からの反射散乱光を検出する検出光学系に複数の検出器を備え、弱い背景散乱光量を検出する検出器で画素数の少ない光子計数型検出器を適用するとともに、強い背景散乱光量検出する検出器で画素数の多い光子計数型検出器か、あるいはアナログ型の検出器を適用し、更に光子計数型検出器の適用によって発生する散乱光検出強度の非線形性を補正して欠陥散乱光検出信号を補正する。 （もっと読む）

【課題】 ウェハを検査する際の下地の影響を低減させた検査装置を提供する。
【解決手段】 検査装置１は、複数種の波長を有する照明光でウェハを照明する照明部３０と、照明光により照明されたウェハを撮影する撮影部４０と、複数種の波長毎に所定の重み付けを行って撮影部４０により撮影されたウェハの検査用撮影像を生成するとともに、生成した検査用撮影像に基づいてウェハにおける欠陥の有無を判定する画像処理部２７とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】暗視野式（散乱光検出式）半導体ウェハ検査においては、パターンの微細化と共に欠陥信号も微弱化し、かつ欠陥種類により散乱光の方向特性も異なるため、これらを有効に検出する必要がある。
【解決手段】平面内で移動可能なテーブルに載置した表面にパターンが形成された試料上の線状の領域に試料の法線方向に対して傾いた方向から照明光を照射し、この照明光が照射された試料から発生した散乱光の像を複数の方向で検出し、この散乱光の像を検出して得た信号を処理して試料上の欠陥を検出する欠陥検査方法及びその装置において、散乱光の像を複数の方向で検出することを、光軸が前記テーブルの前記試料を載置する面の法線と前記照明光を照明する線状の領域の長手方向とが成す面に直交する同一平面内における異なる仰角方向でそれぞれ円形レンズの左右を切除した長円形レンズを介して検出するようにした。 （もっと読む）

【目的】インテグレータレンズによって形成される複数の集光点に起因した光学素子の劣化を回避可能な検査装置を提供することを目的とする。
【構成】パターン検査装置１００は、レーザ光を発生する光源１０３と、レーザ光を入射し、入射されたレーザ光を分割して光源群を形成するインテグレータレンズ２０６と、インテグレータレンズの入射面の手前に配置され、インテグレータレンズに入射するレーザ光を散乱させる散乱板２０４と、インテグレータレンズを通過したレーザ光を照明光として用いて、複数の図形パターンが形成された被検査試料におけるパターンの欠陥を検査する検査部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学異方性を有するフィルムについて、その欠陥を抽出するとともに、欠陥の種類を正確に判別するためのフィルム検査システム等を提供する。
【解決手段】フィルム検査システム１では、光学補償フィルム１０を、偏光板５１ａを介した照明光を照射した状態で、ラインセンサ３ａで偏光板３１ａを介して撮像するとともに、偏光板５１ｂを介した照明光を照射した状態で、ラインセンサ３ｂで偏光板３１ｂを介して撮像する。偏光板３１ａと偏光板５１ａ、偏光板３１ｂと偏光板５１ｂの偏光方向は略直交し、偏光板３１ａの偏光方向と光学補償フィルム１０の配向方向とは略４５°の角度をなし、偏光板３１ｂの偏光方向と光学補償フィルム１０の配向方向とのなす角度は、９０°から所定角度ずらしたものである。画像処理装置７は、ラインセンサ３ａ、３ｂで光学補償フィルム１０を撮像した画像データ２０ａ、２０ｂを基に欠陥候補の検出と欠陥種類の判別を行う。 （もっと読む）

【課題】ウエハの構造や欠陥がばらついて適切な波長が変化しても欠陥を精度よく検出でき、かつ、スループットが速いパターン検査装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、パターン検出装置は、光を発生する光源と、前記光をラインビームに整形してウエハ上に照射する集光器とを備える。さらに、前記装置は、前記ウエハで反射した前記ラインビームを分光する分光器を備える。さらに、前記装置は、前記分光器により分光された前記ラインビームを検出し、前記ラインビームのスペクトル情報を保持する信号を出力する二次元検出器を備える。さらに、前記装置は、前記ウエハ上の繰り返しパターンの対応箇所から得られた前記スペクトル情報を比較する比較部と、前記スペクトル情報の比較結果に基づいて、前記ウエハの欠陥の有無を判定する判定部とを備える。 （もっと読む）

【課題】無害模様の表面状態が一定しない場合でも、無害模様を誤検出することなく被検査体表面の欠陥を検出すること。
【解決手段】本発明の表面欠陥検出装置１は、被検査体２に照射された照明光の反射光を受光して、被検査体２の表面画像を撮像する撮像部４と、撮像部４の光学条件を規定する偏光子５および検光子６の相対的角度を変更する偏光角調整部１２と、撮像部４が撮像した被検査体２の表面画像を評価する画像モニター１０と、画像モニター１０による評価に従い検光子６の角度を入力する偏光角修正入力部１１とを備える。 （もっと読む）

【課題】パターン化位相差フィルムの欠陥を精度よく検出する。
【解決手段】パターン化位相差フィルム１２を挟んで第１，第２偏光板１８，１９が配される。各偏光板１８，１９は、クロスニコル配置とされる。パターン化位相差フィルム１２には、遅相軸がほぼ直交する第１位相差領域１４，第２位相差領域１５が交互に配されている。光源部１６は、第１偏光板１８を介してパターン化位相差フィルム１２に検査光を照射し、撮影装置１７は、パターン化位相差フィルム１２，第２偏光板１９を透過する光を受光して輝度画像を撮影する。第１位相差領域１４の遅相軸Ａｓ１と第１偏光板１８の偏光透過軸Ｐ１とをほぼ平行となる状態で、正常な第１位相差領域１４と第２位相差領域１５の各輝度が同じレベルとなるように偏光透過軸Ｐ１の方向を調整する。 （もっと読む）

【課題】パターン化位相差フィルムの欠陥を精度よく検出する。
【解決手段】投光機１１と撮影装置１２との間に、第１及び第２偏光板１３，１５を配置する。第１及び第２偏光板１３，１５の間に、検査対象のパターン化位相差フィルム２０を配置する。撮影装置１２側でフィルム２０と第２偏光板１５との間にλ／４波長板１４を配置する。第２偏光板１５を回転させて、第１偏光板１３の透過軸をフィルム２０の光学軸に対し４５°傾けた状態で、第２偏光板１５の透過軸を前記λ／４波長板１４の光学軸に対して＋４５度にした第１状態で撮影装置１２により第１画像を撮影する。第２偏光板１５の透過軸をλ／４波長板１４の光学軸に対して−４５度にした第２状態で撮影装置１２により第２画像を撮影する。第１画像と第２画像とを第１及び第２位相差領域が一致する位置で重ね合わせて合成する。得られた合成画像に基づき欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】ステージ上で大きく撓むようなマスク基板のクロム膜等のピンホール欠陥を高精度に検出する。
【解決手段】基板の表面にクロム膜等のマスクパターンが存在すると、基板の表面へ照射された光線はそのマスクパターンの形状や欠陥によって散乱され、基板の表面側の周囲にのみ散乱光が発生するようになり、基板の裏面側に透過する光線は存在しない。一方、このマスクパターンにピンホールが存在する場合、そのピンホールのエッジにて散乱した光の一部は基板の表面側で周囲に散乱光として発生すると共にそのピンホールを介して基板の内部へ透過し、基板裏面側の周囲に散乱光として発生することになる。これらの基板の表面及び裏面で検出された散乱光を、基板の表面側及び裏面側に配置された散乱光受光手段でそれぞれ受光することによって、ステージ上で大きく撓むようなマスク基板のクロム膜のピンホールを高精度に検出する。 （もっと読む）

【課題】結晶粒界や光学系のムラによる画像の濃淡差が発生しても内部クラックを検出することの出来るシリコンウエハ検査方法および装置を提供する。
【解決手段】赤外照明光を円偏光フィルタを用いて円偏光し、シリコンウエハに対して照射する。シリコンウエハ表面，および裏面での反射光は偏光方向が反転するため，円偏光フィルタを透過することは出来ない。
一方，内部にクラックなどの欠陥があれば照明光は乱反射するため無偏光となり，円偏光フィルタを透過することが出来るため，カメラにて撮像が可能である。このため，クラック等の欠陥で乱反射した照明光のみを撮像し画像処理装置で検出することで，クラック等の欠陥の有無を検出することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 透明な物体の表面に付着した微小な異物、及び透明な物体の表面の微小な欠陥を精度良く検出することができる観察装置を提供する。
【解決手段】 表面観察装置は、光源装置、偏光変換装置、ハーフミラー、レンズ、受光モジュール、回路基板、筐体、処理装置などを備えている。受光モジュールは、偏光フィルタ１５１、マイクロレンズアレイ１５３、イメージセンサなどを有している。そして、偏光フィルタ１５１の＋Ｚ側の面とマイクロレンズアレイ１５３との間隙Ｄｉｎｔは、マイクロレンズアレイ１５３におけるレンズピッチＰｍｌ以下となるように設定されている。 （もっと読む）

【課題】物体表面における凹凸の分布の偏りやムラの状態を精度良く検出する。
【解決手段】散乱光を、Ｐ偏光成分１６とＳ偏光成分１８とに分離するウォラストンプリズム１０と、分離されたＰ偏光成分１６およびＳ偏光成分１８のそれぞれの検出画像から算出される強度比相関パラメータの値に基づいて、物体５６の表面の性状を判断する画像解析部５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】検査対象物（例えば半導体パターン）の微細化により、検査すべき欠陥の大きさも微小化し、欠陥からの散乱光の強度が大幅に減少するが、このような欠陥からの微小な散乱光を検出するのに適した欠陥検査装置および方法を提供する。
【解決手段】表面にパターンが形成された試料１００に光を照射するレーザ光源１１１を備える照明光学系１１０ａと、前記照明光学系により照明された該試料から発生する光を検出するセンサ１２６を備える検出光学系１２０と、前記検出光学系により検出された光に基づく画像から欠陥を抽出する信号処理手段２５０と、を備え、前記検出光学系にて光を検出する間に前記センサの増幅率を動的に変化させることを特徴とする欠陥検査装置である。 （もっと読む）

【課題】開口部が周期的に形成されている半導体ウェハを検査することができる検査装置、検査方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様にかかる検査装置は、一方の面に開口部１４が周期的に形成された半導体ウェハ１０の検査装置であって、半導体ウェハ１０の一方の面と反対側の他方の面の法線から傾斜した入射方向３１に向けて光を出射し、他方の面を照明可能な照明装置２２と、照明装置２２から入射方向に出射された光の正反射方向の近傍位置に配置され、照明領域の長手方向に沿って配列された受光画素で半導体ウェハ１０からの光を受光する検出器２３と、半導体ウェハ１０と照明領域の位置を相対移動して走査を行うステージ２１と、を備えた検ものである。 （もっと読む）

【課題】簡素化を図りつつ、対象物を短時間で高精度に検査することができる。
【解決手段】撮像手段１１と対象物Ｔとの間に光軸Ｏに交差する方向に向けて光線Ｌを放射する光源１２と、光源１２から放射された光線Ｌを撮像手段１１の光軸Ｏ方向に沿って対象物Ｔ側に向けて反射するハーフミラー１３と、ハーフミラー１３と対象物Ｔとの間に光軸Ｏと同軸に配置され、外周面１４ａにハーフミラー１３により反射された光線Ｌが入射する円錐状または円錐台状の内ミラー部材１４と、内ミラー部材１４よりも大径の円錐台状の孔部１５が光軸Ｏと同軸に貫設され、孔部１５の内周面１５ａに内ミラー部材１４の外周面１４ａにより反射された光線Ｌが入射する外ミラー部材１６とを備え、外ミラー部材１６は、内ミラー部材１４の外周面１４ａから孔部１５の内周面１５ａに入射した光線Ｌを、対象物Ｔの外周面Ｔ１に垂直に入射するように反射する検査装置１０を提供する。 （もっと読む）

【課題】ユーザそれぞれが、自身がその存在を感得しているレシピについて、他のユーザがその存在を含めた設定内容を感得できないように、そのレシピの存在自体も含めてレシピの設定内容を隠蔽しておくことができる検査装置及びその隠蔽方法を提供する。
【解決手段】ユーザそれぞれが、自身の閲覧設定画面５００上でその存在を感得しているレシピについて、他のユーザがその存在を含めた設定内容を感得できないように他のユーザを隠蔽先に含む隠蔽ＩＤ情報を生成するレシピ隠蔽情報作成機能部１１６と、ユーザそれぞれの閲覧設定画面５００を表示する際、隠蔽ＩＤ情報ファイル２４０に格納されている隠蔽ＩＤ情報に基づいて、ユーザそれぞれの閲覧設定画面５００の生成のためのレシピ表示情報を作成する表示情報作成機能部１２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】乾麺におけるクラックの発生を事前に予測することができる乾麺のクラック発生予測装置を提供する。
【解決手段】光源部１のハロゲンランプ４から発せられた光が円偏光フィルタ５で円偏光に変換されると共にコンデンサレンズ６で集光されて試料Ｓに照射され、試料Ｓを透過した光が対物レンズ７で平行光に変換された後、楕円偏光解析器８を通してＣＣＤカメラ９に到達し、試料Ｓの複屈折性に起因して試料Ｓを透過する際に生じた位相差をコントラストに変換した位相差像がＣＣＤカメラ９で取得される。位相差像のデータに基づき、予測部３で、試料Ｓが有する複屈折位相差量が計測されると共に計測された複屈折位相差量から試料Ｓ内の残留応力の大きさが評価され、評価された残留応力の大きさに応じて、試料Ｓにおけるクラック発生の有無が予測される。 （もっと読む）

【課題】パターン検査装置の製造コストを削減しつつコントラストの高い検査画像を取得する。
【解決手段】パターン検査装置の画像取得部１３は、光照射部１３１、ラインセンサ１３２、角度変更機構、および、検査対象であるウエブ９を搬送する搬送機構を備える。光照射部１３１からは、ウエブ９の薄膜パターンに対して透過性を有する波長の光が出射される。光照射部１３１からの光の照射角θ１およびラインセンサ１３２により撮像が行われる検出角θ２は、常に同じであり、これらの角度は角度変更機構により変更される。パターン検査装置では、予め検査画像のコントラストが高くなる照射角および検出角の設定角度が求められ、照射角および検出角が設定角度とされる。これにより、単一波長の光源を用いてラインセンサ１３２によりコントラストの高い検査画像を取得することができ、パターン検査装置の製造コストも削減することができる。 （もっと読む）

【課題】被測定物の状態によらず、高い検出感度を得るための調整が容易であり、検出感度の劣化要因となる照明光の発生を防ぐことが可能な照明装置、および光学装置を提供すること。
【解決手段】一定の領域１を照明するように構成され、光源として複数のＬＥＤを有し、その複数のＬＥＤと一定の領域１との間に、互いに異なる偏光方向１５、２５、３５をそれぞれ有する複数の偏光子１２、２２、３２を有し、複数のＬＥＤは、それぞれ数個〜十数個のＬＥＤからなる複数のＬＥＤ群１０、２０、３０に分割して駆動することができるように構成され、各ＬＥＤ群の出射光はそれぞれ１つの偏光子のみを通過するように構成されている。 （もっと読む）