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Fターム[2G051BB01]の内容

光学的手段による材料の調査の特殊な応用 (70,229) | 照明用光学系 (5,008) | 特定の配置、方向 (2,004)

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【課題】整列状態にあることが要求される物品の列について、整列状態を乱す物品の位置ずれ、欠落、倒れなどの種々の整列不良を検出することを可能とする。
【解決手段】物品の列が整列状態にあるかどうかを検査する方法であって、準備工程では、整列状態にある物品a〜aの列Pに対しその物品の列を列方向の全幅にわたって切断するような帯状の光Rを照射して各物品a〜aの表面に各物品の輪郭に沿う光切断線Lを生成するとともに、その光切断線Lを撮像して基準となる画像を取得する。検査工程では、検査対象の物品b〜bの列Pに対し同じ帯状の光Rを照射するとともに、前記準備工程で撮像した光切断線の生成位置に対応する位置に生成された光切断線Lを撮像して検査対象画像を取得した後、その検査対象画像を前記基準となる画像と照合して、検査対象の物品b〜bの列Pが整列状態にあるかどうかを判別する。 (もっと読む)


【課題】透光性を有する容器の欠陥を光学的に検査する際に、光源からの光が容器の表面で反射してできる映り込みを低減し、高い検査精度と高い搬送効率とを両立する容器の検査装置を提供する。
【解決手段】検査装置12では、ガラス壜11が、第1モータ33及び第2モータ34によりそれぞれ異なる速度で回転する搬送ベルト31,32に挟持された状態で、回転しながら検査用通路20に沿って搬送される。また、検査装置12は、検査エリアIAに沿って配列されたN個(但しNは2以上の自然数)の発光部24aを有するLED光源24と、検査エリアIAを搬送されるガラス壜11を撮像するカメラ25と、カメラ25が撮像した画像に基づいてビリB等の欠陥の有無を判定する判定部とを備える。N個のうちガラス壜11の搬送位置に対応するM個(但しMはN未満の自然数)の発光部24aの発光位置が、ガラス壜11の搬送に追従して移動する。 (もっと読む)


【課題】フィルムの蛇行とカールとを監視し、未塗工不良や塗工不良の発生や、塗工のエッジ部分に発生する塗工抜け不良を検出することを可能とし、更にシワの発生を検出可能としたフィルム検査装置を提供する。
【解決手段】長尺のフィルムに塗液を塗工する工程でフィルムを検査する装置であって、塗工部の直後に設けられ、第一の端辺と第一の塗工エッジを検出するための第一の検出部と、第二の端辺と第二の塗工エッジを検出するための第二の検出部と、第一の端辺と第一の塗工エッジの位置算出部と、第二の端辺と第二の塗工エッジの位置算出部と、フィルムの蛇行またはカールの発生を判別する蛇行・カール判別部と、塗工エッジに発生した塗工抜け不良を判別する塗工抜け不良判別部と、硬化処理される硬化処理部の直後に設けられた第三の検出部と第四の検出部と、第三の端辺位置算出部と第四の端辺位置算出部と、を備えたことを特徴とするフィルム検査装置。 (もっと読む)


【課題】検査に必要な画像データを、撮影条件を変更しながら複数回撮影することにより、適正な画像データを用いた高精度な検査装置を得る。
【解決手段】撮影条件の異なる複数の画像を撮影する撮像手段2と、撮像手段2の撮影画像を複数の領域に分割して符号化する符号化手段3と、符号化手段3の符号化データを複数画像分だけ格納する記憶手段4と、記憶手段4に格納された符号化データを送信する送信手段5と、送信手段5からの符号化データを復号する復号手段9と、復号手段9により復号された画像から被写体の検査を行う検査手段10と、検査手段10からの検査命令および送信命令に応答して記憶手段4内の符号化データを検査手段10へ送信する制御手段6とを備える。検査手段10は、記憶手段4に格納された符号化データのうち、複数の画像データの中から任意の領域を指定して送信させる。 (もっと読む)


【課題】 リファレンス画像に基づき印刷した印刷物を検査する際に、印刷物を読み取った印刷画像とリファレンス画像との位置合わせを行うと、リファレンス画像によっては位置合わせの精度が低い場合があり、検査精度が低下する。
【解決手段】 リファレンス画像と印刷画像との位置合わせを行って印刷物の検査を行う処理、または、位置合わせを行わずに印刷物の検査を行う処理を、リファレンス画像の特性に基づいて選択する。 (もっと読む)


【課題】プリント配線板に反りが生じた場合にも、検査ポイントを不良箇所に合わせて表示する。
【解決手段】電子部品が実装された配線基板5の外側縁5aを支持する支持部6と、検査対象となる電子部品を撮像する撮像装置7と、配線基板5の法線方向に拡散し、検査対象となる電子部品について設定された要検査部位を通過する扇状の第1の光線を斜め上方から照射する第1の照射装置8aと、配線基板5の法線方向に拡散し、電子部品の要検査部位を通過する扇状の第2の光線を斜め上方から照射する第2の照射装置8bとを備え、第1の光線と第2の光線とが交叉することにより、配線基板5の検査ポイントPを示す。 (もっと読む)


【課題】露光装置より照射されたフォトマスクに垂直な平行光を被照射体に傾斜させて出射する構造を有し、一度の露光で複数の角度の斜め露光を行うことのできるフォトマスク、の欠陥やパターン形状を評価するための検査方法および検査装置を提供すること。
【解決手段】フォトマスク表面の特定の位置をその位置のフォトマスク部位に対応する斜め角度の平行光で照明することにより、フォトマスク表面に垂直な出射光を得られるか否かの検査を、照明するフォトマスク表面の位置を変えつつ順次繰り返し、フォトマスクの有効面内からの撮像された画像情報を累積して評価することにより検査結果を判定する。 (もっと読む)


【課題】検査対象物が大きくなっても、同じ撮像条件で得られた画像情報に基づいて膜厚むらの検査ができ、微妙な膜厚むらに対しても精度の高い検査ができる装置を提供する。
【解決手段】表面に皮膜が形成された検査対象物10の、皮膜形成面の少なくとも一部を撮像し、得られた画像情報に基づいて検査対象物上の皮膜の膜厚むらを検査する膜厚むら検査装置であって、検査対象物又は撮像部4の少なくとも一方を移動させる移動部2と、移動中に撮像部で撮像された所定範囲の画像を移動位置毎に移動位置情報を付加して登録する画像登録部と、移動位置情報が付加された所定範囲の画像を移動位置の順に並べ全体画像として合成する画像合成部と、合成された全体画像の画像情報に基づいて検査対象物の色むらを検出する色むら検出部とを具備し、撮像部で撮像された画像の所定範囲は、撮像部に対して同じ角度で観察された範囲であることを特徴とする膜厚むら検査装置。 (もっと読む)


【課題】貼り合せ板状体における板状体の縁端と接着剤の縁端との間の間隔を比較的容易に検査することのできる貼り合せ板状体検査装置を提供する。
【解決手段】ラインセンサカメラ50と、照明手段51と、照明手段51により照明がなされている状態で貼り合せ板状体10を走査するラインセンサカメラ50から出力される映像信号を処理する処理ユニットとを有し、処理ユニットは、映像信号に基づいて画素単位の濃淡値からなる検査画像情報を生成する検査画像情報生成手段と、検査画像情報から得られる第1板状体11の縁端を横切る検査ライン上の濃淡値プロファイルに基づいて、検査ライン上での第1板状体11の縁端と接着剤13の縁端との間隔を表す縁端間距離情報を生成する縁端間距離情報生成手段とを有し、縁端間距離情報に基づいた検査結果を提供する。 (もっと読む)


【課題】より小型または簡単な構成で、より精度よく、半導体ウェハの表面に存在するソーマークの検出又は大きさの測定を行うことが可能な技術を提供する。
【解決手段】半導体ウェハWの表面に対して斜め方向から、入射面において平行光である光を照射し、ラインセンサカメラ3、4で半導体ウェハWの表面におけるライン状の領域3aを撮影する。このことで、半導体ウェハWの表面からの照射光の反射光または散乱光を検出し、この強度に基づいて、半導体ウェハWの表面における線状の凹凸を検出し、またはその大きさを測定する。光源装置1、2によって、ラインセンサカメラ3、4によって撮影されるライン状の領域3aのラインに平行な方向から光を照射し、線状の凹凸の方向がラインの方向に直交するように配置された状態で、半導体ウェハWの線状の凹凸を検出し、またはその大きさを測定する。 (もっと読む)


【課題】
表面の異物や傷欠陥だけでなく基板の局所的な厚さの変化による欠陥まで検出することを可能にする。
【解決手段】
ガラス基板検査装置を、ガラス基板を透過した光を検出する第1の欠陥検出光学系と、ガラス基板を透過した光によりガラス基板の表面又は内部で発生した散乱光を検出する第2の欠陥検出光学系と、第1の検出光学系で検出した信号と第2の検出光学系で検出した信号とを処理する信号処理手段とを備えて構成し、信号処理手段は、第1の検出光学系手段からの検出信号を入力して処理することによりガラス基板の局所的な厚さの変化に起因する欠陥を検出し、第2の検出光学系手段からの検出信号を入力して処理することによりガラス基板の欠陥を検出するように構成した。 (もっと読む)


【課題】シート材の少なくとも一方の表面にパイル(毛羽)を有する場合であっても、精度の高いシート材の検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】シート材の検査装置は、シート材を搬送する搬送部と、搬送部によって搬送されてきたシート材を照明する下部照明と、シート材を挟んで下部照明と対向する方向から、対向する方向を挟んで互いに隣接する2箇所からシート材を照明する一組の上部照明と、下部照明と上部照明とによって照明されているシート材を撮影するラインカメラと、ラインカメラによって撮影した撮影画像を画像処理する画像処理部と、画像処理部によって画像処理した結果に基づいてシート材の欠陥を検出する欠陥検出部と、欠陥検出部による欠陥の検出結果に基づいてシート材の良否を判定する良否判定部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】撮像デバイス用フォトマスクや表示デバイス用フォトマスクの様に周期性のあるパターンを持つ被検査体のムラ欠陥を検出するためのムラ検査装置および方法の照明照射条件の最適化を課題とする。
【解決手段】基板面に周期性パターンが形成された基板を検査対象とし、前記基板に照明光を異なる複数の照射角度で照射し、周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査するムラ検査方法であって、パターン形状から周期成分を抽出し、被検査体である周期性パターンの最適な検査条件を算出する。 (もっと読む)


【課題】透明基板に形成される透明導電体のパターン形状を容易かつ正確に検査することができる導電体パターン検査装置及び導電体パターン検査方法を提供する。また、重ね合わされる複数の透明導電体の相対的位置精度を高めることができる基板の位置合わせ装置を提供する。
【解決手段】透明基板表面に形成される透明導電体のパターン形状を検査する導電体パターン検査装置であって、前記透明基板及び前記透明導電体から放射される赤外線の放射量分布を撮像してパターン形状画像として取得する画像取得手段を備える導電体パターン検査装置。 (もっと読む)


【課題】オペレータが表面検査装置を調整する際に、基準板等の特殊な道具を用いることなく、調整を容易に行うことが可能な調整データを出力する。
【解決手段】調整部51の分散値算出部11は、カメラ3のレンズ位置を所定位置に設定するための位置指令をレンズ位置設定部12に出力し、レンズ位置設定部12から所定位置への移動の完了を入力すると、カメラ3から反射光の強度を入力し、反射光の強度の分布に基づいて分散値を算出する。最大位置決定部13は、分散値算出部11からレンズ位置及び分散値を入力し、全てのレンズ位置及びそれに対応する分散値を得た後、全ての分散値のうち分散値が最大となるレンズ位置を最大レンズ位置として決定する。調整データ出力部14は、レンズ位置、反射光の強度の分布、分散値及び最大レンズ位置を調整データとして出力する。 (もっと読む)


【課題】シート状の基材上に形成された薄膜パターンの画像を取得する際に、検出角を容易に変更する。
【解決手段】画像取得装置1は、中心軸Kを中心とするドラム11を有し、ドラム11の回転により外側面111に沿ってウエブ9が搬送される。画像取得装置1は、中心軸Kに平行な線状の撮像領域90に向けて光を出射する光照射部21と、撮像領域90からの光をラインセンサにて受光する受光部23とをさらに有し、光照射部21および受光部23は移動機構4により中心軸Kに垂直、かつ、互いに交差する2方向に移動する。移動機構4を制御することにより、受光部23の光軸J2とウエブ9の法線Nとのなす検出角θ2が変更されるとともに、光軸J2上においてラインセンサの受光面と共役なフォーカス位置Pが薄膜パターン上に配置される。このように、受光部23を2方向に移動する移動機構4のみにより、検出角θ2を容易に変更することができる。 (もっと読む)


【課題】暗視野式(散乱光検出式)半導体ウェハ検査においては、パターンの微細化と共に欠陥信号も微弱化し、かつ欠陥種類により散乱光の方向特性も異なるため、これらを有効に検出する必要がある。
【解決手段】平面内で移動可能なテーブルに載置した表面にパターンが形成された試料上の線状の領域に試料の法線方向に対して傾いた方向から照明光を照射し、この照明光が照射された試料から発生した散乱光の像を複数の方向で検出し、この散乱光の像を検出して得た信号を処理して試料上の欠陥を検出する欠陥検査方法及びその装置において、散乱光の像を複数の方向で検出することを、光軸が前記テーブルの前記試料を載置する面の法線と前記照明光を照明する線状の領域の長手方向とが成す面に直交する同一平面内における異なる仰角方向でそれぞれ円形レンズの左右を切除した長円形レンズを介して検出するようにした。 (もっと読む)


【課題】異常パターンの弁別性を向上した欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】光源と、干渉制御部と、検査装置本体と、を備えた欠陥検査装置が提供される。前記光源は、可干渉光を放射する。前記干渉制御部は、分散部と、選択部とを有し、前記光源から放射された光の可干渉性を制御して、照明光として出力する。前記検査装置本体は、前記照明光を被検査体に形成されたパターンに照射して、前記被検査体の欠陥を検査する。前記光源から放射された光の進行方向を第1の方向とし、前記第1の方向に垂直な方向を第2の方向としたとき、前記分散部は、前記光源から放射された光を波長に応じて前記第2の方向に拡張して波長分散させる。前記選択部は、前記分散部により波長分散された光を選択的に透過させる。 (もっと読む)


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