【課題】受光部のフォーカス調整を容易に行う。
【解決手段】画像取得装置は、ガラス基板９上における線状の撮像領域を撮像する撮像ユニット２と、ガラス基板９を撮像領域と交差する方向に移動する移動機構とを備える。撮像ユニット２は、光照射部２１および受光部２３を有し、光照射部２１により撮像領域に光が照射され、撮像領域からの光が受光部２３のラインセンサへと導かれる。画像取得装置では、受光部回動機構が受光部２３を回転することにより受光部２３の光軸Ｊ２とガラス基板９の法線Ｎとのなす検出角θ２が変更される。撮像ユニット２は、光軸Ｊ２に沿って受光部２３を移動する受光部移動機構をさらに備え、検出角θ２の変位量に基づいて受光部移動機構を制御することにより、光軸Ｊ２上においてラインセンサの受光面と共役な位置Ｐがガラス基板９の表面に配置される。これにより、受光部２３のフォーカス調整が容易に行われる。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴ基板の材質に依らず、配線やガラスなどのパターン材質の差異を、明瞭に顕在化する欠陥検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板の配線を通電することにより発熱する短絡欠陥を赤外カメラで検出する欠陥検査装置であって、ＴＦＴ基板に赤外線を照射する赤外線源と、ＴＦＴ基板の基準画像を保持する記憶部と、前記赤外カメラで得られた赤外画像と前記基準画像とのマッチングを行う画像処理部とを備え、前記赤外線源は、前記ＴＦＴ基板から見て前記赤外カメラと同じ側に設置されることを特徴とする欠陥検査装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】電子部品などに設けたアライメントマークを撮影画像から検出できない場合でも、表示パネルへの電子部品などの取付状態の検査が行えるようにする。
【解決手段】被検査対象となる表示パネルと電子部品又は電子部品搭載基板との接続部を、表示パネルの面に対してレンズの光軸をほぼ直交させた配置として、照明光を投射させて撮影する。そして、撮影して得た画像の輝度を検出する。その検出した輝度値が第１の輝度値の箇所を、電子部品又は電子部品搭載基板の電極部と判別する。また、検出した輝度値が第２の輝度値の箇所を、表示パネルの電極部と判別する。そして、判別した第１の輝度値の箇所と第２の輝度値の箇所との中間の点から、第１の輝度値または第２の輝度値が連続する長さを、接続部の接続状態の評価値とする処理を行う。 （もっと読む）

【課題】プリント回路基板上における測定対象物の測定方法を提供すること。
【解決手段】複数のカラー照明をプリント回路基板に照射して複数のカラーイメージを取得し、取得された前記カラーイメージを利用して彩度情報(ｓａｔｕｒａｔｉｏｎ)を生成し、前記彩度情報を利用して半田領域を抽出すること、を含むことを特徴とする半田領域の測定方法。これらを通じて半田領域を設定することによって、半田領域の測定精度を向上させることができる。 （もっと読む）

【目的】より高精度に光軸調整がなされたレーザ光で検査可能なパターン検査装置を提供する。
【構成】パターン検査装置１００は第１から第４象限の面で独立に受光するフォトダイオードアレイ２１２が受光したレーザ光の光量を用いて、レーザ光と供に発生するノイズ成分光の発生方向を特定するノイズ方向特定回路１２８と、レーザ光の光量を用いて、ノイズ成分光の光量を演算するノイズ光量演算回路１３０と、ノイズ成分光の発生方向の重心値の絶対値がノイズ成分光の光量をレーザ光の総光量で除した値になり、ノイズ成分光の発生方向と直交する方向の重心値が０になるように、ミラー２０２，２０４の反射面の位置を制御するミラー制御部１２１，１２２と、光軸が調整されたレーザ光を用いて、被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部１５０と、参照画像を入力し、光学画像と参照画像とを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】部品およびはんだに対する３次元計測結果に基づく検査の結果や検査対象部位の状態を、ユーザが容易に確認できるような表示を行い、検査結果の確認作業を支援する。
【解決手段】基板上の部品およびはんだに、それぞれ異なる手法の３次元計測を実施し、それぞれの計測により得た３次元情報をはんだ付け部毎および種別毎に読出可能に蓄積する。そして、これらの蓄積情報に基づき、はんだ付け部位毎に部品とはんだとの関係を表す画像を生成し、この画像を含む画面を検査結果の確認用の画面として表示する。好ましい確認用画面では、はんだの３次元情報が表す立体形状を部品のはんだへの接合面の近傍位置で切断した場合に得られるはんだの断面を正面として、このはんだの断面と部品との関係を示す画像（ＹＺ図またはＸＺ図）が表示される。 （もっと読む）

【課題】検査対象が偏光などの光学的性質を持たない場合であっても、その検査対象について厚みムラ、歪み、うねりなどに起因する光学ムラを高感度で検出できる装置の提供
【解決手段】この発明は、検査対象３の透過光に応じた画像を撮像し、その画像の輝度変化に基づいて検査対象３の光学ムラを検出する光学ムラ検査装置である。そして、検査対象３の一方の面側に配置され検査対象３に光を照射する光源５と、検査対象３の他方の面側に配置され検査対象３を透過した光に応じた画像を撮像する撮像手段１と、を備えている。さらに、光源５と撮像手段１とはそれぞれの光軸７、８が交差角度θ１（θ１≠０）で交差するように配置し、かつ、撮像手段１は光源１の光軸８の回りの異なる複数の位置から撮像するようにした。 （もっと読む）

【課題】 基板を検査するにおいての所要される時間を節減することができ、空間を確保することのできる検査装置を提供する。
【解決手段】基板上に形成された測定対象物の良否を判断する検査装置はワークステージ部、光学モジュール及び光学モジュール移送部を含む。光学モジュール移送部は光学モジュールの上部に配置されて光学モジュールと結合され、光学モジュールを移送する。それにより、基板を検査するに所要される時間を節減することができ、空間を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】被検査物の表面形状に左右されずに十分な表面検査を行うことができる表面検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置１は、被検査物であるシリンダライナ１００の外周面１０１に対して斜め方向に第１検査光１１を照射するとともに、垂直方向に第２検査光１２を照射し、ターンテーブル５にてシリンダライナ１００を回転させつつ、各検査光１１、１２の照射部位２１、２２をデジタルカメラ４で撮像して外周面１０１を検査するものである。 （もっと読む）

【課題】ピングリッドアレイパッケージ基板の製造のためのリードピン検査装置及びこれを利用したリードピン検査方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態によるリードピン検査装置は、リードピンが挿入されるピン挿入孔を有する整列板、前記整列板に対向されて前記リードピンを撮影する撮影機構、前記撮影機構の周辺に沿って配置され、前記ピン挿入孔に挿入された前記リードピンに向けて光を照射する照明機構、前記照明機構を駆動させる照明駆動機、そして前記照明機構によって照射された光が前記リードピンから反射されて前記撮影機構に向けるように、前記照明駆動機を制御する制御機を含む。 （もっと読む）

【課題】周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ欠陥を検出するためのムラ検査方法の、映り込みの発生を抑制して、有効な検査範囲の拡大、良好な欠陥の検出が可能な照明角度を選択できるようにすること、また照明角度の制限を減らすことによって、ムラ欠陥と正常部との画像コントラストの向上、結果的にムラ検出能力の向上に寄与すること。
【解決手段】周期性パターンが形成された基板に、照明光を複数の角度で斜めに照射し、前記周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査するムラ検査方法であって、被検査体である周期性パターンとそれ以外の周辺パターンとの位置関係と、照明投光角度から、映り込みの生じる位置を予測し、映り込みが無い位置でムラ検査を実施することができる検査装置。 （もっと読む）

【課題】周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ欠陥を検出するためのムラ検査装置および方法において、映り込みの発生を抑制して、有効な検査範囲の拡大、良好な欠陥の検出が可能な照明角度を選択できるようにすること、また照明角度の制限を減らすことによって、ムラ欠陥と正常部との画像コントラストの向上が期待でき、結果的にムラ検出能力を向上すること
【解決手段】基板表面に周期性パターンが形成された基板を検査対象とし、前記基板に照明光を複数の照射角度で照射し、前記周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査するムラ検査方法であって、前期周期性パターンとそれ以外の周辺パターンとの位置関係と、照明光の照射角度から、映り込みが生じる位置を予測することにより、映り込みが生じない位置で検査することを特徴とする周期性パターン検査方法。 （もっと読む）

【課題】周期性のあるパターンにおいて、回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによってパターン描画装置の状態監視を実施できるパターン描画装置の状態監視方法を提供する。
【解決手段】描画装置によって周期性パターンが形成された基板に照明光を斜め入射し、周期性パターンにより生じる回折光を用いて画像取得を行い、処理判定を行うパターン描画装置向け状態監視方法であって、前記周期性パターンのパターン情報入力工程と、位置決め工程と、パターンピッチと撮像分解能の関係から撮像倍率を決定するための撮像倍率設定工程と、デフォーカス工程と、デフォーカスさせた位置において、前記基板の周期性パターンを撮像し被処理画像を取得する撮像工程と、前記基板上で発生しているむら欠陥の発生周期を求めるむら欠陥周期算出工程と、前記基板上で発生しているむら欠陥が描画装置起因のものであるかどうかの判定を行う判定工程とを具備する。 （もっと読む）

【課題】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡等で詳細に観察する装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ装置規模を小さくできる装置を提供する。
【解決手段】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布フィルタを挿入する構成とする。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造で、所定の深度範囲を一括して照明可能なミラーユニットおよびこれを備えた孔内検査装置を提供することを課題とする。
【解決手段】撮像カメラに周設したリング照明の照射光を、撮像カメラの光軸上に所定の深度範囲を存して集光するミラーユニットであって、光軸と同軸上に配設され、照射光を反射するコーン状のミラー部を備え、ミラー部は、周方向において照射光の角度が段階的に変化するように並べた扇状の複数のミラー片部を有したミラーユニットを提供する。 （もっと読む）

【課題】微細パターンを有する製品のパターン計測を含めた検査のために照明光によるパターン画像を撮像する方式の検査装置において、簡便に検査領域外からの光の外乱影響を除去する検査装置を提供すること。
【解決手段】平面基板２ａを載置するステージ１と、このステージに載置された平面基板の被検査物２ｂを照明する光源７と、被検査物を撮像する撮像装置８とを備えるパターン検査装置であって、平面基板に略平行に近接して設けられた液晶シャッター４を備え、この液晶シャッターが、被検査物の検査対象領域３に応じて、遮光領域５と透光領域６とを可変分割形成できるものである。 （もっと読む）

【課題】 物体の欠陥を検出するための方法および装置を提供する。
【解決手段】 物体２０を透過する波長の光５０を照射することによって物体２０を局部的に照明するステップ１０と、直接透過した照射光の部分４８の検出を少なくとも部分的に回避しつつ、かつ１回反射した照射光５０の部分５３ａ、５３ｂの検出を少なくとも部分的に回避しつつ、複数回反射した照射光５０の部分を検出するステップ１２と、検出した照射光５０の部分の強度の差を評価することによって欠陥２２を識別するステップ１４とを備える、物体２０の欠陥２２を検出するための方法ならびにこの方法を実施するための装置。 （もっと読む）

【課題】ＴＤＩセンサ等のセンサのラインレート以上のスキャン速度で検査した場合、ＴＤＩセンサのラインレートとスキャン速度が非同期となり画像がボケてしまうため、ＴＤＩセンサのラインレート以上のスキャン速度では使えないという課題についての配慮がされていなかった。
【解決手段】ＴＤＩセンサのラインレートとステージスキャン速度を非同期で制御し、且つＴＤＩセンサの電荷蓄積による画像加算ずれの課題を解決するため、被検査物に細線照明を照射し、ＴＤＩセンサの任意の画素ラインのみに被検査物の散乱光を受光させる。また、ＴＤＩセンサのラインレートとステージスキャン速度の速度比によって、検出画素サイズの縦横比を制御する。 （もっと読む）

【課題】成膜用マスクの所望の品質特性を検出可能であって、効率的にマスク検査が可能
なマスク検査装置、これを備えた有機ＥＬ装置の製造装置、これを用いたマスク検査方法
および有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例のマスク検査装置１５０は、帯状に光を射出する光源１５３と、帯
状の光により成膜用マスクとしての蒸着マスク５０の表面を所定の方向に走査するように
、光源１５３と蒸着マスク５０とを相対移動させる走査機構としての搬送機構１１５と、
走査に伴って蒸着マスク５０の表面から反射した光を受光する受光部１５６と、受光部１
５６の受光信号を画像に合成する画像処理部と、を備えた。 （もっと読む）