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Fターム[2G051CA01]の内容

光学的手段による材料の調査の特殊な応用 (70,229) | 受光素子 (8,314) | 特定の受光素子 (6,408)

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【課題】
光学式の磁気ディスク欠陥検査装置で、基板表面のより微細な欠陥、例えば浅い傷欠陥(シャロー欠陥)や基板内部の欠陥を他の欠陥と弁別して検出することを可能にする。
【解決手段】
光学式欠陥検査方法において、試料を回転させて一方向に連続的に移動させながら試料の表面に対して傾いた方向から照明光を入射させて試料の表面に照明光を照射し、この照明光が照射された試料の表面からの正反射光と正反射光の光軸の周辺の前方散乱光とを含む反射光のうち正反射光を除いて正反射光の光軸の周辺の前方散乱光の像を検出し、照明光が照射された試料の表面からの散乱光のうち照明光の入射方向に対して側方へ散乱した側方散乱光を集光して検出し、正反射光の光軸の周辺の前方散乱光の像を検出して得た信号と側方散乱光を集光して検出して得た信号とを処理して試料上の任意の方向のスクラッチ欠陥を含む欠陥を抽出するようにした。 (もっと読む)


【課題】光制御板に形成された凹凸形状を簡易に評価することが可能な形状評価方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状13が形成された第1の面11と当該第1の面11と反対側に位置する第2の面12とを有し、凹凸形状13が第1の方向11に延在しているサンプル光制御板1の凹凸形状13を評価する形状評価方法は、第1の面11から光を入射した場合の第1の全光線透過率Tt1及び第2の面12から光を入射した場合の第2の全光線透過率Tt2の少なくとも一方を用いて規定される指標を凹凸形状13を表す指標とし、サンプル光制御板1に対して、第1及び第2の全光線透過率Tt1,Tt2の少なくとも一方を測定して上記指標を取得する取得工程と、凹凸形状が既知の基準光制御板に対して予め取得した指標と凹凸形状との相関関係に基づき、取得工程で取得した上記指標から、サンプル光制御板1の凹凸形状13を評価する評価工程とを有している。 (もっと読む)


【課題】一次選別部と二次選別部との間において、選別アルゴリズム及びエジェクターノズルの作動の両者を異ならせ、良粒の巻き添えによる歩留まり低下を抑制することができる色彩選別機を提供する。
【解決手段】粒状物の画像を二値化する二値化手段と、粒状物の欠陥部分を抽出する欠陥検出手段と、粒状物の外形の画像に対し収縮処理を施す収縮手段と、粒状物の欠陥部分の画像に対し膨張処理を施す膨張手段と、外形の収縮画像と欠陥部分の膨張画像とを合成する合成手段と、該合成手段により得られた画像に基づいて、一次選別部用のエジェクター手段の噴風動作と二次選別部用のエジェクター手段の噴風動作とを異ならせるエジェクター作動決定手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】異なるパラメータを使用して試験片の検査を行う方法とシステムを提供する。
【解決手段】コンピュータによって実施される方法は、選択された欠陥に基づいて検査のための最適パラメータを決定することを含む。また該方法は、検査に先行して、検査システムのパラメータを最適パラメータに設定する。別の該方法は、約350nmより下の波長を有する光と、約350nmより上の波長を有する光を用いて試験片を照明する。また該方法は、試験片から収集された光を表す信号を処理し、試験片上の欠陥または工程の変動を検出する。試験片を検査する1つのシステムは、広帯域光源504に結合された第1の光学サブシステムと、レーザ503に結合された第2の光学サブシステムを含む。またこのシステムは第1と第2の光学サブシステムから、光を試験片上に集束させる対物鏡507に光を結合するように構成された第3の光学サブシステムも含む。 (もっと読む)


【課題】デバイスプロセス工程でウェハの欠陥そのものを検出しなくても、欠陥位置が容易に分かり、欠陥位置情報のデータを別途用意しなくても、基板自体からその欠陥位置を識別することができる欠陥識別マーカー付き基板、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】炭化珪素単結晶からなる単結晶基板、又は、炭化珪素単結晶上にエピタキシャル層を備えたエピタキシャル基板において、欠陥が存在する位置に対応する基板の表面側又は裏面側に、レーザー照射加工によって形成された識別マーカーが付された欠陥識別マーカー付き基板であり、また、欠陥の位置に対応させて、基板の表面側又は裏面側にマーカー加工用のレーザー光を照射して識別マーカーを形成する欠陥識別マーカー付き基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】安価且つ小型の塗布検査装置を提供する。
【解決手段】塗布検査装置10は、シリンジ54から吐出された励起光の照射により蛍光を発する接着剤が、塗布対象物70に塗布されたか否かを検査する。塗布検査装置10は、励起光源12から出射された励起光を伝搬する第2光ファイバ22と、第2光ファイバ22の先端部と、第2光ファイバ22の先端部から出射された励起光を集光して塗布された接着剤に照射するとともに、励起光が照射された接着剤から発生する蛍光を集光して第2光ファイバ22へ導くレンズ28とを含むプローブ18と、第2光ファイバ22を伝搬した蛍光を受光する検出器16と、プローブ18とシリンジ54とを一体的に連結する連結機構60とを備える。 (もっと読む)


【課題】 被検対象の物体にはない特定成分を確実に選択できるようにして異物を確実に特定できるようにし、物体中に異物が混入しているか否かを確実に判別できるようにして判別精度の向上を図る。
【解決手段】 被検対象の物体に所定の波長範囲の近赤外領域の光を照射する光源部20と、この物体からの反射光あるいは透過光を受光する受光部30と、受光部30で受光した光を分光する分光部50と、分光された光の吸光度に基づいて被検対象の物体中の異物の有無を判別する制御部40とを備え、制御部40を、異物の有無が既知のサンプル物体に照射されて反射あるいは透過された近赤外領域の波長に対する吸光度における二次微分スペクトルの統計学的解析により算出された特定成分に起因する帰属波長に係る判別式を記憶する判別式記憶機能と、受光した光の吸光度と判別式とから算出された算出結果から物体中の異物の有無を判別する異物判別機能とを備えて構成した。 (もっと読む)


【課題】 被検対象の物体にはない特定成分を確実に選択できるようにして異物を確実に特定できるようにし、物体中に異物が混入しているか否かを確実に判別できるようにして判別精度の向上を図る。
【解決手段】 被検対象の物体に、物体を構成する成分以外の特定成分を含む異物が混入しているか否かの判別を行なうものであって、予め、異物有りのサンプル物体と異物無しのサンプル物体とに近赤外線を照射し、サンプル物体からの反射光あるいは透過光を受光し、受光した光の吸光度における二次微分スペクトルの統計学的解析により特定成分に起因する帰属波長に係る判別式を算出しておき、被検対象の物体に近赤外線を照射し、被検対象の物体からの反射光あるいは透過光を受光し、受光した光の吸光度を測定し、これらの吸光度と判別式とから算出された算出結果から物体中の異物の有無を判別する。 (もっと読む)


【課題】測定対象物及びスライダの損傷を回避して、微小な欠陥を検出することが可能な平滑面検査装置を提供する。
【解決手段】測定対象物3を支持するステージ26と、ステージ26を回転させるスピンドル4と、測定対象物3に光を照射する光源5と、測定対象物3からの散乱光を信号化する光検出部8と、散乱光7を第1の欠陥の情報に変換する信号処理部11と、第1の欠陥の情報を記憶する第1のメモリ部12とを有する第1のパートと、第1の欠陥よりも小さい第2の欠陥を検出し、接触センサが搭載されたスライダ9と、スライダ9を浮上させるロード・アンロード機構と、第1のメモリ部12に記憶された第1の欠陥の情報に基づいて、ロード・アンロード機構22を制御するスライダ制御部14と、接触センサ信号処理部16で変換された第2の欠陥の情報を記憶する第2のメモリ部17とを有する第2のパートとを備える。 (もっと読む)


【課題】基板を汚染することなく非接触で保持する基板保持装置では、基板の自重によるたわみが発生したり、使用条件の中で回転動作の風圧による基板のたわみが発生するために、各種処理の障害になっている。
【解決手段】基板の上面を所望の面高さに保持したり、あるいは平面度を保持したりするために、基板上面に基板面の高さを測る非接触の変位センサを設置し、また、載せ台上面には複数の溝と障壁を設け、基板と乗せ台の間にエアーを供給してその圧力によって基板の変位を可能として、さらに、変位センサの出力をフィードバックすることで基板を任意の凸,凹形状に変形したり、平面化することを可能とする構造を持つ基板搭載装置。 (もっと読む)


【課題】被検査物に付着した粒子が有機系粒子であっても、レーザ散乱方式における検出感度を向上させることができる粒子検出方法を提供する。
【解決手段】ウェハWの表面に光を照射し、該表面からの散乱光を受光することによって、前記表面に付着した粒子Pを検出する粒子検出方法において、粒子Pが損傷しない所定温度範囲でウェハWの表面に成膜処理を行い、成膜されたウェハWの表面に光を照射し、前記表面からの散乱光を受光することによって、粒子Pを検出する。 (もっと読む)


【課題】分光学的手法により、青果物を含む食品の内部品質を精度高く検査できる判定方法の提供。
【解決手段】検査対象品である食品の良品と不良品に光を照射したときに得られるその透過分光スペクトルの波形データの傾向の違いを利用し、検査対象品に同じ光を照射したときに得られるその透過分光スペクトルが良品の波形データの傾向を備えているか否かで、良品か不良品かの判定を行う。例えば、波形データが良品については2つのピーク波長が存在する二コブ状になっており、不良品については短波長側のコブが低くなるか無くなっているが、良品については短波長側のコブがある程度の高さで存在していることを利用して、コブの高さの差が一定以下か否かで良品か否かの判定を行う。 (もっと読む)


【課題】被検査対象であるパターンドメディアからなる磁気記録媒体の微細なパターンの形状欠陥を高速で検査できるようにする。
【解決手段】パターンドメディアの欠陥検査方法において、検出された分光波形データをデータベースに記憶しておいたパターン形状が既知の標準試料の分光反射率波形データと比較して、欠陥を検出し、この検出した欠陥の分光波形データと標準試料の分光反射率波形データとの検出波長ごとの差異に基づいて欠陥の種類を判定するようにした。 (もっと読む)


【課題】本発明は、分光反射強度に含まれる迷光成分を低減し、パターンドディスク表面のパターン形状を精度よくまたはパターン欠陥を確実に検出できるハードディスクメディアの検査装置または検査方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、パターンが形成されたハードディスクメディアの表面に複数の波長を含む光を照射し、波長毎に検出される反射光の強度を前記ハードディスクメディアからの反射光を検出する検出器に発生する迷光成分の強度で補正し、前記補正された反射光の強度から分光反射率を算出することを第1の特徴とする。前記補正は、前記ハードディスクメディアからの反射光の強度を前記反射光の短波長領域をカットした状態とカットしない状態で波長毎に検出し、両者の前記反射光の強度との差に基づいて行なうことを第2の特徴とする (もっと読む)


【課題】
単一の統合条件においては複数の欠陥種を同時に検出することは困難であり、また、多次元の特徴量として扱って複数の欠陥を検出すると、信号処理にかかる計算コストが検出器の増加とともに増大するという問題が発生する。
【解決手段】
被検査対象物に照明光を照射する照明光学部と、前記照明光学部により照射され該被検査対象物から該被検査対象物の表面に対してそれぞれ異なる方位角方向および仰角方向に散乱する散乱光をそれぞれ検出する複数の検出器を備えた検出光学部と、前記複数の検出器により検出した該被検査対象物からの散乱光に基づく複数の信号のそれぞれについて、ゲイン調整および閾値判別に基づく欠陥判別を並列に行い、前記ゲイン調整および欠陥判別された結果に基づき欠陥を抽出する信号処理部と、を有する欠陥検査装置である。 (もっと読む)


【課題】円筒部材に塗布された塗布物を確実に精度よく検出して、塗布物の塗布状態の検査精度を向上させる。
【解決手段】検査装置内で、円筒部材10に塗布された塗布物11を検出する検出センサ40を、円筒部材10の軸方向Cの外側に、かつ、軸方向Cに対して傾斜させて円筒部材10の塗布面に向けて配置する。検出センサ40により、円筒部材10の軸方向Cに対して傾斜した方向から円筒部材10の塗布物11を検出し、検出センサ40の検出結果に基づき、塗布物11の塗布状態を検査する。 (もっと読む)


【課題】微細な欠陥の検査を精度よく且つ短時間に行うことができる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】第1の光源2から出射された第1の波長を有する光を載置部12に載置された被検査体へ導くとともに、被検査体からの第1の反射光を第1の検出部10へ導く第1の光学系3と、第2の光源6から出射された第2の波長を有する光を載置部に載置された被検査体へ導くとともに、被検査体からの第2の反射光を第2の検出部11へ導く第2の光学系9と、第1の光源と、第2の光源と、を制御する制御部13と、を備え、前記制御部は、前記被検査体の検査対象部分の材質に応じて、第1の光源と、第2の光源と、を制御して、前記第1の波長を有する光と、前記第2の波長を有する光と、の切り替えを行うことを特徴とする欠陥検査装置1が提供される。 (もっと読む)


【課題】欠陥発生の原因となった設備の異常を早期に特定する。
【解決手段】欠陥検査装置は、基板において欠陥の発生が予測される位置を示す位置情報と、基板を処理する処理装置の名称と、を記憶する記憶部と、基板で発生した欠陥を検出する検出部と、検出された欠陥が、複数の基板において共通する範囲内で発生しているかを判定する判定部と、検出された欠陥が、複数の基板において共通する範囲内で発生している場合、複数の基板において共通する範囲内で発生した欠陥の位置を示す位置情報を、記憶部に記憶する制御部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 ウエハ表面の傷、膜残滓物等の存在を光学的に且つ的確に検出する。
【解決手段】 ウエハ10を保持するウエハ保持部20と、直線偏光の検査光を生成照射する検査光源31,32と、検査光源からの検査光をウエハ10の表面の検査部分に照射したときの検査部分からの反射光を検出する受光部33,34とを備えて表面検査装置が構成される。そして、検査光源からの検査光が検査部分の表面に対してブリュースター角で入射するように検査光源を配置し、且つ、検査光が検査部分の表面から正反射した光を避けて検査部分からの反射散乱光を受光する位置に受光部33,34を配置し、この受光部により受光した反射散乱光に基づいて検査部分の欠陥検査を行う。 (もっと読む)


【課題】従来はウエハの半径方向と楕円形状ビームの長辺とを合わせる方法として、光軸調整用検出器と検査用の検出器を別々に設けられていた。そのため検査用の検出器上で光ビームの長辺と半径方向とが一致していないという問題が発生した。
【解決手段】本発明は、ウエハからの散乱光の検出方法としてマルチアノードの検出器を使用し、欠陥検出用の検出器(マルチアノード)のデータを使用して、ウエハに照射されているビームの形状や半径方向とビーム長辺との回転ズレなどを算出して照射ビームの光軸調整を行う方法を提供する。さらに、上記補正データをもとに、回転や振幅の補正量を検査信号データにフィードバックさせ、検査データの補正を行う手段を設ける。本発明により、光学系の調整や信号処理による微細な補正が可能になるため、欠陥検出の位置精度および欠陥強度(欠陥寸法)の精度を向上させることができる。 (もっと読む)


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