【課題】シート体の欠陥の高精度の検出が可能で、特にカラーフィルター、絶縁用セパレータ、グリーンシート等の光透過性を有するシート体の検査に好適なシート体の検査装置及び方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明のシート体の検査装置は、レーザー光線を出射する光源と、光源から出射されるレーザー光線の焦点を検査対象であるシート体表面近傍に合わせるレンズ光学系と、シート体裏面からの透過光を受光する光検出器とを備え、光検出器で得られた直接光成分以外の成分強度情報に基づいて欠陥を検出するシート体の検査装置である。シート体表面に略垂直にレーザー光線を照射するとよい。光検出器とシート体裏面との間にシート体裏面からの直接光成分を遮蔽するマスクを備えるとよい。シート体を設置するテーブルと、シート体表面に照射されるレーザー光線の位置を相対的に移動させる走査手段とを備えるとよい。 （もっと読む）

【課題】対象線材の特性や種類に制限なく採用でき、安価で高速走行する線材に対しても検査可能な検査手段を備えた金属線状材の疵検査装置、及び連続加工装置を提供する。
【解決手段】線状材Ｗを軸心として回転する回転体でなり、かつ線状材に直交する照射光を照射する光源部１６と、その照射光と線状材からの反射光が、線状材の横断面視で９０゜を超え１８０゜未満の角度θで受光する位置に配置した受光センサー１７を備えてなる回転基体１１と、その系外に設けられた照射光の供給源、並びに受光センサーによる受光データを解析して表面疵に変換するデータ解析部との系外装置における回転基体との電気的接続が、接触又は非接触方式によるコードレス化によって回路形成されるとともに、回転基体は、金属線状材の送給速度に応じて可変かつ一方向に回転可能に構成したことを特徴とする金属線状材の疵検査装置と、その装置を用いた連続加工装置である。 （もっと読む）

【課題】中心オブスキュレーションがない高開口数（ＮＡ）の反射屈折対物系、及びそのアプリケーションを開示する。
【解決手段】このような対物系は、深紫外線（ＤＵＶ）放射を含む放射の広いスペクトルバンド幅で作用することができる。反射屈折対物系の屈折要素は、１タイプの材料（例えばＣａＦ₂及び／又は溶融石英など）から製造できることが重要である。また、このような反射屈折対物系の要素は光軸に対して回転対称である。反射屈折対物系は、（１）偏光ビームスプリッタ（第一偏光放射を通過させ、第二偏光放射を反射する）を使用する、及び／又は（２）１つ又は複数の折り畳みミラーを使用して、オフアクシス放射を反射屈折対物系の瞳内へと誘導することによって、中心オブスキュレーションを解消する。例示的反射屈折対物系が図２に図示されている。 （もっと読む）

【課題】細長い欠陥がウェーハ表面に存在した場合に、欠陥の方向に依存せず、どの方位に伸びる欠陥であっても一様に検出することで、欠陥の実体を正確に把握することを低コストで実現できる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、ウェーハ表面にレーザー光を走査しつつ照射する入射系と、前記ウェーハの欠陥により一定角度に散乱する散乱光を捕らえるように配置された受光器を有する受光系とを備えた欠陥検査装置であって、前記入射系は、光源から発せられた一本のレーザー光を複数に分岐し、該分岐されたレーザー光を複数の方向から前記ウェーハ表面の同一領域に入射するものであって、前記受光系は、一つの受光器で前記散乱光を捕らえるものであることを特徴とする欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】Ｓ／Ｎ比を低下させることなく精度の良い欠陥検出を行う。
【解決手段】ハロゲンランプ２２と受光器２４との間には第１及び第２偏光板２５，２６が設けられている。第１及び第２偏光板２５，２６は、互いの偏光方向２５ａ，２６ａが直交するように配置されている。第１偏光板２５と第２偏光板２６との間にはフィルム１６が走行している。受光器２４の直前には除去光学系２７が設けられている。ハロゲンランプ２２から発する光には、６００ｎｍ〜８００ｎｍの波長域に輝線が一つだけ存在する。そのため、フィルム１６上に干渉縞が発生することはほとんどない。 （もっと読む）

【課題】回折スペクトルの情報を失わずにオーバレイを測定するために、より小さいターゲットで使用することができる放射を提供する放射源を提供する。
【解決手段】放射が基板で反射した結果としての角度分解スペクトルを高開口数のレンズの瞳面で測定することによって、基板の特性を割り出す装置及び方法。特性は、角度及び波長に依存してよい。基板で反射する放射は、放射状に偏光する。 （もっと読む）

【課題】イメージスキャナを用いて低コストで上面に印刷された半田付け状態を人手を介さず、連続して検査することができる装置を提供する。
【解決手段】検査装置1は、少なくとも１本のガイド軸21に沿って移動し、画像読取り部54を下側に向けて画像を走査する読取りモジュール5及び該読取りモジュール5を水平状態に支持する水平支持部材を具えたイメージスキャナ2と、該イメージスキャナ2の画像読取り部54の下側に検査対象物であるプリント基板4を搬送するコンベアベルト32と、読取りモジュール5が走査した画像を処理してモニター11に表示する手段を設けている。 （もっと読む）

【課題】洗浄で壜が濡れている場合においても、良好な擦傷検出を行う。
【解決手段】ランプ２１は、壜１の壜口を通して壜１の内部に挿入される。ランプ支持部２２は、ランプ２１への給電線を備え、ランプ２１を壜１の内部に支持する。カメラ１０は、エリアＣＣＤを備えており、壜１の外部に配置されている。また、遮光板２３は、ランプからの直接光がカメラ１０に受光されないように、壜１とカメラ１０の間に配置されている。壜１に擦傷部２がある場合には、一部の光は擦傷部２で拡散され、その一部はカメラ１０のエリアＣＣＤに入射し、明るい画像を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】円筒状又は円柱状のガラス物品の全周に亘る欠陥の有無を正確に検査すると共に、その欠陥検査に際してガラス物品の軸心を中心とする回転を不要として、検査時間の短縮化を確実に図る。
【解決手段】投光部４からガラス管２を横断するようにライン光３を照射し、その照射したライン光３のうちガラス管２で反射した反射光を受光部５で受光し、その受光光量の変化に基づいてガラス管２の欠陥の有無を検査する。 （もっと読む）

【課題】
基板の表面上に存在する異物と結晶欠陥、或いは異物とスクラッチの判別精度の向上。
【解決手段】
光学系５ａ，６ａは、基板Ｗの表面にレーザー光を照射し、該レーザー光の散乱光を異なる角度で受光して、第１及び第２の受光信号Ｄ１，Ｄ２を出力する。データ処理手段４では、前記第１及び第２の受光信号Ｄ１，Ｄ２のレベルの相関関係を定義する基準関数を設定し、該基準関数を比較基準として前記第１及び第２の受光信号Ｄ１，Ｄ２のレベルを比較し、この比較結果に基づき前記半導体基板の表面に存在する欠陥が複数の種類の異なる欠陥のいずれかに該当するかを判別する。 （もっと読む）

【課題】 食品の品質評価を高精度で行うことができる食品検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 食品検査装置１の光源１０から出力される近赤外光Ｌ１は、検査対象物４０の照射位置Ｐ１に到達する。近赤外光Ｌ１が照射する検査対象物４０の照射位置Ｐ１を含み、検査台３０に平行な面を照射面Ｓとする。近赤外光Ｌ１が照射面Ｓに対して正反射した場合、正反射光は光路Ｌ２を進む。一方、照射位置Ｐ１にて拡散反射した光のうち、光路Ｌ３方向に散乱した光は、光路Ｌ３を進み、検出部２０に到達する。このとき光源１０及び検出部２０は、検出部２０と照射位置Ｐ１とを結ぶ直線、すなわち光路Ｌ３と、光源１０から出力される近赤外光が正反射した場合の光路Ｌ２と、のなす角ａ１が４５°以上となるように配置される。 （もっと読む）

【課題】ウエハの位置が変動した場合でも、受光光学系を高価にすることなく、小さな欠陥を検出可能なウエハ端面検査装置を提供する。
【解決手段】対物レンズ１１の瞳位置に開口絞り１２が設けられており、撮像面１６は対物レンズ１１の瞳位置と共役な位置に設けられている。欠陥Ｃ、Ｄから放出された光は、視野絞り上では、対応する異なった位置Ｃ’、Ｄ’に結像するが、第２リレーレンズ１５により、それぞれ平行光とされ、撮像面１６を照明する。撮像面１６には、対物レンズ１１の瞳像が結像する。よって、図に示すように、欠陥Ｃ、Ｄから放出された光は、撮像面１６の同じ位置を照明する。すなわち、照明光が照明する位置が変わっても、その反射光が撮像面１６を照明する位置は変わらない。すなわち、ウェハ１の反りや径方向のシフト等に起因して、照明光がウェハ１を照明する位置が異なっても、撮像面１６で受光される位置は変わらない。 （もっと読む）

【課題】 品質評価を高精度で行うことができる食品検査方法及び食品検査装置を提供する
【解決手段】 食品検査装置１の光源１０から検査対象物５０向けて近赤外光Ｌ１が照射される。光源１０から照射された近赤外光１０は、検査対象物５０へ入射する。検査対象物５０で拡散反射した近赤外光のうち、光路Ｌ３方向に進む光は、検出部２０へ到達する。検出部２０では光源１０から照射される近赤外光が検査対象物５０の表面で拡散反射された後に検出部２０の配置される方向へ出力された光を拡散反射スペクトルとして検出する。検出した拡散反射スペクトルの情報は処理部４０へ送られる。処理部４０では検出部２０で得られた拡散反射スペクトルを解析することにより吸収スペクトルを求める。拡散反射スペクトルと、吸収スペクトルの形状と、に基づいて前記検査対象物の品質を評価する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板の製造工程で生じる内包物と表面に含まれる凹欠陥および凸欠陥とを区別することで、ガラス基板の歩留まりを向上させることが可能な、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを提供することを目的としている。
【解決手段】本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板１００の製造方法は、基板状態測定工程Ｓ２００と、欠陥面内位置特定工程Ｓ２０２と、面内位置を特定した欠陥が磁気ディスク用ガラス基板１００の表面にあるか否かを、結像手段が面内位置で結像する像の数に基づいて判断する表面欠陥判断工程Ｓ２０４と、表面欠陥判断工程Ｓ２０４の結果に基づいて磁気ディスク用ガラス基板１００を良品であるか否かを判定する良品判定工程Ｓ２０６と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 検出器を移動させることなく、照射した光束の光軸近傍における微小角度おきの散乱光強度の分布を捉えることができる散乱特性評価装置及び散乱特性評価方法を提供する。
【解決手段】 互いに半径が異なるリング状の受光面を有する検出素子の中心が、同心円状かつ光束の光軸上に配置されている検出器２と、集光レンズ４とを備える散乱特性評価装置１０であって、測定点Ｏを中心とした球Ｂを想定して、検出素子の受光面に導かれた光が球Ｂを通過した通過面積Ｓ_ｉと、ｉ番目の検出素子が検出した光強度Ｅ_ｉとを用いて、球Ｂにおける単位面積での散乱光強度Ｃ_ｉを算出して、散乱角度Θ_１から散乱角度Θ_Ｉまでの角度範囲における散乱光強度Ｃ_ｉの分布に基づいて、評価対象試料Ｆの光の透過散乱特性を評価する評価部２４を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザーによる応力改善技術と、レーザー超音波法によるき裂検査技術との保全施工技術は、従来独立した装置として実現されているため、対象となる材料部分に設けられる装置が大型になり、材料が狭あい空間、または狭あいな経路を経由しなければ到達できない空間に位置している場合、保全施工作業が非常に時間がかかり面倒である。
【解決手段】第一のレーザー光源１から発振され、材料Mに照射されて材料Mを改質する第一のレーザー光L1と、第二のレーザー光源６から発振され、材料Mに照射されてその反射成分を検出して該当部位のき裂検査または計測をする第二のレーザー光L2とを共通の統合光学系29を介して材料Mに照射するようにする。第一の光伝送手段３は第一のレーザー光L1を第一のレーザー光源1から統合光学系29まで伝送し、第二の光伝送手段８は第二のレーザー光L2を第二のレーザー光源６から統合光学系29まで伝送する。 （もっと読む）

【課題】容器台３２の回転によって、容器４とともに回転するトップロケータ４４の回転に異常があった場合にこれを検出する。
【解決手段】容器４を載せてその底面を支持する容器台３２とこの容器台３２の上方に昇降可能に配置されたトップロケータ４４と、容器台３２を回転させるサーボモータ３８とを備えており、トップロケータ４４の下端に設けた回転自在な容器支持部６０と容器台３２とにより容器４を挟持した状態で容器４を回転させる。トップロケータ４４の方向を向けた近接センサ７２により、容器支持部６０に設けた検出片７４を検出し、所定時間内の検出回数を判定手段である制御装置７６に送って、正常な回転をしているか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】樹脂成型品に生じるウェルドラインを明瞭に検出することのできるウェルドラインの検査装置および検査方法を提供する。また、樹脂成型品を効率的かつ高品質に製造する製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂内部まで透過する光を出射可能な光源と、光源から被検査物に照射される光を偏光させる偏光子と、被検査物からの反射光のうち所定の偏光状態の光のみを通過させる検光子と、この検光子を介した被検査物の反射光を受けて撮像を行うとともに焦点位置を被検査物の内部まで移動可能にされた撮像部と、前記撮像部により得られた撮像データから被検査物にあるウェルドラインの分析を行う分析部とを備えたことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】信号強度のロスが少なく、正確で精度の高い欠陥検査を行うことができる欠陥検査装置を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる欠陥検査装置は光ビームを発生するレーザー光源１と、光を１次元のマルチビームに変換する１次元回折格子と、マルチビームを集束する対物レンズ９と、試料で反射した光ビームを試料に入射する光ビームから分離するハーフミラー６ａと、分離された光ビームを分岐するウェッジ１７を備えている。そして、試料台１１をラスタ走査して試料全面を検査する。ウェッジによって分岐された一方の光ビームを検出する光検出器１９ａともう一方の光ビームを検出する光検出器１９ｂをさらに備えている。この光検出器１９ａ、１９ｂの信号に基づく和信号によってシミ状欠陥を検査する。 （もっと読む）

【課題】レンズ効果により凹凸欠陥の判定をする従来技術では、欠陥の正確な大きさ、高さに関しての精度向上が図れない。
【解決手段】ステージ上に搭載されたディスクの面板表面に光ビームを照射して面板表面を走査する照射光学系と、前記ディスクに照射された光ビームによる面板からの正反射光の光量を変化させる濃淡差を有する濃淡フィルタを備え、前記濃淡フィルタを透過した正反射光を受光する受光光学系と、前記フィルタを通過して得られた正反射光の光量変化より面板表面上の欠陥を識別する処理手段とを有する検査装置を提供する。 （もっと読む）