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Fターム[2G051CA03]の内容

光学的手段による材料の調査の特殊な応用 (70,229) | 受光素子 (8,314) | 特定の受光素子 (6,408) | 半導体素子、アレイ (1,620)

Fターム[2G051CA03]に分類される特許

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【課題】受光部のフォーカス調整を容易に行う。
【解決手段】画像取得装置は、ガラス基板9上における線状の撮像領域を撮像する撮像ユニット2と、ガラス基板9を撮像領域と交差する方向に移動する移動機構とを備える。撮像ユニット2は、光照射部21および受光部23を有し、光照射部21により撮像領域に光が照射され、撮像領域からの光が受光部23のラインセンサへと導かれる。画像取得装置では、受光部回動機構が受光部23を回転することにより受光部23の光軸J2とガラス基板9の法線Nとのなす検出角θ2が変更される。撮像ユニット2は、光軸J2に沿って受光部23を移動する受光部移動機構をさらに備え、検出角θ2の変位量に基づいて受光部移動機構を制御することにより、光軸J2上においてラインセンサの受光面と共役な位置Pがガラス基板9の表面に配置される。これにより、受光部23のフォーカス調整が容易に行われる。 (もっと読む)


【課題】ロールが設置されていない位置に存在する材料に光を照射して材料の表面を検査する際に、検査対象から除外するマスク範囲を適切に設定する。
【解決手段】ロール7が設置されていない位置に存在する材料8−1,8−2に帯状光を照射して材料8−1,8−2の表面を検査する際に、しきい値設定手段51は、撮像領域における画素位置毎の反射光の強度から、全体の強度の平均値Aを算出し、平均値Aに基づいて、強度の高い画素位置における平均値Bを算出すると共に、強度の低い画素位置における平均値Cを算出し、これらの平均値B,Cの中点値Dに基づいてしきい値αを設定する。マスク範囲設定手段52は、撮像領域における画素位置毎の反射光の強度としきい値αとを比較し、x軸上で隣り合う画素位置において、反射光の強度がしきい値αを上回ってまたは下回って変化する画素位置を特定し、特定した画素位置からマスク範囲を設定する。 (もっと読む)


【目的】インテグレータレンズによって形成される複数の集光点に起因した光学素子の劣化を回避可能な検査装置を提供することを目的とする。
【構成】パターン検査装置100は、レーザ光を発生する光源103と、レーザ光を入射し、入射されたレーザ光を分割して光源群を形成するインテグレータレンズ206と、インテグレータレンズの入射面の手前に配置され、インテグレータレンズに入射するレーザ光を散乱させる散乱板204と、インテグレータレンズを通過したレーザ光を照明光として用いて、複数の図形パターンが形成された被検査試料におけるパターンの欠陥を検査する検査部150と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】暗視野式(散乱光検出式)半導体ウェハ検査においては、パターンの微細化と共に欠陥信号も微弱化し、かつ欠陥種類により散乱光の方向特性も異なるため、これらを有効に検出する必要がある。
【解決手段】平面内で移動可能なテーブルに載置した表面にパターンが形成された試料上の線状の領域に試料の法線方向に対して傾いた方向から照明光を照射し、この照明光が照射された試料から発生した散乱光の像を複数の方向で検出し、この散乱光の像を検出して得た信号を処理して試料上の欠陥を検出する欠陥検査方法及びその装置において、散乱光の像を複数の方向で検出することを、光軸が前記テーブルの前記試料を載置する面の法線と前記照明光を照明する線状の領域の長手方向とが成す面に直交する同一平面内における異なる仰角方向でそれぞれ円形レンズの左右を切除した長円形レンズを介して検出するようにした。 (もっと読む)


【課題】エンボスシートの外観の良・不良の検査を好適に行うことができるエンボスシート検査システム等を提供する。
【解決手段】エンボスシート検査システム1において、エンボス壁紙シート10を搬送しつつ、斜め上方の照明5より照明されたエンボス壁紙シート10の撮像範囲3aをラインセンサ3で撮像し、画像データ20を画像処理装置7に送信する。画像処理装置7は、画像データ20について、所定の閾値により明点および暗点を抽出し、エンボス壁紙シート10の幅方向の両端部の領域で明点および暗点の面積の総和を算出し、明点および暗点の面積の総和が、エンボス壁紙シート10の幅方向の両端部の領域で所定量以上異なる場合、エンボス壁紙シート10を、不良品であると判定する。 (もっと読む)


【課題】微細な欠陥の検出を容易に行うことができるパターン検査装置、およびパターン検査方法を提供することである。
【解決手段】実施形態に係るパターン検査装置は、被検査体に向けて光を出射する光源と、前記被検査体からの光を検出する検出部と、前記検出部からの出力に基づいてパターン検査を行う検査部と、を備えている。そして、前記光源は、前記光の波長を変化させる。また、前記検査部は、前記検出部からの出力に基づいて回折像を作成し、最も鮮明な回折像に関する光の波長と、対比する回折像に関する光の波長と、を比較することで、前記パターン検査を行う。 (もっと読む)


【課題】箱体の姿勢にかかわらず接合部の精度を正確に検査でき、箱体の形状精度や印刷品質、異物の有無も同時に検査することができ、検査スペースの効率化を図ることができる品質検査装置を提供する。
【解決手段】接合部を挟んで隣り合う2つの領域を撮像する撮像手段3と、照明手段4と、基準形状データ記憶部、及び基準画像データ記憶部を有する記憶手段50と、撮像される画像に基づき形状データを検出し、各領域の基準形状データと対比することにより各領域のずれ量を算出し、各領域の形状精度の良否を判定する形状精度判定手段と、形状精度判定手段により算出される各領域のずれ量に基づき、当該箱体の接合精度の良否を判定する手段と、撮像手段により撮像される画像に基づき各領域の画像データと基準画像データ記憶部に記憶された各領域の基準画像データとを対比することにより各領域の印刷品質の良否及び異物の有無を判定する手段とを備えた。 (もっと読む)


【課題】コントラストの高いパターン画像の表示を低コストにて実現する。
【解決手段】パターン画像表示装置の画像取得部13は、光照射部131、ラインセンサ132、角度変更機構、および、表示対象であるガラス基板9を移動する移動機構を備える。光照射部131からは、ガラス基板9の薄膜パターンに対して透過性を有する波長の光が出射される。光照射部131からの光の照射角θ1およびラインセンサ132により撮像が行われる検出角θ2は、常に同じであり、これらの角度は角度変更機構により変更される。パターン画像表示装置では、予め画像のコントラストが高くなる照射角および検出角の設定角度が求められ、照射角および検出角が設定角度とされる。これにより、単一波長の光源を用いてコントラストの高い画像をラインセンサ132により取得し、ディスプレイに表示することができ、パターン画像表示装置の製造コストも削減することができる。 (もっと読む)


【課題】研磨部及び再研磨部の仕上がり具合を簡単な手法で定量的に評価できる金属板の外観評価方法を提供する。
【解決手段】この金属板の外観評価方法では、金属板1の表面のデジタル画像10をスキャナ4によって取得し、デジタル画像10の一部画像11に含まれる各ピクセルのRGB値をグレースケール変換して得られるAc値の波形パターンに基づいて研磨部2及び再研磨部3の外観の可否を判断する。波形パターンを用いることで、研磨部2及び再研磨部3の外観を容易かつ定量的に判断できる。また、この方法では、波形パターンに基づいて、研磨部2及び再研磨部3の研磨方向がスキャナ4の走査方向と一致しているデジタル画像10を判断対象として選別する。この前処理により、外観判断工程で用いる波形パターンのS/N比が向上し、判断精度が高められる。 (もっと読む)


【課題】SN比の高い欠陥検出を行うことができる欠陥検査装置を提供することである。
【解決手段】実施形態に係る欠陥検査装置は、被検査体上の画像を検出する検出部と、前記検出部からの出力に基づいて、欠陥部分の断面プロファイルを演算する特徴量演算部と、前記演算された断面プロファイルを再サンプリングして再構成する再サンプリング部と、前記再構成された断面プロファイルと、テンプレート画像とのパターンマッチングを行う積和演算部と、前記パターンマッチングの結果を閾値を用いて判定する判定部と、を備えている。そして、前記再サンプリング部は、前記演算された断面プロファイルにおける重心を求め、求められた重心を中心画素として前記断面プロファイルを再サンプリングして再構成する。 (もっと読む)


【課題】光学異方性を有するフィルムについて、その欠陥を抽出するとともに、欠陥の種類を正確に判別するためのフィルム検査システム等を提供する。
【解決手段】フィルム検査システム1では、光学補償フィルム10を、偏光板51aを介した照明光を照射した状態で、ラインセンサ3aで偏光板31aを介して撮像するとともに、偏光板51bを介した照明光を照射した状態で、ラインセンサ3bで偏光板31bを介して撮像する。偏光板31aと偏光板51a、偏光板31bと偏光板51bの偏光方向は略直交し、偏光板31aの偏光方向と光学補償フィルム10の配向方向とは略45°の角度をなし、偏光板31bの偏光方向と光学補償フィルム10の配向方向とのなす角度は、90°から所定角度ずらしたものである。画像処理装置7は、ラインセンサ3a、3bで光学補償フィルム10を撮像した画像データ20a、20bを基に欠陥候補の検出と欠陥種類の判別を行う。 (もっと読む)


【課題】連続して発生するガラス欠陥の検査において、必要な検査精度を確保したまま検査速度を高め、さらに、装置構成を複雑にせず装置コストを抑えた板ガラス検査装置を提供する。
【解決手段】複数の板ガラスを検査する板ガラス検査装置であって、第1板ガラスの欠陥候補範囲と、前記第1板ガラスとは異なる第2板ガラスの欠陥候補範囲とを検出する検出部110と、前記第1板ガラスの欠陥候補範囲の位置と、前記第2板ガラスの欠陥候補範囲の位置とを比較し、前記比較の結果に基づいて、前記第1板ガラスと前記第2板ガラスとに連続する欠陥の有無を判定する判定部120とを備える。 (もっと読む)


【課題】マルチコアプロセッサ12を用いても画像処理の処理性能をスケーラブルに向上させることが可能な欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】表面にパターンが形成された試料を撮像する撮像手段と、撮像手段で撮像された画像データを、複数の画像ブロックに分割する分割手段4bと、複数の画像ブロックに対してパターンの欠陥を検出する欠陥検出処理を並列に行う並列処理手段5とを備え、並列処理手段5には複数のコア13、14を有するマルチコアプロセッサ12を複数使用する。マルチコアプロセッサ12毎に、画像ブロックの欠陥検出処理が行われる。複数のコア13、14は、画像ブロックの欠陥検出処理を行う演算コア13と、画像ブロックを分割手段4bから受信する制御コア14とを有し、演算コア13が欠陥検出処理を行う画像ブロックは、制御コア14を介して用意される。 (もっと読む)


【課題】ガラス壜をスターホイールによって円形軌道に沿って搬送している間にガラス壜を自転させ、この自転中にガラス壜の底部から底部のやや上方の壜胴下部までの検査エリアにエアを吹き付けることにより、ガラス壜の検査エリアに付着した水滴を確実に除去することができるガラス壜の水滴除去装置を提供する。
【解決手段】液体が充填された複数のガラス壜1を複数のポケット3aで支持して円形軌道に沿って搬送するスターホイール3と、スターホイール3により支持されたガラス壜1に接触しながら走行してガラス壜を自転させるベルト16と、スターホイール3により円形軌道に沿って搬送されるガラス壜1の側方に配置され、ガラス壜1に向けて空気を吹き付けるエアブローユニット20とを備え、エアブローユニット20の前面20fは円形軌道に沿うように配置され、エアブローユニット20の前面20fには空気を噴出する複数のノズル20nが設けられている。 (もっと読む)


【課題】基板上のパターンに損傷を与えることなく欠陥検査を行うことができる欠陥検査装置を提供すること。
【解決手段】実施形態の欠陥検査装置は、半導体基板を測定光学系によって表面観察し、観察結果に基づいて前記半導体基板の欠陥検査を行う基板検査部を備えている。また、前記欠陥検査装置は、前記測定光学系のうち前記表面観察を行う際に前記半導体基板の表面に近接する底部近傍を撮像し、撮像した画像である第1の撮像画像を用いて前記底部近傍の状態検査を行う測定光学系検査部を備えている。前記測定光学系検査部は、前記基板検査部が前記半導体基板の欠陥検査を行っていない間に、前記底部近傍の状態検査を行う。また、前記測定光学系検査部は、前記状態検査の基準となる基準画像と、前記第1の撮像画像と、を比較し、比較結果に基づいて、前記底部近傍の状態検査を行う。 (もっと読む)


【課題】マーキング装置の動作遅延と、印刷物の搬送速度を考慮して、位置精度良く欠陥位置にマーキングすることが可能な印刷物欠陥検査におけるマーキング信号制御方法を提供する。
【解決手段】基材に印刷された印刷物を検査し、欠陥を検出した場合にマーキング装置により欠陥位置にマーキングを行うための印刷物欠陥検査におけるマーキング信号制御方法であって、マーキング装置の動作遅延時間と印刷物の搬送速度から、マーキング信号を得てからマーキングするまでのマーキング装置の動作遅延時間内の印刷物の搬送量を求め、予め設定した検査位置からマーキング装置までの距離を示す固有遅延量から前記マーキング装置の動作遅延時間内の印刷物の搬送量を減算して本来遅延すべき遅延量を求め、前記本来遅延すべき遅延量に基づいてマーキング装置を動作させることを特徴とする印刷物欠陥検査におけるマーキング信号制御方法。 (もっと読む)


【課題】 より高い精度で紙葉類を処理することが出来る紙葉類処理装置、及び紙葉類処理方法を提供する。
【解決手段】 一実施形態に係る紙葉類処理装置は、紙葉類を搬送する搬送手段と、搬送される前記紙葉類に対して光を照射する照明手段と、前記紙葉類から画像を取得する画像取得手段と、搬送される前記紙葉類の深度と前記照明手段から放射される光の照度分布とに基づいて予め算出される補正係数を格納する補正係数格納手段と、前記補正係数により、前記画像取得手段により取得された前記画像を補正する補正処理手段と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】出力結果を読み取った画像と検査用画像とを比較することによる画像の検査において、モノクロ出力の場合や画像にスキューが発生している場合であっても画像の位置あわせを可能とすること。
【解決手段】検査用画像に含まれる形状のコーナーを抽出して検査用画像と読み取り画像との位置合わせ用の基準点として設定するマスター画像生成部402と、読み取り画像に含まれる形状のコーナーを抽出して検査用画像と読み取り画像との位置合わせ用の基準点として設定し、検査用画像について設定された基準点の位置と読み取り画像について設定した基準点の位置との差異に基づいて検査用画像と前記読み取り画像との位置合わせを行った後に、検査用画像と読み取り画像とを比較して検査を行う比較検査部405とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
表面検査装置では、より粒径の小さいPSLを使用することで、より小さい欠陥を検査することが可能となる。しかし、PSLの粒径は、有限である。このことから、従来の表面検査装置では、近い将来に半導体製造工程の検査で必要となるPSLに設定の無いほど小さい粒径の欠陥をどのように検査するかということに関しては配慮がなされていなかった。
【解決手段】
本発明は、被検査物体で散乱,回折、または反射された光の、波長,光量,光量の時間変化、および偏光の少なくとも1つを模擬した光を発生する光源装置を有し、前記光を表面検査装置の光検出器に入射させるより微小な欠陥を検査することができる。 (もっと読む)


【課題】 すき入れ及び紙端を鮮明に撮像し、すき入れが形成された位置をばらつきが生じることなく高い精度で測定する検査方法を提供する。
【解決手段】 あらかじめ各照明の点灯及び消灯タイミングを設定した後、ラインカメラにおいて紙端及びすき入れを個々に撮像して1つの検査画像を取得し、検査画像から紙端及びすき入れを示す座標を検出して紙端の座標からすき入れの座標までの距離を算出した後、算出した各座標間の距離が許容範囲か否かを判定してすき入れが形成された位置の合否判定を行う。 (もっと読む)


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