【課題】炭化珪素基板又は炭化珪素基板に形成されたエピタキシャル層に存在する欠陥を検出し、検出された欠陥を分類する検査装置を実現する。
【解決手段】本発明では、微分干渉光学系を含む走査装置を用いて、炭化珪素基板の表面又はエピタキシャル層の表面を走査する。炭化珪素基板からの反射光はリニアイメージセンサ（２３）により受光され、その出力信号は信号処理装置（１１）に供給する。信号処理装置は、炭化珪素基板表面の微分干渉画像を形成する２次元画像生成手段（３２）を有する。基板表面の微分干渉画像は欠陥検出手段（３４）に供給されて欠陥が検出される。検出された欠陥の画像は、欠陥分類手段（３６）に供給され、欠陥画像の形状及び輝度分布に基づいて欠陥が分類される。欠陥分類手段は、特有の形状を有する欠陥像を識別する第１の分類手段（５０）と、点状の低輝度欠陥像や明暗輝度の欠陥像を識別する第２の分類手段（５１）とを有する。 （もっと読む）

【課題】過度の欠陥検出を抑制することにより、不必要な欠陥修正を低減することのできる検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】センサ１０６からマスク１０１の光学画像を取得するし、光学画像におけるパターンの寸法と、判定の基準となる基準画像におけるパターンの寸法とを測定し、これらから第１の誤差を求める。マスク１０１上の光学画像と基準画像について各転写像を推定し、これらの転写像におけるパターンの寸法を測定して第２の誤差を求める。各転写像を比較し、差異が閾値を超えた場合に欠陥と判定する。欠陥と判定された箇所における第２の誤差を第１の誤差で補正する。 （もっと読む）

【課題】 検査対象における欠陥の形状が凹状又は凸状のいずれであっても検出可能とするとともに、光透過性を有しないものや低いもの、表面に光沢を有するシートなどについても検査の対象物とする。
【解決手段】 検査対象物の被検査面に対して光を照射し、その反射光を利用して被検査面の凹凸を検査する凹凸検査システム１であって、被検査面に対向する位置に配置されて当該被検査面に光を照射する同軸落射照明２２と、被検査面に対して斜め方向から光を照射する斜方照明２１とを用いて光を照射し、その被検査面を撮像して得られた画像にもとづいて凹凸の有無を検査する。 （もっと読む）

【課題】パターンの形成状態を高コントラストで検査可能にする。
【解決手段】カラーフィルタ基板４上に線状に形成されたシールライン５の形成状態を検査するパターン検査装置であって、シールライン５を撮影する検査カメラ２と、検査カメラ２の撮影領域を照明する照明光学系３と、を備え、照明光学系３によりカラーフィルタ基板４に照射される照明光の光線の光軸Ｌ_axに対する最大角度θ₁が検査カメラ２の画角θ₂の半角θ₂／２に略等しくなるようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】簡便かつ安価な装置構成で、搬送方向に直交する幅方向の全幅に亘って均一な検査を行うことができる表面検査装置を提供する。
【解決手段】長手方向に搬送される長尺状の酸洗鋼板１の表面に対して、照射光が搬送方向と直交する幅方向に平行なライン状であって、かつ、該酸洗鋼板１表面上で全幅に亘って搬送方向に互いにラップするように照射する２台のライン状拡散照明２，３と、酸洗鋼板１表面上で照射光がラップする領域Ｅ_Ｌを撮像する１台以上のエリアセンサカメラ４と、エリアセンサカメラ４を酸洗鋼板１の全幅をカバーするように幅方向に往復移動させるカメラ移動手段５とを備える。 （もっと読む）

【課題】従来技術では、メモリセル部等の繰り返しパターン部分以外では、検出感度（最小検出異物寸法）が低いという課題がある。これは空間フィルタの遮光パターンが一様であることに起因している。
【解決手段】本発明は、基板の異常を検査する検査装置において、基板に光を照明する照明光学系と、前記基板からの光を検出して像として結像する検出光学系と、前記像を用いて前記異常を検出する処理部と、を有し、前記検出光学系は、フーリエ面に配置された薄膜を有し、前記薄膜は、前記パターンに対応した遮光パターンを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】シート状物に発生した周期性の凹凸状欠陥を安価な装置構成で比較的単純な信号処理によってリアルタイムに判定し、信頼性の高い周期性欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】走行するシート状物の幅方向を照明する照明手段と、反射光を検出する撮像手段と、検出した欠陥を画像判定してシート状物の幅方向の位置情報を演算し、その幅方向の位置情報に基づいて複数の領域に分別する幅方向領域分別手段と、該幅方向領域分別手段から欠陥検出のタイミングで外部へ電気信号として出力する信号出力手段と、特定の周期性欠陥判定処理手段とを具備ことを特徴とするシート状物の周期性欠陥検査装置により、上記課題を解決しえる。 （もっと読む）

【課題】デバイスが形成されている半導体基板の全面について厚さムラを短時間で検査することができる検査装置を実現する。
【解決手段】本発明による検査装置は、半導体基板（７）のデバイス形成面とは反対側の裏面（７ａ）に向けて、前記半導体基板に対して半透明な照明光を照射する照明手段（１，２，３）と、半導体基板の裏面に入射し、デバイス構造面（７ｂ）で反射し、前記裏面側から出射した照明光を受光する撮像手段（１５）と、 撮像手段からの出力信号を用いて厚さムラを検出する信号処理装置（２０）とを具える。信号処理装置は、前記撮像手段からの出力信号を用いて、半導体基板に形成されているデバイスの半導体基板の裏面側から撮像した２次元画像を形成する手段（２１）と、撮像されたデバイスの２次元画像と基準画像とを比較し、画像比較の結果に基づいて前記半導体基板の厚さムラを検出する厚さムラ検出手段（２２，２３，２４）とを有する。 （もっと読む）

【課題】レンチキュラシートの微細な欠陥までを検出する。
【解決手段】光源部１５は、レンチキュラシート１１に対して、直線偏光された照明光をレンチキュラシートの幅方向と平行な線状にして照射する。撮影装置２１，２２は、照明光の照射方向に対して所定の角度で傾けられた方向から第２偏光板２３を介して照明光の照射領域Ｒを撮影する。第２偏光板２３は、その偏光方向が照明光の偏光方向と直交するものとされている。欠陥は、正常部分よりも輝度が高い部分として検出される。 （もっと読む）

【課題】搬送中のガラス板を停止させることなく、搬送方向に直交する向きの直交端面及びその近傍を撮像することのできるガラス板の端面撮像装置およびその撮像方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るガラス板の端面撮像装置５は、水平状態でガラス板を所定方向に搬送する搬送手段３と、搬送手段３で搬送されるガラス板２の搬送方向と直交する向きの直交端面４ａ（４ｂ）及びその近傍を撮像する撮像手段７（７ａ，７ｂ）と、撮像手段７（７ａ，７ｂ）を、ガラス板２の搬送方向に対して斜め方向に移動させる移動手段８と、ガラス板２の搬送時、撮像手段７（７ａ，７ｂ）と直交端面４ａ（４ｂ）との距離を一定に保ちつつ、撮像手段７（７ａ，７ｂ）を移動手段８により直交端面４ａ（４ｂ）に沿って移動可能とする移動制御手段９とを具備している。 （もっと読む）

【課題】 オペーレータの負荷を低減させるととも生産性を向上させ、かつ用紙の品質検査の精度を向上させる。
【解決手段】 用紙２の品質検査を行う用紙品質検査部５は、用紙２に印刷イメージを施すオフセット印刷部６の用紙搬送方向上流側に設けられている。用紙品質検査部５で不良と判定され、その不良紙が複数枚連続した場合、給紙装置４による給紙を停止するとともに、オフセット印刷部６のゴム胴３６の胴抜きを行い、かつ不良紙パイル９に排出するように制御する。 （もっと読む）

【課題】先端部の径を大型化させずに、側方の全周囲にわたる観察対象の画像を、同時に、歪ませることなく高解像に取得可能な全周囲観察光学系及びそれを備えた全周囲観察システムの提供。
【解決手段】軸Ｏに対して対称な角錐面をなし、且つ、夫々が軸Ｏに対して夫々対称な側方観察用の第１の瞳位置Ｐ１の近傍に配置され、側方の全周にわたる観察対象からの光を側方の３つ以上の領域ごとの光に分割して後方に反射する３面以上の反射面１ａと、軸Ｏ上に配置され、軸Ｏに対して夫々対称な側方観察用の第２の瞳位置Ｐ２に瞳位置Ｐ１における瞳を拡大してリレーするリレー光学系２と、瞳位置Ｐ１と共役な瞳位置に配置された３つ以上の側方観察用の開口絞り３ａと、開口絞り３ａに対応して配置された３組以上の側方観察用の結像光学系３ｂと、結像光学系３ｂに対応して配置された３つ以上の側方観察用の撮像素子３ｃを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プリント基板の検査装置に関する。
【解決手段】本発明によるプリント基板の検査装置は、第１レーザー光源と、第１レーザー光源から出射された光を基板に集光させる第１集光部と、第１集光部によって集光される光によって基板から発生した蛍光と第１レーザー光源から出射された光とを分離する第１二色性ビーム分離部と、第１二色性ビーム分離部を透過した光から基板の未メッキ状態を判定するための判定部と、を含み、基板に形成されたビアホールの内部側面にはメッキされていない未メッキ部分を含み、第１集光部から出射された光は基板と第１角度を有して入射され、ビアホールの内部側面の未メッキ部分に集光されることができる。これにより、回路基板の不良を迅速に判別することができる。 （もっと読む）

【課題】地合の変動による表面画像における輝度の度数分布に適合した閾値を設定することにより、表面欠陥の検出精度を向上させる。
【解決手段】撮像により得られた画像における平均輝度、標準偏差輝度、最大輝度および最小輝度に基づき、該画像の輝度の度数分布についての特徴量を算出する特徴量算出部４２と、算出された特徴量に基づき輝度の閾値を設定する閾値設定部４３と、設定された閾値に基づき撮像により得られた画像における欠陥画素を検出する欠陥検出部４５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】試料を検査するために使用される検査システムの欠陥検出を強化する。
【解決手段】光電子増倍管（ＰＭＴ）検出器の測定検出範囲の制限要因として陽極飽和に対処することによって欠陥検出を強化するための検査システム、回路、方法が提供される。検査システムの測定検出範囲の制限要因として増幅器及びアナログ・デジタル回路の飽和レベルに対処することによって欠陥検出を強化するための検査システム、回路及び方法も提供される。加えて、表面検査の走査の間に試料に供給される入射レーザ・ビームパワー・レベルを動的に変更することによって大きな粒子に対する熱破損を削減することにより欠陥検出を強化するための検査システムや回路、方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】平板ガラスの内部に含まれた異物を、ガラス品質に影響を及ぼす異物と、ガラス品質に影響を及ぼさない異物とに正確に判別する。
【解決手段】平板ガラスの異物検査装置は、平板ガラス１の上部または下部領域に設けられる照明部３１と、照明部３１と平板ガラス１との間に設けられる第１偏光板１１と、照明部３１に対して反対方向に取り付けられる第１及び第２カメラ１０、２０と、第１カメラ１０と平板ガラス１との間に設けられ、第１偏光板１１の偏光方向と０゜乃至２０゜の範囲の偏光方向を有する第２偏光板１３と、第２カメラ２０と平板ガラス１との間に設けられ、第１偏光板１１の偏光方向と７０゜乃至９０゜の範囲の偏光方向を有する第４偏光板１７と、第１及び第２カメラ１０、２０から獲得した映像を入力し、良品性異物であるか、または不良性異物であるかを判別する処理部５０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】搬送時に得られた画像を基準画像として高速処理を単独カメラユニット毎に実現する通常検査処理と、予め製作してある画像を基準画像として複数カメラユニットの画像を合成処理する版検査処理を併用する検査方法を提供する。
【解決手段】表面、又は裏面、又はその両面に印刷が施され、搬送される印刷物の検査方法であって、印刷物表面または／および印刷物裏面に照明を照射する照明段階と、前記印刷物の搬送と同期を取るかまたは所定時間間隔で、前記印刷物を撮像する撮像段階と、前記撮像段階にて得られた前記印刷物の画像データを用いて、前記印刷物に存在する欠陥を判定する画像処理・欠陥判定段階と、を有し、前記画像処理・欠陥判定段階は、搬送時に得られた画像を基準画像として処理を実現する通常検査段階と、予め製作してある画像を基準画像として処理を実現する版検査処理段階と、を有することを特徴とする印刷物の検査方法。 （もっと読む）

【課題】
検査装置の感度設定にかかる処理時間とユーザ負担を低減すると共に、ＬＳＩテスタによる電気的特性検査にかかるコストの増加、及び、電気特性検査が困難な領域の発生に対処する。
【解決手段】
パターンが形成された試料に光源から発射された光を照射し、この光が照射された試料からの反射光を検出器で検出して画像を取得し、この取得した画像を処理して該画像の特徴量を抽出し、この抽出した画像の特徴量を予め設定した基準値と比較して試料上の欠陥を検出する欠陥検査方法において、予め設定した基準値をパターンが形成された試料を別の検査装置で検査して得た試料の検査結果を用いて作成するようにした。 （もっと読む）

【目的】コヒーレント光の干渉性をより排除することが可能な照明装置を提供する。
【構成】照明装置３００は、コヒーレント光を発生する光源１０３と、ランダムに配置された、波長以下の高さの複数の段差領域が形成され、光源からの光線を通過させて位相を変化させる回転位相板１４と、複数のレンズがアレイ状に配列され、回転位相板を通過した光線を通過させるインテグレータ２０と、を備え、複数の段差領域の最大サイズと回転位相板から蝿の目レンズの入射面までの光学倍率の積が、複数のレンズの配列ピッチ以下となる箇所と、複数のレンズの配列ピッチより大きくなる箇所とが混在するように構成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】検出感度の向上には、画素の検査サイズを小さくしてＳ／Ｎ比を向上させることや、領域別に最適なアルゴリズムを用いて処理する方法が有効である。しかし、処理データ量が増加するため、処理時間増加によるスループットの低下、処理回路の並列化による回路規模増加およびコストが増加する、という課題がある。
【解決手段】検査領域の量から処理時間が最短、および回路規模が最小のうち少なくとも１つの条件を満たす処理基板とアルゴリズムとの組み合わせを得る。 （もっと読む）