【課題】 ウェハを検査する際の下地の影響を低減させた検査装置を提供する。
【解決手段】 検査装置１は、複数種の波長を有する照明光でウェハを照明する照明部３０と、照明光により照明されたウェハを撮影する撮影部４０と、複数種の波長毎に所定の重み付けを行って撮影部４０により撮影されたウェハの検査用撮影像を生成するとともに、生成した検査用撮影像に基づいてウェハにおける欠陥の有無を判定する画像処理部２７とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】解決しようとする課題は、面積が広くなり高密度化された試料の表面形状の測定に際して、高速化及び高精度化である。
【解決手段】表面検査装置は、第１照射部から照射される第１の照射方向からの照射光と、第２照射部から照射される第２の照射方向からの照射光とを照射方向を切り替えて、それぞれの照射部から照射された第１波長の光を試料の一面で反射させて、また、第２波長の光を試料保持部の一面側に取付け固定された光学部材で反射させ、双方から反射された光に基づいて生成された第１輝度データ及び第２輝度データを用いて試料表面の形状を算出するものである。 （もっと読む）

【課題】 反射画像と透過画像とを同時に同じ位置で撮影することができる太陽電池セル検査装置を提供する。
【解決手段】 半導体ウエハ２の第一面に向かって可視光を照射する第一照射部４と、半導体ウエハ２で反射した可視光を受光することにより、半導体ウエハ２の反射画像を取得する第一撮像部５と、半導体ウエハ２の第一面に対向する第二面に向かって赤外光を照射する第二照射部６と、半導体ウエハ２を透過した赤外光を受光することにより、半導体ウエハ２の透過画像を取得する第二撮像部７と、反射画像及び透過画像に基づいて、半導体ウエハ２に欠陥があるか否かを判定する判定部２１ｄとを備える太陽電池セル検査装置１であって、第一撮像部５及び第二撮像部７との間に配置されるビームスプリッタ１１を備え、ビームスプリッタ１１は、設定波長未満の光を第一撮像部５に導くとともに、設定波長以上の光を第二撮像部７に導くことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ウェハ上の欠陥によって散乱される光は非常に弱く、その微弱光を高速かつ高感度に測定する検出方法としてはＰＭＴやＭＰＰＣがある。上記検出方法では、微弱光を光電変換して、電子を増倍する機能があるが、光電変換の量子効率が５０％以下と低いため、信号光を損失し、Ｓ／Ｎ比を低下させるという課題がある。
【解決手段】そこで、本発明では、光電変換をする前に直接光を増幅する光増幅に着目した。光増幅とは、信号光と励起用光源の光とを希土類を添加したファイバに導入し、誘導放出を起こして信号光を増幅する増幅方法である。本発明は、この光増幅を利用することを特徴とする。また、本発明は、この増幅率を様々な条件により変えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複雑形状をした物体の外観検査において、目視では検出困難な形状の不良を定量的に評価し、検出する物体の外観検査方法及びその装置を提供することにある。
【解決手段】
物体の外観を検査する方法を、検査対象物体を載置して少なくとも一方向に連続的に移動させながら検査対象物体を撮像して検査対象物体の表面のテクスチャ情報を含む検査対象物体の画像を取得しながら検査対象物体の表面凹凸情報を取得し、この取得した検査対象物体の表面凹凸情報から検査対象物体の立体形状を復元し、取得した画像と復元した検査対象物体の立体形状とから表面テクスチャを持った物体の外観情報を得、この得られた外観情報から複数の特徴を抽出し、この抽出した複数の特徴のうち少なくとも１つの特徴を予め設定した参照データの前記少なくとも１つの特徴に対応する特徴と比較して検査対象となる物体の外観を評価するようにした。 （もっと読む）

【課題】配置の制約が少なく、かつ照度不足および照度ムラが生じにくい投影装置を提供する。
【解決手段】撮像部の撮像対象物に対して光を投影する投影装置２００であって、放射する光の波長帯が互いに異なる赤色ＬＥＤ２４０Ｒ、緑色ＬＥＤ２４０Ｇおよび青色ＬＥＤ２４０Ｂと、撮像対象物の特性に基づき、各ＬＥＤが放射する光の光量を制御する投影制御部２３０と、複数のＬＥＤから放射される光を、同一の光軸上に導くことにより、撮像対象物に対して光を投影するリレー部２５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ドライフィルムが積層された基板の蛍光イメージと散乱光イメージ、そして反射光イメージをさらに検出して、露光工程で発生する様々な欠陥を容易に検出できるようにしたパターン欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】光を生成して出射する光源１１と、光源１１から出射される光を基板２０にスキャンするスキャンミラー１４と、基板２０で蛍光された蛍光イメージを検出する蛍光イメージ検出部１７と、基板２０で散乱された散乱光イメージを検出する散乱光イメージ検出部１９と、を含むものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プリント基板の検査装置に関する。
【解決手段】本発明によるプリント基板の検査装置は、第１レーザー光源と、第１レーザー光源から出射された光を基板に集光させる第１集光部と、第１集光部によって集光される光によって基板から発生した蛍光と第１レーザー光源から出射された光とを分離する第１二色性ビーム分離部と、第１二色性ビーム分離部を透過した光から基板の未メッキ状態を判定するための判定部と、を含み、基板に形成されたビアホールの内部側面にはメッキされていない未メッキ部分を含み、第１集光部から出射された光は基板と第１角度を有して入射され、ビアホールの内部側面の未メッキ部分に集光されることができる。これにより、回路基板の不良を迅速に判別することができる。 （もっと読む）

【課題】合焦精度を向上させる。
【解決手段】高感度のラインセンサ１６Ｂは、レーザ照明部１１により照明された対象物２の光点像の光量から得られる高輝度の受光データを取得し、低感度のラインセンサ１６Ａは、対象物２の光点像の光量から得られる低輝度の受光データを取得し、データ処理部１７は、正常時は、高感度のラインセンサ１６Ｂからの高輝度の受光データを選択し、高輝度の受光データを得るときのレーザ光が飽和した場合、低輝度の受光データを選択する。そして、検出部１８は、データ処理部１７により選択された受光データに基づいて、対象物２の像の合焦状態を検出することで、対象物２の像の合焦状態が確実に検出されるので、合焦精度を向上させることができる。本発明は、例えば、対象物の断面形状を測定する測定装置に用いられる位置検出装置に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】パターン形状の測定精度を向上させた検査装置を提供する。
【解決手段】下地層の上に所定のパターンを有するウェハ５のパターンを検査する検査装置であって、対物レンズ７の瞳面もしくは該瞳面と共役な面における領域毎の光の強度情報を検出する撮像素子１８と、パターンの形状変化に対しては強度情報の変化が異なり、下地層の変化に対しては強度情報の変化が同程度である、瞳面もしくは該瞳面と共役な面内の第１領域と第２領域の位置情報をそれぞれ記憶する記憶部と、撮像素子１８で検出される、第１領域の強度情報と、第２領域の強度情報との差異に基づいてパターンの形状を求める演算処理部２０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】
検査対象基板において不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する課題があった。
【解決手段】
光源から出射した光を検査対象基板上の所定の領域に所定の複数の光学条件をもって導く照明工程と、前記所定領域において、前記複数の光学条件に対応して生じる複数の散乱光分布の各々につき、所定の方位角範囲および所定の仰角範囲に伝播する散乱光成分を受光器に導き電気信号を得る検出工程と、該検出工程において得られる複数の電気信号に基づいて欠陥を判定する欠陥判定工程とを有することを特徴とする欠陥検査方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】角度検出感度を向上させるとともに、検出可能な角度範囲を広くする。
【解決手段】波長域が互いに異なる山形輝度分布が互いに重なり合うように帯状面光源を構成し、各波長域の撮影画像の該山形輝度分布に対応する画素値分布に基づいて検査面の角度を２段階で検出する。第１段階では、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素値間の大小関係と曲線近似情報とに基づいて、光源面上周期内参照光位置ｘを決定し、第２段階では、明度の値と曲線近似情報とに基づいて、周期内参照光位置ｘがどの周期ｉに属するか、すなわち、周期始点位置Ｘｉを求める。次いで参照光位置Ｘ＝Ｘｉ＋ｘを検査ラインでの検出角に変換する。 （もっと読む）

【課題】すべての製品についての溶接欠陥を早期に検出すること。
【解決手段】ワークが箔状のアルミニウム合金からなり、溶接部位から散乱される光波のうち反射光を集光する反射光集光部と、赤外光を集光する赤外光集光部と、各集光部で集光された光波から所定波長の反射光と赤外光とを抽出し電気信号に変換して溶接状態判別処理部に送る各センサ部と、上記各信号を溶接部位が固化されるまでの時間監視する溶接状態判別処理部１１とからなる。該溶接状態判別処理部は反射光と赤外光について時間ごとの検出強度を監視する制御・演算手段と、出力手段と、記憶手段とを備え、先ず反射光につき所定の時間２ｍｓ経過後の検出強度のピーク値が予め定められた閾値２０以上である場合において、赤外光の検出強度のピーク値が予め定められた閾値０．６以上であるときは「顕らかな欠陥」と判別し、上記閾値Ｂ未満であるときは「隠れた欠陥」と判別する。 （もっと読む）

【課題】
試料全面を短時間で走査し，試料に熱ダメージを与えることなく微小な欠陥を検出することができるようにする。
【解決手段】
光源から発射されたパルスレーザをパルス分割し、パルス分割したパルスレーザを回転しながら一方向に移動している試料の表面に照射し、パルス分割されたパルスレーザが照射された試料からの反射光を検出し、反射光を検出した信号を処理して試料上の欠陥を検出し、検出した欠陥に関する情報を表示画面に出力する欠陥検査方法において、パルス分割したパルスレーザの光強度の重心位置をモニタし、モニタしたパルス分割されたパルスレーザの光強度の重心位置を調整するようにした。 （もっと読む）

【課題】位相欠陥と、パターン欠陥または異物とを、同時に検出可能な検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】検査装置１００は、透過照明光学系３０１によってマスク１０１の一方の面に光を照射し、マスク１０１を透過した透過光を透過結像光学系３０３を介して第１のフォトダイオードアレイ１０４に結像する。また、反射照明光学系３０２によってマスク１０１の他方の面に光を照射し、マスク１０１で反射した反射光を反射結像光学系３０４を介して第２のフォトダイオードアレイ１０５に結像する。透過照明光学系３０１の瞳面には第１の開口絞り２０３が配置され、透過結像光学系３０３の瞳面には、第１の開口絞り２０３と共役な形状であって位相差フィルタを備えた第２の開口絞り２０８が配置されている。 （もっと読む）

原石の画像を取得し、前記画像の定量的な解析を行い、原石の特性の尺度を得るシステムである。当該システムは、原石を観測位置に支持するサポート構造を有する。照射構造は、原石を照射するように配置される。照射構造は、観測位置に向かうように配向された、複数の指向性光源を有し、サポート構造および照射システムは、回転軸の周りを、相互に対して回転可能であり、原石は、複数の回転位置の各々において、1または2以上の指向性光源によって照射され、回転軸は、原石の選定されたファセットに対して垂直である。回転位置の各々での原石の画像を取得するため、原石に向かって画像化装置が配向され、この画像化装置は、回転軸に平行なまたは前記回転軸に一致する画像化軸を有する。個々の光源からの個々のファセットによる反射に対応する画像において、スパークル領域を同定し、該スパークル領域の特性に基づいて、原石の定量的尺度を提供する画像プロセッサが提供される。

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【課題】球面の全部又は一部を表面に有する検査対象物の表面を広範囲に且つ高精度に検査することのできる表面検査装置及び表面検査システムを提供する。
【解決手段】本発明の表面検査装置１は、平行光を発する光源部１１と、光源部１１が発した平行光を検査対象球２に向けて集光すると共に、集光された光が検査対象球２の球面部分で反射した反射光を受ける集光レンズ１２と、検査対象球２を撮像する撮像素子１５と、集光レンズ１２を通過した反射光を受けて、検査対象球２の球面部分の像を撮像素子１５上に結像する結像レンズ１４と、を具備する。 （もっと読む）

【目的】粗密パターン各々に対して、高い信号強度を得ることが可能なパターン検査装置提供することを目的とする。
【構成】パターン検査装置１００は、パターン形成されたフォトマスク１０１を照明する照明光学系１７０と、照明によってフォトマスク１０１から得られる第１の光学画像を複数の第２の光学画像に光学的に分離するビームスプリッタ１３１と、分離された複数の第２の光学画像を用いて、少なくとも一部の信号強度が異なる複数の光学画像データを生成する複数のセンサ回路１０６，１３６と、複数の光学画像データの１つと比較するための基準画像データを生成する参照回路１１２と、画素毎に、数の光学画像データの１つと基準画像データとを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の画像データから高精細な画像を表す高精細画像データを生成する高精細画像生成処理において、生成する高精細画像の出力時における画質の低下が抑制されるような画像データを生成することを可能とする。
【解決手段】画像生成装置は、生成する高精細画像データの出力に用いる出力装置に関する情報を出力装置情報として取得し、出力装置情報に基づいて出力装置での出力に適した高精細画像の画像サイズを生成画像サイズとして設定する生成画像サイズ設定部を備える。また画像生成装置は、複数の画像データから、時系列に並んだ複数の画像データを合成元画像データとして取得し、取得した合成元画像データを合成して、設定した生成画像サイズの高精細画像を表す高精細画像データを生成する画像合成部を備える。 （もっと読む）