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Fターム[2G051DA05]の内容

光学的手段による材料の調査の特殊な応用 (70,229) | 被検体のハンドリング、駆動制御 (5,089) | 調査手段内での移動、位置合わせ (3,792)

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【課題】物体表面画像の縁部分の領域において適正な画像処理済の施された画像を得ることのできる画像処理方法を提供するものである。
【解決手段】画素単位の濃淡値により構成され、物体表面画像を含む被処理画像を取得する画像取得ステップ(S11)と、前記被処理画像において設定された前記物体表面画像の縁線を含み、該縁線に直交する方向に所定幅となる領域の画像を縁部画像として特定する縁部画像特定ステップ(S13)と、前記縁部画像を前記所定幅に相当する幅の矩形画像に変換する変換ステップ(S14)と、前記矩形画像に対して、その幅方向に直交する方向に並ぶ複数画素の濃淡値を順次処理する1次元画像処理を施す画像処理ステップ(S15)と、前記1次元画像処理の施された前記矩形画像を元の領域の画像に逆変換して処理済縁部画像を生成する逆変換ステップ(S16)とを有する構成となる。 (もっと読む)


【課題】パターンの異なるウェハに対して自動学習機能を備えたウェハパターン検査方法及び装置を提供する。
【解決手段】ウェハパターン検査方法及び装置は、検査対象であるウェハのパターン又はチップの検査画像を入力し、入力した検査画像と予め記憶されたリファレンス画像とを比較し、比較画像の相違量よりパターン又はチップの良否を判定する段階を備える。検査中に良品率が所定の閾値以下に低下した場合、ずれたパターン又はチップの画像をリファレンス画像として学習処理を再度行う。そして学習処理でパターンを学習した後に均一なパターンを探し、均一なパターン部分であれば、パターン検査以外のピッチ検査などの検査でウェハの検査を行うか、あるいは均一パターン部分でパターン検査とピッチ検査を同時に行ない、パターン検査の感度を決定し、決定した感度でウェハ全面のパターン又はチップを検査する。 (もっと読む)


【課題】内筒の内側にチャンバを形成することにより、内筒の円周方向に延びる円弧状溝の長さの範囲内で複数の連通孔を設けることができ、必要な有効流路断面積を容易に確保できるロータリバルブ装置を提供する。
【解決手段】固定側部材である内筒51と回転側部材である外筒52とを備え、外筒52が内筒51に対して摺接しながら回転することにより、内筒51の外周面に形成された円弧状溝51aと外筒52に形成された連通孔52hとが断続的に連通するように構成されたロータリバルブ装置50において、内筒51の内側に固定軸39を設けて内筒51を固定軸39に固定するとともに内筒51と固定軸39との間に所定容量のチャンバ53を形成し、内筒51に、円弧状溝51aの底部とチャンバとを連通する複数の連通孔51hを設けた。 (もっと読む)


【課題】より短時間で欠陥を撮像できる欠陥観察装置および欠陥観察方法を得ること。
【解決手段】この欠陥観察方法は、観察対象物の欠陥および基準マークの位置座標を取得するステップと、欠陥を検出して、この検出された欠陥位置に応じて位置座標を補正する第1の方法で欠陥を撮像するのに必要な第1の時間を算出するステップと、基準マークを検出して、この検出された基準マーク位置に応じて位置座標を補正する第2の方法で欠陥を撮像するのに必要な第2の時間を算出するステップと、第1、第2の時間を比較するステップと、比較結果に応じて、第1または第2の方法で位置座標を補正して欠陥を撮像するステップとを具備する。 (もっと読む)


【課題】暗視野検査装置の測定結果を微小領域まで保証できる技術を提供する。
【解決手段】表面に不規則な凹凸パターンのマイクロラフネスが精度よく形成され、その表面のマイクロラフネスの粗さが保証されたバルクウエハを基準ウエハとして暗視野検査装置の校正を行う。マイクロラフネスは、薬液による化学処理により精度よく形成することができる。このようなマイクロラフネスをAFMを用いて測定し、測定値を基にヘイズ期待値を求める。その後、校正する暗視野検査装置で基準ウエハの表面のヘイズを測定してヘイズ実測値を求め、ヘイズ期待値とヘイズ実測値との差を求める。この差を基にヘイズ実測値がヘイズ期待値と合致するように暗視野検査装置のヘイズ測定パラメータを調整する。 (もっと読む)


【課題】欠陥修正工程の作業効率を著しく向上させ、装置コストや工数比を低減させる。
【解決手段】繰り返しパターンが形成された基板を検査し、前記繰り返しパターン内の欠陥の位置情報および前記欠陥の特徴情報を抽出する欠陥検出部と、複数の欠陥修正手法が登録されたデータベースを備える。また、前記基板の欠陥を指定された欠陥修正手法により修正する欠陥修正部を備える。さらに、前記欠陥検出部で検出された欠陥に対応する欠陥修正手法を、前記基板のレイヤ構造に基づいて前記データベースから読み出し、当該欠陥修正手法を利用して前記欠陥の修正を実行する前記欠陥修正部を制御する制御部と、を備えることを特徴する。 (もっと読む)


【課題】タブルパターニングに用いられるマスクの検査を精度良く行うことが可能なマスク検査装置及びマスク検査方法を提供する。
【解決手段】2枚のマスクの光学画像を取得し(S100)、取得した2枚のマスクの光学画像を合成する(S102)。合成された画像において1枚目のマスクのパターンと2枚目のパターンとの相対位置ずれ量を測定する(S104)。測定した相対位置ずれ量を基準値と比較し、2枚のマスクの良否を判定する(S106)。 (もっと読む)


【課題】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡等で詳細に観察する装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ装置規模を小さくできる装置を提供する。
【解決手段】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。 (もっと読む)


【課題】ハードディスク用のパターンドメディアの検査において、パターン形状及びサーボパターンの位置ずれの欠陥を高速に検査する方式を提供する。
【解決手段】設計情報1を用いて検査領域2を指定し、スキャットロメトリー法によって測定するための領域分割3を行い、得られた検出データをパターン分類4し、周期領域5と非周期領域6に分類する。光センサによって分光特性を検出7し、特徴量を抽出8する。抽出された特徴量8と、特徴量マップデータベース11に蓄えられた特徴量を領域毎に比較することによってパターンドメディアの状態を評価する。 (もっと読む)


【課題】判定結果の信頼性を向上させることができる物品検査装置を提供すること。
【解決手段】被検査物Wを搬送する搬送部2と、搬送部2により搬送される被検査物Wを同一検査条件で複数回検査して、検査毎に被検査物Wが良品または不良品のいずれであるかの仮判定を行う仮判定部5と、仮判定部5が検査毎に複数行った仮判定に基づいて、被検査物Wが良品または不良品のいずれであるかの本判定を行う本判定部6と、を備えた。また、本判定部6が、仮判定部5が行った複数の仮判定のうち良品の仮判定が不良品の仮判定よりも多かったとき、被検査物Wが良品であるとの本判定を行う。 (もっと読む)


【課題】高速,かつ高精度に試料上の微小突起物の高さ検査を行えるようにする。
【解決手段】光源201からの光は第1のハーフミラー221、偏光器202、結像レンズ203,204、折り返しミラー205、対物レンズ206を介して試料2001に入射する。試料2001からの反射光は同一の経路を逆に通り、第1のハーフミラー221で反射し、第2のハーフミラー222で2本の検出ビームに分割される。2本の検出ビームは各々第1の検出側結像レンズ2081における第1のナイフエッジ2071と第2の検出側結像レンズ2082における第2のナイフエッジ2072によって半円状の光ビームに整形され、各々第1の光センサ2101と第2の光センサ2102によって検出される。第1のナイフエッジ2071と第2のナイフエッジ2072は直角方向となっているので、試料2001への入射ビームの偏向方向によらず均一な感度で,試料上の微小突起物の検査を高速で行うことが可能となる。 (もっと読む)


【目的】パルス光を用いた場合のTDIセンサの出力変動を補正可能な検査装置を提供することを目的とする。
【構成】パターン検査装置100は、パルス光源103と、フォトマスク101を載置するXYθテーブル102と、パルス光がフォトマスク101に照射されて得られるフォトマスク101の光学画像を撮像するTDIセンサ105と、照射された後のパルス光の光量を検知する光量センサ172と、検知された光量を入力し、パルス光の周期に同期させて、パルス毎の光量を測定する光量モニタ回路142と、パルス毎の光量とTDIセンサ105から出力された積分された画素値を入力し、光学画像の画素毎に、該当するパルス毎の光量の総光量を用いてTDIセンサ105から出力された積分された画素値を補正するセンサ回路106と、補正後の積分された画素値を用いて、パターンの欠陥の有無を検査する比較回路108と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】欠陥部分を拡大するなどして詳細に検査する時に、ステージの移動量をできるだけ少なくして、画像取得時間を短縮し、効率よく欠陥を観察することができる資料の観察方法及びその装置を提供する。
【解決手段】検査装置で検出した試料の欠陥の情報に基づいて試料を撮像して試料の欠陥を含まない参照画像を得、検査装置で検出した試料の欠陥の情報に基づいて欠陥が撮像の視野に入るように試料の位置を調整し、この位置を調整した試料を撮像して試料の欠陥を含む欠陥画像を得、参照画像と欠陥画像とを比較してこの欠陥画像中の欠陥を検出し、撮像の視野内の検出した欠陥を含む一部の領域を撮像して欠陥の拡大画像を得、この欠陥の拡大画像を画面上に表示することを特徴とする試料の観察方法。 (もっと読む)


【課題】印刷物を擬似欠陥検出が少なく、高精度に検査することが可能な印刷物検査方法を提供すること。
【解決手段】基材の少なくとも一方の面に印刷が施された印刷物を検査する方法であって、前記印刷物に白色光を照射する照明段階と、前記印刷物の搬送と同期を取るかまたは所定時間間隔で、前記印刷物を撮像する撮像段階と、前記撮像段階にて得られた印刷物の画像データ中で検査対象としない非検査エリアを設定する、非検査エリア設定段階と、前記画像データを用いて、前記印刷物に存在する欠陥を判定する画像処理欠陥判定段階と、を有し、前記非検査エリア設定段階では、非検査エリアは画像データ中の輝度差のある箇所に設定され、かつ、非検査エリアのサイズを輝度差の大きさによって調節することを特徴とする印刷物の検査方法。 (もっと読む)


【課題】反射型フォトマスクのパターン検査の精度が向上するとともに、検査に要する時間を短縮することのできる反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、その検査方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に形成された第一の反射膜と、第一の反射膜上に形成された電圧を印加することにより発光する発光層と、発光層上に形成された吸収体と、吸収体上に形成された遮光膜と、遮光膜上に形成された第二の反射膜と、を備えることを特徴とする反射型フォトマスクブランク。 (もっと読む)


【課題】異物を感度よく検出することができる光学式の異物検出装置およびこれを搭載した処理液塗布装置を提供すること。
【解決手段】ステージ2上に水平状態に載置された被処理基板1と、前記基板1の幅方向に延びるスリット状吐出開口11bを有する処理液供給ノズル11とを相対的に移動させて処理液供給ノズル11から帯状に吐出される処理液を、基板1の表面に塗布するように構成される。前記処理液供給ノズル11の相対移動方向の前方に投光部5と受光部6からなる光透過形センサユニットが搭載されている。前記センサユニットの相対移動方向に沿って複数の検査エリアが設定され、異物の移動方向の履歴を追ってセンサユニットによる受光データを集計することで、異物に対する反応感度を向上させた光学式の異物検出装置が提供される。 (もっと読む)


【課題】大型のガラス基板の目視検査を容易にする検査装置の提供
【解決手段】この検査装置100は、検査ステージ102と、検査ステージ102に対してガラス基板10を相対的に動かす駆動機構141を備えている。さらに、この検査装置100は、駆動機構141がガラス基板10を動かす方向に対して幅方向外側からガラス基板10を見た像を、検査ステージ102から確認できるように映す観察部108を備えている。この検査装置100によれば、ガラス基盤10の目視検査が容易になる。 (もっと読む)


【課題】溝内の異物検査において取込み画像の認識精度を向上する画像処理方法を提供する。
【解決手段】溝ごとの画像の輝度を計測する計測段階(S201)と、所定の溝の両隣に位置する溝の画像の輝度を平均した輝度を利用し、所定の溝の画像の輝度を補正するゲインを算出するゲイン算出段階(S202)と、このゲインを利用し、所定の溝の画像の輝度を溝ごとに補正するゲイン補正段階(S203)と、を含む。一定の間隔で配置される直線状の溝において、所定の溝の両隣に位置する溝の画像の輝度は、所定の溝の画像の輝度と線形の関係を有している。このため、検査環境の影響を受けていない所定の溝の画像の輝度を推定することができる。 (もっと読む)


【課題】ハードディスクの検査対象領域に対する照明光の光量の安定化・均一化を図り、ディスク表面(記録面部分)及び端面(エッジ部)の同時検査や両面の同時検査への適用にも好適なハードディスク検査装置を提供する。
【解決手段】垂直姿勢で保持されたディスク(12)の面に対し、照明装置(112,114,116,118)からエッジを含んだ検査領域の形状と略同一形状の照射範囲となる照明光パターンの照明光を照射し、当該エッジを含んだ検査領域部分からの反射光をカメラ(102,104)によって撮像する。ディスク(12)の表面側及び裏面側の各検査面に対して、それぞれ1台ずつ光源装置(310,311)を備え、1台の光源装置(310又は311)から光ファイバー(312又は313)を2分岐して、ディスク検査領域に対して2方向(左右)から対称的に照明する。 (もっと読む)


【課題】塗布装置の稼働率を向上させることにより、塗布基板の低コスト化を図ることができる塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板に塗布液を塗布する塗布ユニットと、基板に付着した異物の存在を検知する検知ユニットと、前記検知ユニットからの異物情報に応じて前記塗布ユニットを制御する制御装置とを備え、前記制御装置は、前記検知ユニットからの異物情報から基板上における異物位置情報を得、その異物位置情報に基づいて基板に付着した異物を回避するように前記塗布ユニットを駆動制御するように構成する。 (もっと読む)


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