説明

Fターム[2G051DA05]の内容

光学的手段による材料の調査の特殊な応用 (70,229) | 被検体のハンドリング、駆動制御 (5,089) | 調査手段内での移動、位置合わせ (3,792)

Fターム[2G051DA05]の下位に属するFターム

Fターム[2G051DA05]に分類される特許

161 - 180 / 489


【課題】液晶表示装置用の基板に付着した異物を、その大きさと導電性との2つの観点から検査する方法および装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置用の基板に付着した金属元素含有異物の有無を検査する方法であって、前記基板に付着した異物の大きさと位置とを検出する第1検査ステップと、第1検査ステップで検出された位置に位置合わせして、その異物が金属元素を含有するか否かについて検査する第2検査ステップとを備えることを特徴とする検査方法。 (もっと読む)


【課題】中心オブスキュレーションがない高開口数(NA)の反射屈折対物系、及びそのアプリケーションを開示する。
【解決手段】このような対物系は、深紫外線(DUV)放射を含む放射の広いスペクトルバンド幅で作用することができる。反射屈折対物系の屈折要素は、1タイプの材料(例えばCaF2及び/又は溶融石英など)から製造できることが重要である。また、このような反射屈折対物系の要素は光軸に対して回転対称である。反射屈折対物系は、(1)偏光ビームスプリッタ(第一偏光放射を通過させ、第二偏光放射を反射する)を使用する、及び/又は(2)1つ又は複数の折り畳みミラーを使用して、オフアクシス放射を反射屈折対物系の瞳内へと誘導することによって、中心オブスキュレーションを解消する。例示的反射屈折対物系が図2に図示されている。 (もっと読む)


【課題】 一般に入手が容易である1台の二次元カメラと1台の照明と稼動ステージと画像処理装置という通常の表面検査装置の構成で、欠陥が凸であるか否かの判定を可能とし、短時間で検査処理が実現できる表面検査装置を提供すること。
【解決手段】 検査物を載置するステージと、一の照明、光学系、平面画像を取得する一の画像取得部、からなる撮像装置と、前記ステージと前記撮像装置とを相対的に移動させる移動制御部と、画像記憶部と、欠陥検出部と、前記欠陥検出部で欠陥が検出された画像を第1の画像とし、当該第1の画像を取得した時の前記ステージと前記撮像装置との位置関係と異なる位置関係で当該第1の画像と同一の欠陥が含まれる第2の画像を取得し、当該第1の画像と第2の画像の位置合せを行う画像位置合せ部と、位置合せがされた第1の画像と第2の画像を比較し、欠陥が凸状態であるか否かを判定する凸判定部とを有する。 (もっと読む)


【課題】レンズの製造効率及び欠陥の検査効率を向上するレンズヤトイを提供する。
【解決手段】ヤトイ11は、台座12、蓋13、マスクプレート15とからなる。台座12には、表裏を貫通して設けられた第1開口16が所定の配列で複数設けられており、第1開口16にレンズ14が載置される。蓋13には、レンズ14よりも小さい第2開口22が第1開口16と同じ配列で複数設けられており、第1開口16に第2開口22が各々対応するように台座12に被せられ、台座12とともにレンズ14を挟持する。マスクプレート15は、暗色で、第2開口22よりも小さく、第1開口16及び第2開口22と同じ配列で複数の第3開口26が設けられており、レンズ14の欠陥検査を行うときに、第1開口16及び第2開口22に第3開口26が各々対応するように、蓋13上に被せられる。 (もっと読む)


【課題】
曲率の違いや光学デバイスの位置に影響されない高速かつ安価な光学デバイス欠陥検査方法及び光学デバイス欠陥検査装置を提供すること。
【解決手段】
撮像手段3の焦点を被検査レンズ2に合わせ、撮像手段3により撮像される被検査レンズ2画像内のドットパターン8の濃度差が無くなる位置まで光源5を被検査レンズ2より移動させ、濃度差の無い画像内に生じる画像の歪み11により被検査レンズ2の欠陥を検出する。 (もっと読む)


【課題】ピックアップ機構などの振り分け装置を用いることなく、低コストで良否の判定結果に基づく振り分けを行えるようにした自動検査装置を提供する。
【解決手段】検査対象であるプリント基板を保持するステージ2、このステージ2によって保持されたプリント基板をカメラ43の画像取得領域46まで移動させる移動機構3とを備え、カメラ43によって撮影された画像に基づく良否の結果に基づいて検査対象物を回収部5する自動検査装置1において、ステージ2を左右一対の保持体要素21で構成し、これら保持体要素21間の距離をカメラ43による判定結果に基づいて画像取得領域46の後段で拡大させるプリント基板を落下させる平行リンク機構20を設ける。 (もっと読む)


ウェハ検査システムは、300mmウェハ全体の明視野像及び暗視野像を得るための明視野撮像ビーム経路及び暗視野撮像ビーム経路を有する。光学系は、テレセントリック撮像を提供し、光学収差が低い。前記明視野撮像ビーム経路及び暗視野撮像ビーム経路は、折り曲げられ、前記光学系は、容積が小さく設置面積が少なくて済むように一体化され得る。 (もっと読む)


【課題】孤立パターンの位置ずれ欠陥を検出可能なレチクル欠陥検査装置及びレチクル欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】検出部13の位置合わせ手段13aにおいて、TDIセンサ11a,11bにより取得された光学画像と、参照画像生成部15により生成された参照画像との位置合わせが、レチクル2の短冊状ストライプを細分化したフレーム毎に行われる。許容範囲算出手段13cにおいて、1ストライプ分の位置合わせ量を1次回帰することにより、1ストライプ分の基準位置合わせ量が算出される。位置ずれ欠陥検出手段13dにおいて、位置合わせ量が基準位置合わせ量と所定値以上相違するフレームのパターンが位置ずれ欠陥として検出される。 (もっと読む)


【課題】基板に生じた欠陥や異物などを正確に検出することのできる基板検査方法および基板検査装置を提供する。
【解決手段】マスク1に光源2からの光が照射され、検出器10、13で光学画像が得られる。また、マスク1の周辺における屈折率の変化量が検出器203で検出され、位置情報部17において、測長部16からのデータと、検出器203からの屈折率変化に関するデータとから位置補正データが作成される。この位置補正データを基に、比較部18において、検出器10、13からの光学画像と、参照部19からの参照画像とが比較される。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェハなどのパターンが形成された試料の欠陥検査において、多種の製造工程と注目欠陥に対して、高スループットかつ高感度の欠陥検査装置を提供することにある。
【解決手段】パターンが形成された試料に光を照明し、該試料の像を反射型光学系を介して画像センサに結像し、欠陥の有無を判定する欠陥検査装置において、該反射型光学系は共役な2組のフーリエ変換光学系を有し、該反射型光学系の収差は光軸外で補正され、該試料面における非直線形状のスリット状の視野とを有する。また、光学系は反射型で、共役な2組のフーリエ変換光学系を含み、視野は非直線形状のスリット状であり、試料に応じて最適な波長帯域を選定する。 (もっと読む)


【課題】シールド用の蓋体を設けた電子部品において、蓋体と回路を実装した基板との接合状態を高精度に検査することが可能な外観検査方法を提供する。
【解決手段】部品が実装された基板2と、この基板2の少なくとも一面を覆うとともに前記基板2に設けた電極4に半田5を介して接合、保持された金属製の蓋体3とからなる電子部品の検査方法であって、前記蓋体3と基板2の接続部6の裏面より一定照度の光を照射することによりハレーションを発生させて、蓋体3と基板2との間の凹部20を他の部分より暗く浮かび上がらせることで不良箇所を検出する電子部品の外観検査方法とした。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハの周縁部分を効率良く検査することが可能な外観検査装置および外観検査方法を提供すること。
【解決手段】半導体ウエハに処理を施すことにより半導体基板を製造するための各プロセスを実行する1つ以上の半導体製造装置とともに半導体製造システムを構成し、製造過程において半導体基板の外観を検査する。半導体製造装置が半導体ウエハを保持する際の半導体ウエハの保持位置に関するウエハ保持位置情報を、半導体製造装置を特定するための装置識別子と対応付けて取得する手段と、装置識別子と対応付けて取得されたウエハ保持位置情報に基づいて、半導体ウエハの周縁部分を検査するための検査レシピを作成する手段と、作成された検査レシピを格納する手段と、格納された検査レシピに基づいて、半導体ウエハの周縁部分を撮像する手段を備える。 (もっと読む)


【課題】回路パターンの検査において、ソルダレジストが塗布された部分は画像データの輝度が低くなるため、画像処理を利用した欠陥検査では回路パターンを取得しにくかった。ソルダレジストが塗布された部分の回路パターンを得るためには、照射する光を強くする必要があるが、ソルダレジストを塗布しなかった部分は白飛びになってしまい、ソルダレジストがある部分と無い部分を検査するための検査装置が必要であった。
【解決手段】強い光を照射し、白飛びを起こした部分を画像データから削除して欠陥検査を行い、次に通常の強度の光を照射して白飛びして削除された部分の欠陥検査を行う。 (もっと読む)


【課題】ユーザにかかる負担の増大を抑制しつつ、画像内の小領域のみで画像間の位置合わせを精度よく行うことが可能な欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】複雑領域探索部134は、正解パターン画像から探索した小領域の位置およびその小領域の画像を位置合わせ用パターンとして位置合わせ用パターン保存部135に保存し、位置合わせ部136は、位置合わせ用パターンとして保存された小領域の画像を位置合わせ用パターン保存部135から読み出し、検査対象画像と正解パターン画像との小領域間での画像の位置ずれ量に基づいて、検査対象画像と正解パターン画像との位置合わせを行い、欠陥検出部137は、正解パターン画像保存部132に保存された正解パターン画像と、位置合わせ部136にて位置合わせのための処理が行われた検査対象画像との比較結果に基づいて、検査対象の欠陥を検出する。 (もっと読む)


【課題】自動車等の被検査物の塗装外観検査において、従来の照明・検査方法では発見できなかった「色ムラまたは瑕」を発見する。
【解決手段】表面に塗装が施された被検査物10の塗装外観を検査するために、被検査物に測定光を照射する塗装検査用照射方法において、被検査物に測定光として収束光を照射する塗装検査用照射装置30Cと、被検査物からの反射光を撮像して受光画像を得る撮像手段と、前記受光画像に基づいて被検査物の塗装外観の良否を判定する判定手段と、を備えた塗装検査装置。収束手段32はフレネルレンズ等の収束パネルを用いる。 (もっと読む)


【課題】被検査体の検査精度を向上させる。
【解決手段】
基板検査システムにおいて、撮像ユニット24内に設けられたラインセンサは、走査ライン上の映像を走査する。基板搬送機構は、ラインセンサによって基板2の映像が走査されるときに、ラインセンサに対して基板2を移動させる。回転機構は、撮像ユニット24を初期位置から回転させることにより基板2の搬送方向に対する走査ラインの角度を変更する。ラインセンサは、初期位置における第1主走査ラインL1に対して走査角度θをもった第2主走査ラインL2上の映像を走査する。 (もっと読む)


撮像組立品で、前記撮像組立品中の異なるそれぞれの場所に搭載され、試料のそれぞれの画像を記録するように構成された複数のカメラを含むものを備える、検査用の装置。移動組立品は、位置に関する所定の許容誤差で制限される精度で前記撮像組立品に前記試料を走査させるために、前記撮像組立品と前記サンプルの少なくとも一つを動かすように構成されている。画像処理装置は、前記位置に関する許容誤差よりも細かい位置精度で前記試料中の欠陥の位置を特定するために、前記カメラによって記録された画像を受信し、処理するために、結合されている。 (もっと読む)


【課題】ワークを保持部などの保持機構で保持した状態であっても、誤認識なくワークの良否判定を行う。
【解決手段】検査装置1では、ワーク2を照明する円環状の光源部33を有する照明部3と、ワーク2を撮影する撮影部4とが設けられ、ワーク2を保持する保持部5が、照明部3と撮影部4との間に固定もしくは移動可能に配され、照明部3の光源部33からワーク2に照射した光の照射方向上から外れた位置に、撮影部4が配されている。そして、ワーク2に異物を含む不確定な物がある場合、光源部33からワーク2に照明した光は、異物を含む不確定な物によりその光路が変更されて撮影部4にて撮影される。 (もっと読む)


【課題】画像モニタ中の要検査部位の画像を直接に動かすイメージで自在に動かして必要な部位を必要な方向から撮影した画像を表示させるようにすること。
【解決手段】正面用ビデオカメラ2a及び斜め用ビデオカメラ2bからなるカメラユニット2と、検査対象の回路基板1を保持する保持部3と、これを配したベース部4と、これに立ち上げたカメラユニット2を支持する門形フレーム5と、ベース部4に構成した保持部3のY方向移動機構4aと、カメラユニット2の回転機構6a及びZ方向移動機構6bと、門形フレーム5に構成したカメラユニット2のX方向移動機構5aと、画像信号を再生する画像モニタ7と、各部を制御する制御部8と、動作指示用の指示用リモコン装置9と、画像モニタ7中の要検査部位を操作するイメージでX、Y方向への変位操作、Z方向の伸縮操作、X、Y方向の傾き操作又は回転操作が可能な3Dマウス14とで構成した。 (もっと読む)


【課題】基板検査に要するトータルの処理時間が長くすることなく、ステージの駆動機構による位置ずれによって生じる欠陥位置の誤差を低減する。
【解決手段】TFTアレイ基板のアレイ欠陥を検査するTFTアレイ検査装置であり、TFTアレイ基板を載置して検査位置に移動するステージと、移動中のステージの画像を取得する画像取得部と、この画像取得手段で取得した画像データを用いて検査位置におけるステージの位置ずれ量を算出する位置ずれ量算出部と、位置ずれ量算出部で算出したステージの位置ずれ量に基づいて、欠陥検査により得られたTFTアレイの欠陥位置を補正する欠陥位置補正部とを備える。ステージが移動している間にステージの位置ずれ量を求めることによって、処理時間を短縮する。 (もっと読む)


161 - 180 / 489