【課題】液晶パネル、プラズマディスプレイ、半導体ウェハ等などの繰返しパターンが形成されている検査対象物の欠陥検査を精度良く、しかも、非検査領域が存在しない検査方法を提供すること。
【解決手段】注目画素と代表的な繰返しピッチ分だけ離れた比較画素群の輝度を比較演算する比較演算処理と、注目画素と代表的な繰返しピッチから微小画素数分だけ離れた場所における輝度を比較演算する比較演算を並列で行う、繰返しパターンを有する基板の検査方法。 （もっと読む）

【課題】包装充填装置内におけるウェブ状包装積層材料内部に充填された液体食品の泡立ちをモニターし、縦シールの不都合を未然に防止することができる包装充填方法及び包装充填装置を提供する。
【解決手段】ウェブ状包装材料がチューブ状に成形され、包装材料が縦線方向に縦シールされ、チューブ状包装材料内に液体食品が充填され、包装材料が液面下で横シールされ、横シール帯域で切断されて枕状予備成形体が得られ、折り畳むことにより形成された包装容器を得る、包装充填する。近赤外線光源１５から、液面及びその上方に対応するチューブ状包装材料１の側面に、近赤外線を照射し、チューブ状包装材料を透過した近赤外線を受光手段１６で受光し、受光手段からの測定値に基づいて、被検査領域の泡立ちの有無を判定手段１７で判定する。 （もっと読む）

【課題】
欠陥候補から擬似欠陥を効率良く探し、できるだけ少ないレビュー回数で擬似欠陥を削除できるしきい値を求める。
【解決手段】
欠陥候補をレビューし欠陥か擬似欠陥かを選択し、その擬似欠陥の特徴量以下の欠陥候補をマップ上から削除または別記号表示することにより、擬似欠陥を視覚的に判断することが可能となる。また選択した擬似欠陥以下特徴量を持つ欠陥候補は、マップ上から削除または別記号表示となっているため、しきい値設定に不必要な欠陥候補をレビューすることがなくなり、従来に比べ大幅にレビューする欠陥候補数が低減できる。さらに上記作業を繰り返すことにより、しきい値が自動で算出され、そのしきい値での検査結果マップも表示されるため、再検査が必要なくなる。 （もっと読む）

【課題】基板上のパターンの欠陥を検出する際に被検査画像を２値化して検査用の処理済画像を生成するための閾値を高精度に求める。
【解決手段】欠陥検出装置では、撮像部により基板の被検査画像が取得され、被検査画像にエッジ抽出フィルタを適用した上で２値化することによりエッジが抽出される。そして、被検査画像からエッジが除去されたエッジ除去済画像の濃度ヒストグラムに基づいて、被検査画像を２値化して検査用の処理済画像を生成するための検査用閾値が求められる。濃度ヒストグラムでは、エッジが除去されることにより、配線パターンに対応する濃度分布と基板本体に対応する濃度分布との間の濃度帯において画素の頻度が０となり、２つの濃度分布が明確に分離される。このため、基板本体に対応する濃度分布の最大濃度を検査用閾値とすることにより検査用閾値を高精度に求めることができる。 （もっと読む）

【課題】パターン領域を精密かつ動的に分けて、領域毎に欠陥検査方式や感度を切り替えることによって、パターン領域毎に最適な感度での欠陥検出を可能とする。
【解決手段】半導体ウェハの検査画像から画像特徴量を算出し、パターン領域分割を行い，予めパターン領域毎に設定した検査方式及び感度（欠陥検出閾値）を切り替えて欠陥検出を行う。また、上記パターン領域の判定に必要なパラメータやパターン領域毎に対応する欠陥検査方式及び感度を予め設定するレシピ設定ＧＵＩを設ける。 （もっと読む）

【目的】擬似欠陥を低減させるパターン検査を行う装置および方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン検査装置１００は、パターン形成された被検査試料における光学画像データを取得する光学画像取得部１５０と、前記光学画像データと前記光学画像データに対応する参照画像データとを入力し、前記光学画像データの複数の画素値と前記参照画像データの複数の画素値との関係を基に、前記光学画像データの画素値レベルと前記参照画像データの画素値レベルとの少なくとも一方を調整するレベル調整回路１４０と、画素値レベルが調整された前記光学画像データと前記参照画像データとを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】互いに同一であるべき画素同士のグレイレベル差を所定の検出閾値と比べて画素同士の違いを検出する欠陥検査において、グレイレベル差を検出し又は検出閾値を決定する際に、検査画像に含まれるノイズ成分による影響を低減する。
【解決手段】同一の単位パターン５１〜５５が繰り返し現れる検査画像６１内のある検査画素７１に欠陥が存在するか否かを判定する際に、この検査画素７１、及びこの検査画素が含まれる単位パターン５１と異なる他の複数の単位パターン５２〜５５内においてこの検査画素７１にそれぞれ対応する画素７２〜７５のうちの少なくとも３つの画素の画素値のうちのいずれかを基準画素値として選択して、この基準画素値と検査画素７１の画素値とを比較することにより、この検査画素７１が欠陥候補か否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】複数の撮像画素を配列した撮像素子によって反復パターンが形成された試料の表面を撮像して取得した撮像画像に、反復パターンに対応して繰り返し現れる単位パターンのうちの２つの、一方の単位パターン内の画素とこの画素に対応する他の単位パターン内の画素との間のグレイレベル差を検出し、グレイレベル差が検出閾値を超えるときこのグレイレベル差を検出した画素を欠陥であると検出する欠陥検出において、撮像画素のそれぞれのＳ／Ｎ比に応じて、これら撮像画素からそれぞれ得られた画像信号を用いて行う欠陥検出の検出感度を調整する。
【解決手段】グレイレベル差を、このグレイレベル差が検出されたグレイレベル値をそれぞれ生成した撮像画素の出力信号のＳ／Ｎ比に応じて補正する。またはグレイレベル差と比較される検出閾値を、このグレイレベル差が検出されたグレイレベル値をそれぞれ生成した撮像画素の出力信号のＳ／Ｎ比に応じて補正する。 （もっと読む）

【課題】検査対象である相互に同一であるべきパターンを撮像して得た検査画像と参照画像とを比較して、相違する箇所を前記パターンの欠陥として検出する欠陥検査において、検査画像と参照画像とに含まれる飽和画素による影響を回避する。
【解決手段】欠陥検査装置１は、検査画像に含まれる各画素とこれら画素にそれぞれ対応する参照画像の各画素のうち、対応する画素の両方のグレイレベル値が所定の閾値より小さいものについて、対応する画素間のグレイレベル差を検出するグレイレベル差検出部２５を備える。 （もっと読む）

【目的】欠陥候補クラスタ画像の形状傾向に応じて検査レベルを異ならせる。
【構成】カメラによって読取られて得られた印刷物の画像を表す被検査画像データと，メモリに記憶されている基準画像を表す基準画像データとに基づいて画素ごとの差がとられ，その後２値化されて２値画像データが得られる。２値画像データがラベリング処理されて欠陥候補クラスタ画像を構成する差分画素が特定される。欠陥候補クラスタ画像のそれぞれについて外接矩形の大きさに対する割合（面積比率）が算出される。面積比率が大きい場合（ステップ21でYES ），その欠陥候補クラスタ画像は点状の形状を持ち，面積比率が小さい場合（ステップ21でNO），その欠陥候補クラスタ画像は線状の形状を持つと判断される。点状および線状の形状ごとに異なるしきい値が用られて，欠陥候補クラスタ画像が検査される（ステップ22，23）。 （もっと読む）

【課題】少ない教師サンプルを用いて抽出程度の変化に対する分類性能のロバスト性を確保すること。
【解決手段】画像より欠陥領域を抽出する欠陥領域抽出手段１０１と、前記欠陥領域が抽出されるべき正解カテゴリを入力する操作手段１０４と、正解カテゴリが入力された領域に対し、新たな抽出パラメータを設定する抽出パラメータ設定手段１０８と、前記新たな抽出パラメータを基に欠陥領域を再抽出する欠陥領域抽出手段１０１と、再抽出結果を基に前記欠陥領域に対して抽出程度が異なる複数の教師データを作成する教師データ作成手段１０５と、前記教師データを基に分類を行う分類手段１０７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】検査対象物中に混入した異物の検出に必要な検査パラメータを簡易に取得して、その異物検査処理を効率的に実行することのできる異物検査装置を提供する。
【解決手段】ベルトコンベア等の搬送機構の端部から送り出されて空中に飛び出した検査対象物を撮像して検査画像を得るカラー撮像装置の撮像領域に、前記検査対象物が有する色成分を代表する固有色の前記検査画像の背景を形成する背景体を設ける。そして前記撮像手段にて求められた検査画像の色成分から前記検査対象物の特徴を解析して前記検査対象物中に混入した異物を検出する（異物検出手段）と共に、前記撮像手段にて求められた検査画像の色成分に基づいて前記異物検出手段で用いる異物判定の為の検査パラメータを初期設定し、更には設定した検査パラメータを更新する（検査制御手段）。 （もっと読む）

【課題】赤外線サーモグラフィを使用して改善された欠陥検出及び解析を提供する。
【解決手段】信号発生器（３３０）からのテストベクタにより、テスト対象デバイス（３０５）の各部分を加熱して欠陥を識別する際に有用な熱特性を生成する。テストベクタは、欠陥とそれを取り囲む部分との間の熱コントラストを高めるように調節されるので、赤外線（ＩＲ）撮像装置（３１５）は改善されたサーモグラフ画像を取得することができる。ＡＣ及びＤＣテストベクタを組み合わせることにより、電力伝送を最大化して加熱を加速する。改善された画像に数学的変換を適用することにより、欠陥検出及び解析をさらに加速する。欠陥アーチファクトを解析して該当する欠陥の位置を正確に特定する欠陥位置特定アルゴリズムを採用する。 （もっと読む）

【課題】外観検査において感度を高く設定すると虚報も多く検出してしまうため、高感度で検査することができないという問題があった。そのため、全体の欠陥捕捉率を高く維持しながら虚報を抑制することにより実質感度を向上する技術が必要であった。
【解決手段】
検出欠陥の画像をもとに画像特徴量を算出し、検出欠陥の位置座標をもとに座標特徴量を算出し、画像特徴量と座標特徴量のいずれかに対するしきい値処理からなる決定木に従って虚報判定を行う構成とする
【効果】上記画像特徴量と座標特徴量を利用し、決定木に従って虚報判定を行うことにより、実欠陥と虚報の識別を精度よく行うことができるため、虚報を抑制しつつ高感度に検査することができる。 （もっと読む）

【課題】照明波長の1/10程度の大きさの欠陥で発生する散乱光の分布は等方的となる。このため，多方向で検出した信号を加算することによりSN比が向上して微小欠陥検出が可能となる。一方で散乱光分布が異方性となる欠陥では，多方向で検出した信号を加算することでSN比が低下し，検出感度を低下させることとなる。半導体基板の欠陥検査においては，欠陥の種類に関係なく，高感度検査が必要である。
【解決手段】多方向で検出した散乱光の検出信号を加算して微小欠陥の検出を行うとともに，各検出信号を個別に処理することによって，異方性欠陥の見逃しを回避することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】パターン画像検出部１１０の特性変動や被検査ウェーハ６の表面特性の個体ばらつきに応じて、欠陥判定のしきい値を自動的に調整する。
【解決手段】画像処理部１２０は、被検査ウェーハ６表面のある領域の検出画像とその領域と同じパターンを有する他の領域の検出画像との差分画像に基づき、欠陥信号を抽出する欠陥信号抽出部２１、前記差分画像の全画素について、その各画素の欠陥信号量を累積して、その頻度分布および分散を算出する欠陥信号累積部２３、その算出した分散を、基準の被検査ウェーハ６から得られた基準の頻度分布の分散と比較して、頻度分布のオフセット量を算出するオフセット算出部２４、あらかじめ設定された基準の欠陥判定しきい値を前記オフセット量により修正し、その修正した欠陥判定しきい値に基づき、前記欠陥画像についての欠陥信号の欠陥判定を行う欠陥判定部２５、を含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】比較する２つの画像分布のずれに起因した誤差を低減した画像欠陥検査方法及び画像欠陥検査装置の実現。
【解決手段】２つの画像の対応する部分のグレイレベル差を検出する差画像検出部6と、検出したグレイレベル差を閾値と比較して、グレイレベル差が閾値より大きい場合に、欠陥であると判定する欠陥検出部8とを備える画像欠陥検査装置であって、差画像検出部は、正負の符号付きグレイレベル差を検出し、符号付きグレイレベル差の平均値を算出する平均算出部11と、符号付きグレイレベル差を算出した平均値で補正して符号付き補正グレイレベル差を算出する補正部12と、符号付き補正グレイレベル差から符号なしの絶対値補正グレイレベル差を算出する絶対値変換部13とを備え、欠陥検出部8は、絶対値補正グレイレベル差を閾値と比較する。 （もっと読む）

【課題】基板外観検査において、不良見落としの確率を低くするとともに、虚報を低減する。
【解決手段】撮像手段1110、データ読出手段1120、対象領域抽出手段1310、領域辞書作成手段1340、領域位置合わせ手段1330、検査領域設定手段1350、密度辞書作成手段1360及び検査手段1370を備えて構成される。対象領域抽出手段は、CADデータ1510及び色基本データ1520から計算された対象領域の色と、撮像手段が取得した撮像画像データ1112の色との比較を行って、パッド画像データ1412を抽出する。領域位置合わせ手段は、撮像画像データとCADデータの位置合わせを行って、合わせ画像データ1432を作成する。密度辞書作成手段は、隣り合う対象領域の間隔が閾値以下の場合は高密度領域と判定し、閾値よりも大きい場合は低密度領域と判定する。検査領域設定手段は、高密度領域における非検査領域を、低密度領域における非検査領域よりも小さく設定して、検査画像を生成する。 （もっと読む）

【課題】パターン検査において、膜厚の違いやパターンの太さの違いなどから生じる比較画像間の明るさむらを低減し、ノイズや検出する必要のない欠陥に埋没した、ユーザが所望する欠陥を高感度、かつ高速に検出するパターン検査技術を実現する。
【解決手段】同一パターンとなるように形成されたパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、並列に動作する複数のＣＰＵを実装した処理システムを用いて構成される画像比較処理部１８を備えて、膜厚の違いやパターンの太さの違いなどから生じる比較画像間の明るさむらの影響を低減し、高感度なパターン検査をパラメータ設定なしで行えるようにした。また、比較画像間で各画素の特徴量を算出し、複数の特徴量を比較することにより、輝度値からでは不可能は欠陥とノイズの判別を高精度に行えるようにした。 （もっと読む）

【課題】色の再現性に幅（ばらつき、色ムラおよび／または色あせ）のあるシート状物品における汚れ、破れ、形状不良等の欠陥検査において、模様を欠陥と判定せず、かつ、黒汚れ、非黒よごれおよび破れの判別が可能な検査方法および装置の提供。
【解決手段】複数の異なる色領域を有する検査板と、ＲＧＢ成分からなる複数のラインを撮像可能なカラーカメラとを提供し、検査板上を通過させたシート状物品のＲＧＢ画像データを取得し、Ｒ成分画像、Ｇ成分画像およびＢ成分画像を合成した合成画像を取得し、当該合成画像において変色領域を検出し、変色領域の色が予め記憶した欠陥種別の設定パラメータの範囲に属するかにより欠陥種別を判定することを特徴とするシート状物品の検査方法およびその装置。 （もっと読む）