【課題】顕微鏡スライド（顕微鏡検鏡板）上の生物学的サンプルを自動染色する装置及び方法を提供する。
【解決手段】生物学的サンプルを支持しているスライドに対してスライド処理動作を実行する自動システムは、実質的に水平位置に複数のスライドを保持しているスライドトレイと、スライドトレイを受けるワークステーションとを含む。ワークステーションは、1つのスライドから別のスライドへの試薬（及び、剥落細胞のような汚染物質を運ぶ試薬）が実質的に移ることなくスライド面へ試薬を供給する。更に、スライドの自動処理方法含む。 （もっと読む）

【課題】対象物の狭隘部の金属組織が鮮明に転写されたレプリカフィルムを採取することができるレプリカ採取方法を提供する。
【解決手段】対象物２の狭隘部４の形状にあわせて、可塑性を有する第１研磨具６Ａと、バフ材６Ｃとを選択する工程と、狭隘部４を第１研磨具６Ａで研磨する工程と、第１研磨具６Ａで研磨する工程の後に、狭隘部４をバフ材６Ｃで鏡面研磨する工程と、バフ材６Ｃで鏡面研磨された狭隘部４の研磨面８をエッチングする工程と、エッチングされた研磨面８にレプリカフィルム２０を貼り付けて、研磨面８の金属組織をレプリカフィルム２０に転写する工程と、金属組織が転写されたレプリカフィルム２０を研磨面８から剥離する工程とによりレプリカ採取する。 （もっと読む）

【課題】新たなパージガス流路を設けることなく、流路内を洗浄し、更に乾燥させることができるようにする。
【解決手段】酸添加流路３８からシリンジ２４へ純水を吸入しドレイン流路から排出することにより酸添加流路３８を洗浄し、その後ガス配管３０からのキャリアガスをシリンジ２４により酸添加流路３８へ供給して酸添加流路３８を乾燥させる。同様にして、サンプル水採水流路３８も洗浄と乾燥を行う。ＴＯＣ測定流路４６は洗浄水流路４２からシリンジ２４へ吸入した洗浄水により洗浄し、その後をガス配管３０からのキャリアガスをシリンジ２４によりＴＯＣ測定流路４６に供給することにより、ＴＯＣ測定流路４６から有機物酸化分解部１０のサンプル水が流れる流路の洗浄と乾燥を行う。 （もっと読む）

【課題】病理標本作製時等の様にホルマリン液を扱うときにおいて、作業環境に揮発するホルムアルデヒド量の低減を図ることのできるホルマリン吸収用シート及びその使用方法を提供することを目的とする。
【解決手段】病理検査の標本作製にあたって、高吸水性繊維を含有する布帛（高吸水性不織布１１）を備えたホルマリン吸収用シート１０を用いる。予め吸収用シート１０を切出用まな板上に敷いておき、ホルマリン液中からこれに浸漬された検体を取り出して上記吸収用シート１０上に載置し、この吸収用シート１０上で検体から小切片を切り出す。検体から滴るホルマリン液が吸収用シートに直ちに吸収される。このホルマリン液を吸収した吸収用シートからのホルムアルデヒド揮散量は、従来の紙製ウエス等に比べて少ない。 （もっと読む）

【課題】伸展時に薄切片及び基板に付着した水分を積極的に排除することができ、乾燥に費やす時間を極力低減させて効率良く薄切片標本を作製すること。
【解決手段】底板５と背板６とからなる支持フレーム２と、背板に長辺が接触した状態で基板Ｇを立掛け可能に支持すると共に底面５ａに対して長辺が所定角度傾くように基板を傾斜させる複数の傾斜用ピン３ａ、３ｂ、３ｃと、基板を立掛けた際に基板の表面が底面に直交する面に対して所定角度傾くように立掛け角度を調整する複数の調整用ピン４ａ、４ｂと、を備え、複数の傾斜用ピン又は複数の調整用ピンのうち少なくともいずれか一方のピンが、伸展時に付着した水分Ｗを自身のピンを伝わらせて落下させて基板から排除する基板乾燥用支持体１を提供する。 （もっと読む）

【課題】半導体基板を用いた被評価液の品質評価において、一度容器に接触した被評価液が再び半導体基板に接触しない構造を持ち、基板保持容器からの汚染を受けずに被評価液中の不純物を高精度で測定する半導体基板保持容器を得ることを目的とする。
【解決手段】本発明に係る半導体基板保持容器１は、密閉した内部空間である基板保持室３と基板保持室３に半導体基板４を出し入れする基板出入り口とを有する保持容器本体２と、基板保持室３に保持容器本体３の内壁面とは間隔を有して半導体基板４を中空状態で保持する保持体５と、基板保持室３に保持された半導体基板４上に被評価液６を滴下する給水口７と、半導体基板４上から落下した被評価液６を排水する排水口８とを備える。 （もっと読む）

【課題】自動分注装置において、定期メンテナンス作業であるチップ装着部の洗浄作業に関して、その作業負担を軽減する。
【解決手段】自動分注装置の内部に洗浄液容器とその内部に洗浄具を設けて、チップ装着部を洗浄するための洗浄セクションを設ける。チップ装着部の搬送機構を利用することにより、チップ装着部を洗浄液に浸された洗浄具に接触させて上下運動をすることによりチップ装着部を洗浄する。洗浄具としては例えば洗浄ブラシを使用する。 （もっと読む）

【課題】 分析ユニットを介して以前の測定試料が次の測定に持ち込まれるのを未然に防ぎ、精度よく測定することができる自動分析装置を提供する。
【解決手段】 サンプルを分注するサンプル分注プローブ１６、第１及び第２の試薬を分注する第１及び第２試薬分注プローブ１４，１５、及び第１及び第２の混合液を撹拌する第１及び第２撹拌子１１ａ１，１１ｂ１を洗浄する各洗浄部（８０，９０，１００，１１０，１２０）と、各洗浄部を制御する洗浄ユニット制御部３２ｂとを備え、洗浄ユニット制御部３２ｂは、各洗浄部に設けた各計測部（８１ｄ，８２ｃ，９１ｄ，９２ｃ，１０１ｄ，１０２ｃ，１１１ｄ，１２１ｄ）からの計測データに基づいて、各分析ユニット（１６，１４，１５，１１ａ１，１１ｂ１）の動作を停止させる。 （もっと読む）

【課題】ニードル洗浄後にニードルの外表面上に残る洗浄液量を減少させ、以て、クロスコンタミネーションを抑えたオートサンプラを提供する。
【解決手段】ニードル２を洗浄槽１内の洗浄液に浸漬することにより洗浄する洗浄手段を備えたオートサンプラにおいて、洗浄液から引き上げたニードル２の外表面に向けて圧縮空気等の気体を噴射する気体噴射手段を備える。このように構成することにより、ニードル２の外表面に残る汚れた洗浄液を、気流により非接触的に払拭することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 断面観察用試料の観察面に残存する加工ダメージ層を簡単かつ迅速に除去する手段を備え、２次元キャリア分布測定を精度よく実施することが可能な断面観察用試料を作製する方法を提供すること。
【解決手段】 シリコン基板上に不純物を導入したシリコン層を有する半導体デバイスの断面観察用試料片を作製する方法において、半導体デバイスの断面を露出させ、その断面を平坦化する加工を施した後、断面観察用試料をアルカリ金属水酸化物と過酸化水素とを含む強アルカリ性エッチング液に浸漬させ、さらに塩酸またはアンモニアと過酸化水素とを含む表面改質液に浸漬させて、加工ダメージ層を除去し、かつ、加工ダメージ層が除去された断面表面に均一なシリコン酸化膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 簡便かつ迅速に、マイクロプレート下面に付着した水滴を取り除くことが可能なマイクロプレート用吸収体の提供を目的とする。
【解決手段】 本発明のマイクロプレート用吸収体１は、表面１ａに、マイクロプレート２の複数のウェル３，３，３‥に同時に嵌合する凹部４，４，４‥が設けられ、ウェル３に嵌合されて、ウェル３に付着した水滴を吸収する。 （もっと読む）

【課題】 基板表面に形成された膜の表面または膜中に存在する被測定物を溶解、乾燥させて基板表面に保持する気相分解装置などにおいて、基板表面に形成された膜が厚くてもマッピング分析が可能なものを提供する。
【解決手段】 基板表面１ａに形成された膜の表面または膜中に存在する被測定物を前記膜とともに反応性ガスにより溶解し、反応副生成物である水を不活性ガスおよび／または減圧により乾燥させて、被測定物を基板表面１ａに保持する気相分解装置２０であって、前記溶解と乾燥を繰り返すことにより、被測定物の基板表面１ａにおける位置を維持する。 （もっと読む）