【課題】走査型電子顕微鏡等を用いて化粧料の断面を観察する化粧料の断面観察方法に関し、所望する位置での断面観察を可能とした化粧料の断面観察方法を提供する。
【解決手段】サンプルホルダに化粧料を配設して試料を作成する試料作成工程Ｓ１と、この試料を凍結させる凍結工程Ｓ２と、凍結された試料を集束イオンビームにより加工し試料に切断面を形成する切断工程Ｓ３と、走査型電子顕微鏡を用いて切断面の切断面画像を生成する切断面画像処理工程Ｓ４とを有する。また凍結工程Ｓ２において凍結された試料を凍結環境を保ったままシールド処理し、凍結環境を保ったまま切断工程Ｓ３及び切断面画像処理工程Ｓ４を実施する。この際、支持台として、人工皮膚、樹脂テープ、又は皮膚のいずれかを用い、かつ、シールド処理では真空状態又は不活性ガスを充填したシールド部材に凍結された試料を配設する。 （もっと読む）

【課題】
一次電子による帯電を抑制し、観察標体から明瞭なエッジコントラストを得て、試料の表面形状を高精度に計測する。
【解決手段】
試料上のイオン液体を含む液状媒体が薄膜状または網膜状である観察標体を用いる。また、この観察標体を用いる電子顕微法において、試料上のイオン液体を含む液状媒体の膜厚を計測する工程と、前記イオン液体を含む液状媒体の膜厚に基づき一次電子の照射条件を制御する工程と、前記一次電子の照射条件で一次電子を照射し前記試料の形態を画像化する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】湿潤状態にある多孔質繊維の内部構造をＳＥＭで観察するために繊維の断面を得る方法を提供する。
【解決手段】湿潤状態にある多孔質繊維の内部構造を観察するために繊維の断面を得る方法であって、繊維を乾燥処理する工程、前記乾燥処理した繊維を樹脂包埋する工程、前記樹脂包埋処理した繊維を断面加工する工程、前記断面加工処理した繊維から包埋樹脂を除去する工程を順に有する試料調製方法。 （もっと読む）

【課題】観察用試料の断面出しを精度良く行え、しかも正確な膜厚で計測することを可能にするとともに、観察用試料の切り取りなどの加工を容易に行える観察用試料の包埋板および包埋方法を提供すること。
【解決手段】包埋板は、光硬化性樹脂を載置する平面状の鏡面２Ａを有する包埋板本体２と、この包埋板本体２の鏡面２Ａ上に載置されるスペーサ３Ａと、このスペーサ３Ａ上に載置され、光硬化性樹脂の厚さを規定する光透過板４と、を備える。鏡面２Ａの上に光硬化性樹脂５を載置し、光硬化性樹脂５の厚さを規定した後、可視光を照射して光硬化性樹脂５を硬化させて樹脂チップ５Ａを作製し、この樹脂チップ５Ａ上に観察用試料を載置し、未露光の光硬化性樹脂で観察用試料を覆った後、他の樹脂チップを載置して一次サンプル作製しこの一次サンプルを目的に応じて切削する。 （もっと読む）

【課題】皮膜付き鋼板などの試料の表面に生じたクラックをより適切に評価し得るクラック評価方法を提供する。
【解決手段】試料表面に発生したクラックを評価するクラック評価方法であって、上記試料表面に金属薄膜を成膜する工程と、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて上記金属薄膜の反射電子像（ＢＳＥ像）を取得する工程と、上記取得したＢＳＥ像に基いて上記クラックを評価する工程と、を備えるクラック評価方法。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線装置に新たに別の装置を設けることなく、真空状態において試料の加工，観察，追加工を行う装置及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置の真空室内にイオン液体を充填した液体浴と超音波振動手段を配置し、イオン液体と試料の加工対象領域が接触した状態において、イオン液体中に超音波振動を伝搬させて試料を加工する。
【効果】荷電粒子線装置に新たに別の装置を設けることなく、真空状態において試料の加工，観察，追加工ができるため、スループットを向上させるとともに、大気の影響を防止する。 （もっと読む）

【課題】安価な手段により、加工中に装置を開けることなく、エッチング部の（厚み方向の）貫通が完了したか否かを判断することができる断面観察試料の作製装置を提供する。
【解決手段】試料台、前記試料台上に被加工物を固定する試料固定手段、被加工物上に被加工物の表面を覆うように遮蔽板を固定する遮蔽板固定手段、遮蔽板に覆われていない被加工物の１断面にイオンビームを照射するイオンビーム照射手段、及び、試料台側に流れる電流をモニタリングする試料電流測定手段又は被加工物を照射せずイオンビーム照射面の反対側に漏れたイオンビーム量の測定手段を有することを特徴とする断面観察試料の作製装置。 （もっと読む）

【課題】イオンビームを用いた断面観察試料の作製方法であって、きれいに鏡面研磨されたエッチング面（加工面）を、広い面積で形成できる方法、及びこの方法を行うための断面観察試料の作製装置を提供する。
【解決手段】被加工物の上部を遮蔽板で覆い、非遮蔽部をイオンビーム照射によりエッチングして鏡面研磨部を形成する断面観察試料の作製方法であって、前記被加工物を、イオンビーム照射方向に対して垂直な方向に、研磨速度以上の速度で移動させながら前記エッチングを行うことを特徴とする断面観察試料の作製方法、及び、試料台、試料台上に被加工物を固定する試料固定手段、遮蔽板固定手段、及び、イオンビーム照射手段、並びに、前記試料台をイオンビーム照射方向に対して垂直な方向に移動させるための試料移動手段を有することを特徴とする断面観察試料の作製装置。 （もっと読む）

【課題】走査型電子顕微鏡により高分子材料の相分離構造、ラメラ構造および結晶の配向状態を解析することが可能な高分子材料の微細構造の観察方法を提供する。
【解決手段】本発明の高分子材料の微細構造の観察方法は、高分子材料を所定の大きさに成形して、観察用の試料とする工程Ａと、前記試料を液状の透明樹脂で包埋する工程Ｂと、前記透明樹脂が硬化した後、クロスセクションポリッシャーにより、前記透明樹脂および前記試料を研磨し、前記試料の観察面の面出しを行う工程Ｃと、前記面出しされた観察面に、導電膜を形成する工程Ｄと、前記導電膜が形成された観察面を、走査型電子顕微鏡により観察する工程Ｅと、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 非導電性の物体の微細形状を、物体の形態を変化させることなく観察可能とすること
【解決手段】 観察する物体の表面に液晶を被覆した観察試料を電子顕微鏡内に配置し、前記観察試料を加熱することにより前記液晶の膜厚を変更するとともに、前記走査型電子顕微鏡により前記観察試料を観察する。これにより最適な液晶の膜厚における観察が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 観察対象部位が試料内部にある場合でも、集束イオンビーム加工装置を用いた断面加工を行って走査型電子顕微鏡や透過型電子顕微鏡を用いて精度の高い観察ができる電子顕微鏡用試料の作製方法を提供する。
【解決手段】 透明性を有する試料の内部に存在する観察対象部位とその試料の表面に存在する所定の目標物とが同一画像上に現れるように光学顕微鏡で試料を撮像し、撮像された顕微鏡像に基づいて、観察対象部位の位置情報を算出し、算出された観察対象部位の位置情報に基づいて、集束イオンビーム加工装置を用いて試料から観察対象部位を包含する微小片試料を摘出し、摘出した微小片試料を、集束イオンビームを照射することによって断面加工し、微小片試料の表面に観察対象部位を位置させる。 （もっと読む）

【課題】イオンビームの照射を受けて遮蔽板が高温度となって遮蔽板の支持部材に熱膨張が発生して遮蔽板が移動しても、良好な断面試料を作製する試料作製装置を提供する。
【解決手段】遮蔽板を試料の一部が露出しその他が遮蔽されるように配置し、遮蔽板と試料６の露出部分に跨るようにイオンビームを試料６に照射することにより、試料６の露出部分をエッチングして試料断面を作製する試料作製装置であって、遮蔽板ステージ９と、前記遮蔽板ステージ９により基端部を支持され、先端側が自由端となされた支持部材と、前記支持部材の先端側に支持された遮蔽板とを備え、前記支持部材は、前記遮蔽板の前記支持部材の基端側に向かう一側縁が前記イオンビームの照射位置となるように該遮蔽板を保持し、この遮蔽板により前記イオンビームが遮蔽される位置に設置された前記試料の該遮蔽板の一側縁から露出した箇所への前記イオンビームによる加工を行わせるようにした。 （もっと読む）

【課題】減厚による歪緩和の影響を補正して、バルクの結晶中の歪を測定する。
【手段】結晶基材を含む被測定試料に集束イオンビームを照射して減厚し、被測定試料薄片とする減厚工程と、減厚工程途中の複数時点で、被測定試料薄片に集束電子線を照射して高角度散乱電子の電子線強度Ｉ１〜Ｉ３を測定する工程と、前記複数時点で、結晶基材の格子定数を電子線回折法により測定し、被測定試料薄片の歪Ｅ１〜Ｅ３を算出する工程と、散乱電子の電子線強度Ｉ１〜Ｉ３及び歪Ｅ１〜Ｅ３に基づき、散乱電子の電子線強度Ｉを変数とする歪の近似式Ｅ＝Ｅ（Ｉ）を作成する工程と、減厚に伴い歪緩和が始まる臨界厚さに等しい厚さの結晶基材に、集束電子線を照射したとき測定される高角度散乱電子の臨界電子線強度Ｉｏを予測する工程と、臨界電子線強度Ｉｏを近似式Ｅ＝Ｅ（Ｉ）に代入して、被測定試料の歪Ｅｏを算出する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】冷却される処理プロセスを自動的に、かつ長時間操作することを可能にする冷媒装置を実現する。
【解決手段】サンプルを配置するためのサンプルステージ１０２を有し、冷媒が入っている冷媒容器を有し、及び少なくとも１つの、サンプルステージ１０２を当該冷媒に熱伝達可能に接続する熱伝導要素１０６ａ、１０６ｂを有するイオンビームエッチングプロセスにおけるサンプルのための冷却装置１０１であって、当該熱伝導要素１０６ａ、１０６ｂに熱伝達可能に接続される冷却フィンガ状部材１０５を有し、当該冷却フィンガ状部材１０５は、冷媒が通って流れることが出来、かつ当該冷媒容器に接続可能な導管を含む。 （もっと読む）

【課題】本願の目的は，イオンビームによる断面形成時間を短縮する加工方法，およびウェーハから微小試料を分離する加工時間を短縮する加工方法，およびイオンビーム加工装置を提供することにある。
【解決手段】本発明によるイオンビーム加工装置は，真空容器４１を有しており，真空容器内には，デュオプラズマトロン５１，非軸対称イオンビームレンズ５２，ステンシルマスク５７，などから構成されており，断面に垂直方向に急峻なビームプロファイルを持つアルゴンイオンビームにより試料１１から微小試料１３９を摘出する。
【効果】本願によると，デバイス製造ウェーハ検査・不良解析のための断面観察結果が短時間で得られる。さらに試料を取り出したおよびウェーハをプロセスに戻しても不良を発生させない新たな検査・解析方法，および高歩留まりの電子部品製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】組織を転写したい部分が３次元的に湾曲した部位や角部であっても、簡単な操作で確実にレプリカフィルムを供試体に貼り付けることのできる組織転写方法を提供することを目的とする。
【解決手段】レプリカフィルム１の一方の面を供試体３に接触させ、前記一方の面に前記供試体３の組織を転写する方法であって、該組織転写方法は、樹脂を基材上に密着塗布して硬化させることにより、弾性体であり、且つ、前記レプリカフィルム１または前記供試体３に脱着可能に接着できる転写補助器具２を形成する工程と、前記レプリカフィルム１を、前記一方の面を供試体３の転写したい部分に向けて貼り付ける工程と、前記転写補助器具２を前記他方の面側から前記レプリカフィルム１に押しつける工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】イオン液体の表面を浮遊する微細試料を、イオン液体に覆われることなく走査電子顕微鏡で観察する。
【解決手段】浮遊性あるいは疎水性の試料を親水性のイオン液体水溶液の表面に浮かべることで、微細試料がイオン液体に覆われることを防止する。親水性の試料の場合には、疎水性のイオン液体を使用する。粘性が低く、流動性が大きいイオン液体水溶液を用いることで、微細試料がイオン液体の表面で自由に凝集，分散，整列できるようにし、さらにはイオン液体中に沈降した微細試料の再浮上を可能にする。微細試料の形態が安定した後、走査電子顕微鏡下での観察を容易にするために、電子顕微鏡観察前にイオン液体水溶液を乾燥させることで、イオン液体水溶液の流動性を低下させる。 （もっと読む）

【課題】 短時間で電子顕微鏡観察用の試料を作製する。
【解決手段】 ポリイミド樹脂からなる第１の基材１上に、被検試料３と流動状態の硬化性樹脂４とを載せ、ポリイミド樹脂からなる第２の基材２を第１の基材１に重ね合わせて硬化性樹脂４を硬化させて、第１の基材１と、硬化性樹脂４の内部に被検試料３を位置させた硬化性樹脂層５と、第２の基材２とが順に積層された積層体６を作製する。積層体６を積層方向に切断し、切断した面にアルゴンイオンエッチングを施す。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームを試料に照射してミリングを行う際、試料におけるイオンビームの照射面を直接冷却することができるイオンミリング装置とイオンミリング方法とを提供する。
【解決手段】試料Sが設置される試料台1と、試料Sに照射するイオンビームを発生させるイオン源2と、試料台1の収納空間を所定の真空に保持する試料チャンバ3と、試料Sを冷却するための気体冷媒を試料チャンバ3内に供給する冷媒供給手段5とを備えるイオンミリング装置である。気体冷媒を試料チャンバ内に供給することで、試料Sにおけるイオンビームの照射面を直接気体冷媒で冷却することができる。 （もっと読む）

【課題】雰囲気ガス中の浮遊微粒子を精度よく分析・測定することのできる浮遊微粒子の採取袋および採取方法を提供する。
【解決手段】絶縁物からなる採取袋本体と、該採取袋本体に取り付けられた絶縁物からなる導入・放出口と、先端が前記採取袋本体の中心部に位置するように設けられ、電源と接続可能に構成された針状電極と、からなる浮遊微粒子の採取袋に、粒径２．５μｍ以下の浮遊微粒子を含む雰囲気ガスを採取している間は、前記針状電極に前記電源を接続して３ｋＶ以上の電圧を印加してコロナ放電を発生させて、前記浮遊微粒子の静電気を除去する。 （もっと読む）