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Fターム[2G052JA11]の内容

サンプリング、試料調製 (40,385) | その他の特徴 (3,375) | 干渉抑制、妨害除去 (141)

Fターム[2G052JA11]に分類される特許

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好ましい実施形態では、本発明は、分子状汚染物質に敏感な半導体処理ツールおよび処理に使用される、反応ガス用のガスフィルタを提供する。本発明の反応ガスフィルタは、圧力低下が改善され、それぞれ約10ppbv以下および約5ppbv以下の濃度のアンモニアおよび二酸化硫黄を有する入力ガスストリームに対して、それぞれ約1ppbv未満の濃度のアンモニアおよび二酸化硫黄を有する出力ガスストリームを供給することができる。本発明の一態様では、本発明は、約0.5リットル以下のフィルタ媒体容積を用いて、それぞれ約10ppbv以下および約5ppbv以下の濃度のアンモニアおよび二酸化硫黄を有する入力ガスストリームに対して、それぞれ約1ppbv未満の濃度のアンモニアおよび二酸化硫黄を有する出力ガスストリームを供給することができる、圧力低下が改善された反応ガスフィルタを提供する。
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