【課題】電流値が変化しても脈動電流比を許容範囲内に収めることができる電磁石用直流電源装置を得ることを目的とする。
【解決手段】電源１からの電流をスイッチング駆動して出力するチョッパ回路２と、チョッパ回路の出力を平滑化するパッシブフィルタ３と、電流指令値ＶＳに出力電流が合致するように、スイッチング駆動の駆動を制御する電流制御回路５と、を備え、電流制御回路５は、出力電流Ｓ４２の電流指令値ＶＳからの偏差成分Ｓ５６を算出する偏差成分算出部（５４〜５６）と、電圧値Ｓ４１から脈動成分Ｓ５３を算出する脈動成分算出部（５１〜５３）と、脈動成分Ｓ５３と偏差成分Ｓ５６とに基づいて、スイッチング駆動を制御するゲート信号ＳＧを生成する駆動制御信号生成部（５７〜５９）と、を有し、脈動成分Ｓ５３は、電圧値Ｓ４１のうちの交流成分Ｓ５１を電流値Ｓ４２で除した値に基づいて算出する。 （もっと読む）

【課題】中性子線源におけるホットスポットの発生を抑制することができる中性子線発生装置及び中性子線発生方法を提供する。
【解決手段】
中性子線発生装置１は、固体重金属ターゲットに陽子ビームを照射することで、核破砕反応を起こし、中性子線を発生させる中性子線発生装置であり、陽子ビームを加速する陽子ビーム加速器１０と、陽子ビームが照射されることで中性子線を発生する固体重金属ターゲット１１と、固体重金属ターゲット１１の被照射面に対して陽子ビームを走査照射する陽子ビーム走査部１２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】安定な制御と、調整が簡単で調整時間が短い円形加速器を提供すること。
【解決手段】出射装置から出射する荷電粒子のビーム電流の目標電流値を記憶する目標電流値メモリと、ビーム電流検出器の検出信号と目標電流値メモリに記憶された目標電流値との誤差信号に基づくフィードバック制御により、周波数変化率を求め、この求めた周波数変化率と現在の周波数とにより次の周波数を決定する周波数決定部と、を備え、この周波数決定部で決定された次の周波数を周波数メモリに記憶するとともに、決定された次の周波数の高周波を高周波発生装置が発生するようにした （もっと読む）

【課題】シンクロトロンの小型化に好適な機器の配置とそれを用いたシンクロトロン、及び当該シンクロトロンを用いた粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】上記課題を解決する本発明の特徴は、加速又は減速した荷電粒子ビームを取り出すための第１出射用偏向器２０８及び第２出射用偏向器２０９を備え、第１出射用偏向器２０８と第２出射用偏向器２０９の間に複数の偏向電磁石２０２と第１の四極電磁石２０４を有し、第１の四極電磁石２０４は複数のいずれかの偏向電磁石２０２の間に設置され、第１出射用偏向器よりもビーム進行方向の上流側に配置される第２の四極電磁石と、第２出射用偏向器よりもビーム進行方向の下流側に配置される第３の四極電磁石を備えることにある。 （もっと読む）

【課題】１台の加速器で加速エネルギーを容易に変えることができ、加速中は高周波加速電極部の共振周波数の変更は不要な円形加速器を提供すること。
【解決手段】偏向磁場を形成する偏向電磁石と、荷電粒子の周回周波数に合わせて高周波電界を発生させるための高周波電源と、この高周波電源に接続された高周波電磁界結合部と、この高周波電磁界結合部に接続された加速電極と、荷電粒子の周回方向に高周波電界を発生する加速ギャップを、加速電極との間に形成するよう設けられた加速電極対向接地板とを備え、荷電粒子の周回周波数が、荷電粒子の入射から出射までの間に、荷電粒子の出射部分における周回周波数に対して、０．７％以上、２４．７％以下の変化量で変化する偏向磁場を、偏向電磁石が生成するようにした。 （もっと読む）

【課題】渦電流磁場による水平チューンの変化を低減し、加速中のビーム損失を抑制することができるシンクロトロンを提供することを課題とする。
【解決手段】荷電粒子ビームを偏向する複数の偏向電磁石と、荷電粒子ビームを通過させる真空ダクトを備えたシンクロトロンであって、偏向電磁石のうち少なくとも一台について偏向電磁石中を通過する真空ダクトの水平方向の中心位置がシンクロトロンの中心軌道よりも外側にあり、偏向電磁石のうち少なくとも一台について偏向電磁石を通過する真空ダクトの水平方向の中心位置がシンクロトロンの中心軌道よりも内側にある構成とすることによって、上記課題を解決することができる。 （もっと読む）

【課題】粒子線治療装置で要求される照射ビームのエネルギーの変更制御が容易でありかつ、装置コストおよび装置の大型化を抑えられるイオンシンクロトロンを提供する。
【解決手段】電磁石電源制御装置22は、対して励磁電流パターンデータ401に基づき励磁電流設定値221を偏向電磁石電源21に設定する。電流変化検出装置23は、偏向電磁石電源制御装置22から入力した励磁電流設定値221の変化量が更新制御の基準となる参照電流値（Iref）以上になると、高周波制御装置32内の周波数更新制御部36に周波数更新指令信号231を出力する。高周波制御装置32内の周波数更新制御部36は、周波数更新指令信号231を入力すると、周波数データメモリ35に記憶された周波数パターンデータ403から励磁電流設定値221の変化に対応する周波数データ351を読み込み、高周波発振器34に周波数設定値321として設定する。 （もっと読む）

【課題】 不要なイオンの放出を抑制することができ、不要なイオンによる下流の線形加速器側の汚染を低減する。
【解決手段】 レーザ光の照射によりイオンを発生させるレーザ・イオン源であって、真空排気される容器１０と、容器１０内に配置され、レーザ光の照射により多価イオンを発生するターゲット２１が収容された照射箱２０と、照射箱２０からイオンを静電的に引き出し、イオンビームとして容器１０の外部に導くイオンビーム引き出し部１２と、照射箱２０から引き出されたイオンビームを静電力により収束する静電レンズ５１と、静電レンズ５１の下流側の位置に設けられ、該位置で収束されたイオンビームを通過させるアパーチャ５２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】補正板の幅を低減できる渦電流磁場補正装置を提供することである。
【解決手段】渦電流磁場補正装置は、偏向電磁石磁極３間に設置された導電性の真空ダクト１と、導電性の補正板２とで構成される。補正板２は真空ダクト１よりも導電率が高い材料で作られる。補正板２は、荷電粒子ビームの進行方向に垂直な真空ダクト１の断面を、偏向電磁石の両磁極が鏡像となる対称面ならびに、その対称面に垂直でかつ荷電粒子ビームの重心が通過する面で四領域に分割して考えたとき、一領域あたりに複数枚ずつ導電性の補正板を設置される。 （もっと読む）

【課題】単色性の高いレーザーコンプトン光を得る。
【解決手段】偏向空洞１３を通過した電子パルス１２は、線形加速器１４を通過する。線形加速器１４中において、この電子パルス１２は高周波加速を受け、高エネルギー電子パルス１５となる。レーザー光源１６は、可視光あるいは近赤外光でありパルス状のレーザー光１７を発する。レーザー光１７は、反射鏡１８で反射されて、高エネルギー電子パルス１５と衝突点１９で衝突する設定とされる。衝突点１９から、高エネルギー光（Ｘ線、ガンマ線等）とされたレーザーコンプトン光２０が発せられる。偏向空洞１３によって電子パルス１２はその進行方向に対して傾斜角をもち、衝突点１９においては、この傾斜角が大きくなった状態となるような設定とされる。 （もっと読む）

【課題】シンクロトロンの小型化が可能なビーム取り出し方法、ならびにそれを用いた小型粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】上記課題を解決する本発明の特徴は、第１番目の出射用偏向器と第２番目の出射用偏向器を出射ビームの変位符号が同じ領域に設置し、第２番目の出射用偏向器の偏向方向を第１番目の出射用偏向器と逆方向とする。第２番目の出射用偏向器で偏向された出射ビームは周回軌道を交差し、変位の符号は逆転する。出射ビームは第１番目の出射用偏向器出口での軌道変位とは逆符号側で、十分なセパレーションがとれる位置に設置した第３目の出射用偏向器によってシンクロトロンから取り出す。 （もっと読む）

【課題】一台のシンクロトロンからビームロスなく同時に二本以上の輸送ラインに出射ビームを供給し、ビーム利用要求に合わせて、単位時間当たりのシンクロトロンの利用効率を上げる。
【解決手段】本発明に関わるビーム出射装置は、粒子ビームがベータトロン振動しながら周回するシンクロトロン１と、該シンクロトロン１に備えられ粒子ビームをその進行方向と平行な縦方向高周波電場を印加することによって加速または減速する高周波加速空洞３と、シンクロトロン１に接続されシンクロトロン１から出射される粒子ビームが輸送されるビーム輸送ライン２とを備えるビーム出射装置Ｒであって、シンクロトロン１内を所定の定常状態で周回する前記粒子ビームに対して高周波加速空洞３による縦方向高周波電場の位相を１８０度ずらすように制御し、シンクロトロン１から出射される粒子ビームの運動量と出射角度を二極化する制御手段を備える。 （もっと読む）

【課題】機器構成が単純であり、かつ多極電磁石の励磁量を変更する際の閉軌道誤差の発生によるチューンの変化を簡単な手順で抑制することが可能なシンクロトロンを提供することを課題とする。
【解決手段】荷電粒子ビームを加速して出射するシンクロトロンであって、シンクロトロン中を周回する荷電粒子ビームの位置を測定するビーム位置モニタと、シンクロトロン中を周回する荷電粒子ビームの軌道を補正する軌道補正手段と、シンクロトロンの周回軌道上に四極磁場以上の多極磁場を発生させる多極電磁石とを備え、さらにビーム位置モニタと多極電磁石が入れ子状に設置されていることによって、上記課題を解決することができる。 （もっと読む）

【課題】ターゲットにおける熱応力の発生を抑制することが可能な荷電粒子の照射制御装置を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る荷電粒子の照射制御装置１００は、荷電粒子Ｐの照射を受けて中性子ｎを発生する物質からなるターゲット３８に対して、当該荷電粒子の照射制御を行う照射制御装置において、荷電粒子Ｐを偏向させる偏向手段１１０，１２０と、偏向手段１１０，１２０を制御して、荷電粒子ＰのビームＢｐをターゲット３８の照射面３８ａ上で周回移動させる制御手段１３０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】偏向電磁石に荷電粒子加速機能を付加させることにより、円形粒子加速器などで使用される加速機器の数を大幅に低減させることによって円形粒子加速器などの低価格化、小型化を可能にする。
【解決手段】偏向用励磁電流によって、第１偏向磁場用励磁コイル１６、第２偏向磁場用励磁コイル１７を励磁させて、磁性体１５のギャップ１４内に偏向磁力線２０を生成させ、磁性体１５のギャップ１４に配置された真空空洞パイプ１０中を通過する荷電粒子を偏向させながら、加速用励磁電流によって、加速用励磁コイル２２を励磁させて、磁性体１５内に加速用磁力線２３を生成させるとともに、この加速用磁力線２３によって磁性体１５の両端部間に誘導電圧Ｖａを生成させ、磁性体１５のギャップ１４に配置された真空空洞パイプ４中を通過する荷電粒子を加速させる。 （もっと読む）

【課題】スキャニング照射等で必要な粒子線の出射電流を簡便な制御機器で安定に変更可能な荷電粒子ビーム照射システムを提供すること。
【解決手段】入射された荷電粒子を偏向電磁石により偏向させて周回軌道に沿って周回させ荷電粒子ビームを形成し、荷電粒子を高周波加速空洞に印加する高周波電圧により加速し、収束用電磁石により荷電粒子ビームを収束させ、六極電磁石により周回軌道に共鳴を励起し、出射装置により荷電粒子を周回軌道から取り出す円形加速器から出射される荷電粒子ビームを照射対象に照射する荷電粒子ビーム照射システムにおいて、高周波加速空洞に印加する高周波電圧のパラメータを制御することにより、周回軌道から取り出す荷電粒子の出射電流を変更するようにした。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成でありながら、加速管で後ろ向きに加速された電子によるビーム出射手段の損傷等を防止できる電子加速器及びこれを備えたＸ線発生装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係る電子加速器１１は、電子ビームＢを出射するビーム出射手段１３と、電子ビームＢの進行方向を前記電子ビームＢの進行方向に対し所定の方向に偏向する偏向磁場を形成する磁場形成手段１４と、偏向磁場により偏向された電子ビームＢが入射する位置に配置され、この入射した電子ビームＢを高周波により加速可能な加速管１５とを備え、偏向磁場は、加速管１５から戻ってきた電子の経路上に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】不要なエネルギー領域のＸ線の発生量を抑制するＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線発生装置５０は、第１の線形加速器５４により加速された電子ビームＢを出射するビーム出射部５２と、電子ビームＢの経路上で薄膜ターゲットＴ１を保持する保持部２０と、薄膜ターゲットＴ１透過後の電子ビームＢを減速するための第２の線形加速器５６と、減速後の電子ビームＢを受け止めるビームダンプ部１８とを備え、第２の線形加速器５６は、高周波が供給されることによって内部に定在波電場が形成される加速セル１５ａを備えた加速部１５を有し、この加速部１５は、定在波電場により荷電粒子を加速したときに当該荷電粒子を外部に出射する開口１６を有し、この開口１６から加速部１５の内部に薄膜ターゲットＴ１通過後の電子ビームＢが入射する位置に配置される。 （もっと読む）

【課題】中心運動量の変化が少なく、また加速した粒子のほとんどを出射させることができる円形加速器を提供すること。
【解決手段】荷電粒子を周回軌道に沿って周回させて荷電粒子ビームを形成する偏向電磁石と、荷電粒子を加速するための高周波加速空洞と、荷電粒子のベータトロン振動を安定領域と共鳴領域に分割するための領域分割装置と、荷電粒子を周回軌道から取り出すための出射装置とを備えた円形加速器において、高周波加速空洞内の高周波の周波数を制御する周波数制御部と偏向電磁石の磁場強度を制御する磁場制御部とを有し、高周波加速空洞内の高周波の周波数と偏向電磁石の磁場強度とを制御することにより荷電粒子ビームの中心軌道を変位させて、荷電粒子を上記ベータトロン振動の上記共鳴領域に移動させる制御を行う制御装置を備えた。 （もっと読む）

【課題】ビーム取り出しの高速ＯＮ／ＯＦＦが可能な環状加速器、ならびにそれを用いた、柔軟な照射に対応可能な粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】上記課題を解決する本発明の特徴は、周回する荷電粒子ビームを加速・減速する環状加速器２００と、環状加速器を制御する加速器制御装置５０１とを備え、環状加速器２００は、荷電粒子ビームのビーム軌道上に、少なくとも１台の六極電磁場成分発生装置２６と、この六極電磁場成分発生装置２６の設置位置での荷電粒子ビームのビーム軌道を変位させる少なくとも１台の軌道偏向電磁石とを有し、加速器制御装置５００は、六極磁場成分発生装置２６を励磁して環状加速器２００から荷電粒子ビームを取り出している期間に、軌道偏向電磁石の励磁を開始するように制御することにある。 （もっと読む）