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Fターム[2G085BA20]の内容

粒子加速器 (3,302) | 加速器の構成装置 (904) | その他の装置 (18)

Fターム[2G085BA20]に分類される特許

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【課題】小型化が可能な構成で、高いビーム制御性で、安定して荷電粒子を高エネルギーに加速する。
【解決手段】このパルス出力中で最も高い強度をもつ主部の強度Iは、第1の電離度までこのガスを電離できるだけの強度である。ただし、Iの強度を持つパルスレーザー光がプラズマ中で相対論的自己集束された際には、第1の電離度よりも高い第2の電離度までこのガスが電離されるように、Iは設定される。また、この主部の前に、Iよりも低い強度Iをもつ前駆部が存在する。前駆部の強度Iは、第1の電離度よりも低い第3の電離度までこのガスを電離できるだけの強度とする。この前駆部によって、主部が照射される前のプラズマ中において、光導波路構造が形成される。主部の照射においては、パルスレーザー光をこの光導波路構造中において伝搬させることができるため、充分な長さの加速場をより安定して形成することができる。 (もっと読む)


本発明は、粒子放射線治療用に使用可能なパルス化ビーム粒子加速器に関する。特に、ビームパルス内の粒子数を制御するデバイス及び方法が提供される。粒子加速器は、ビーム制御パラメータの値の関数として、最小値から最大値の間で、そのパルス化イオンビームの各ビームパルス内の粒子数を変更する手段を備える。各粒子照射に対して、各ビームパルスに対する所要の粒子数は、較正データに基づいてビーム制御パラメータに対する値を定めることによって、制御される。
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【課題】荷電粒子ビームを進行方向に垂直な方向に走査して照射する粒子線治療装置において、ビーム走査中に周回ビーム電荷量が不足することがなく、横方向の線量分布がシンクロトロンの二つ以上の運転周期にわたって形成されることによる横方向線量一様度の悪化を防止することができる荷電粒子照射システムを提供することにある。
【解決手段】イオンビームを加速して出射するシンクロトロン2と、走査電磁石202を通過したイオンビームを照射対象に照射する照射野形成装置200と、走査電磁石202による荷電粒子ビームの照射位置の一回の走査が完了してから次の回の走査を開始するまでの期間におけるシンクロトロン2の周回ビーム電荷量に基づいて、シンクロトロン2の運転パターンを変更する制御装置を備えたことにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】小型で簡素なイオンビーム伝送システムを実現する。
【解決手段】イオンビーム照射ヘッド7内に、高強度レーザー光4aを照射してイオン2を発生させるテープターゲット3と、イオン発生位置の直後に位置するように設置され、テープターゲットから発生したイオンをコリメートしてヘッド外に発出させるキャピラリー基盤1を設けるように構成する。 (もっと読む)


【課題】
粒子線治療装置は、一般に前段加速器とシンクロトロンで構成される加速器システムと照射装置を設置した回転ガントリーで構成される。民間病院への普及に伴い、既存施設に隣接して粒子線治療システムを設置する際には、制限のある敷地面積に設置しなければならない。
【解決手段】
粒子線治療システムを構成要素である加速器システムにおいて、前段加速器をシンクロトロンの階下に設置し、加速器システムを設置する加速器室に隣接する壁面を利用して前段加速器から加速器室までビームを輸送する。これにより、敷地面積に対する加速器室の投影面積を削減可能となる。また、前段加速器からシンクロトロンまでビームを輸送する際の垂直輸送部には、ビーム輸送手段機器を架台に固定し、架台を壁面に据え付けることで、ビーム輸送手段機器の据え付け・調整作業を効率化できる。 (もっと読む)


【課題】中性子発生装置のターゲット部を、容易に回収できるターゲット回収装置を提供する。
【解決手段】中性子減速装置7は、ターゲット6を有するターゲット装置5を収容する収容室8aを有する。ビームダクト11に対して中性子減速装置7を相対移動させ、収容室8a内からターゲット装置5を露出させる。ターゲット装置5の鉛直下方に回収容器43を配置しておき、ターゲット装置とビームダクト11とを着脱自在に接続する主接続手段13の接続を解く。すると、ビームダクト11から離脱したターゲット装置は落下し、回収容器43に収容される。その結果として、ターゲット装置5と一緒にターゲット6をビームダクト11から取り外して容易に回収できる。 (もっと読む)


【課題】小形化に適した構造で、小径で加速された高エネルギーの電子ビームの発生を可能にした、小径の電子ビームを発生する加速器を提供する。
【解決手段】本発明による小径の電子ビームを発生する加速器は、筒状の加速器である。熱電子源,収束電極,陽極電極からなる軸対称構造の電子銃部と前記電子銃部からの電子流の加速と事前のバンチ(変調)をする軸対称構造のプリバンチャ部を一体(A)に備えている。加速器は、前記プリバンチャ部で変調された電子流をさらにバンチし加速するための加速部の前段の軸対称構造のバンチャ部(B)と、バンチャ部(B)の出力をさらに加速する後段加速部(C)とを備えている。 (もっと読む)


【課題】粒子線治療装置を構成するいずれかの装置が故障しても、照射室を使用可能とする冗長化粒子線治療装置を得る。
【解決手段】 粒子線を発生させる入射器を制御する入射器制御装置1には、粒子線を加速させる加速器を制御する加速器制御装置2が接続され、加速器制御装置2には患者へ粒子線を照射する照射室を制御する複数の照射室制御装置3、4、5が接続され、さらに複数の照射室制御装置3、4、5には、それぞれ照射室制御装置を制御する制御PC6、7、8が接続され、いずれかの制御PCが故障したとき、その制御PCが接続されていた照射室制御装置は他の制御PCに接続されるように、各制御PCは、接続先の照射室制御装置を切替える指示を行う切替スイッチと、全ての照射室制御装置への接続パラメータとを有するものである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、1個の電子源でマイクロ波増幅管と加速管の双方に電子ビームを供給できる高エネルギー電子ビーム発生装置及びX線装置を提供することを課題とする。
【解決手段】電子源、入力空洞及び出力空洞からなるマイクロ波増幅管と、マイクロ波増幅管の電子ビームの一部を加速管に供給するビーム制限用スリットと、単一あるいは複数の加速空洞からなる加速管を直列に配置するとともに、マイクロ波増幅管のマイクロ波出力を加速管に供給するマイクロ波導波管を備えたことを特徴とする高エネルギー電子ビーム発生装置及びX線装置である。 (もっと読む)


【課題】放射線を発生することなく高エネルギー粒子ビームを効率良く減速して終端させる。
【解決手段】線形減速器の導波管1にガスを封入しておくことによって入射した高エネルギー粒子ビーム3により封入ガスのプラズマを発生させ、発生したプラズマを導波管内で共鳴振動させ、プラズマ振動エネルギーを電極5a〜7aによって電気エネルギーとして外部に取り出して負荷装置9に供給するように構成する。 (もっと読む)


【課題】
スポットスキャニング法などの高精度な粒子線治療に好適な照射ビームを実現する。
【解決手段】
上記課題を達成するための粒子線治療システムは、荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速し、安定限界を越えた前記荷電粒子ビームを出射するシンクロトロンと、前記荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射装置と、前記シンクロトロンから出射した前記荷電粒子ビームを前記照射装置に輸送するビーム輸送系と、前記シンクロトロンを周回する前記荷電粒子ビームの一部を除去した後、周回する他の前記荷電粒子ビームを前記シンクロトロンから出射して前記照射装置に輸送するように制御する制御装置を有する。 (もっと読む)


【課題】安価且つコンパクトな構成で大口径のビームを被処理物に照射することができると共に高い中性化率を得ることができ、チャージフリー且つダメージフリーな中性粒子ビーム処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の中性粒子ビーム処理装置は、被処理物Xを保持する保持部20と、高周波電圧の印加と印加の停止とを交互に繰り返すことにより、真空チャンバ3内に正イオンと負イオンとを含むプラズマを生成するプラズマ生成部と、真空チャンバ内であって、プラズマ生成部と被処理物との間に配置され、プラズマから放出される紫外線を遮蔽するオリフィス電極4と、真空チャンバ内にオリフィス電極に対して上流側に配置されたグリッド電極5と、オリフィス電極とグリッド電極との間に電圧を印加することで、プラズマ生成部により生成されたプラズマから正イオンと負イオンとを交互に引き出すバイポーラ電源102とを備える。 (もっと読む)


【解決手段】 本明細書において、所望のエネルギースペクトルを有するイオンのビームを伝送するための小型の粒子選択および視準用装置が開示されている。これらの装置は、レーザ加速されたイオン治療システムと共に有用であり、該システムにおいて、初期イオンは広いエネルギー分布および角度分布を有する。超電導電磁石システムは、粒子選択のために異なるエネルギーおよび放射角を有するイオンを分布させるための所望の磁場構造を形成する。磁場の存在下におけるイオン輸送に関するシミュレーションは、選択されたイオンが磁場を通過した後、ビーム軸上にうまく再集束されることを示している。さらにまた、放射線治療応用のためのレーザ加速されたイオンビームについてのモンテカルロシミュレーションを利用して、線量分布が得られる。 (もっと読む)


【課題】シンクロトロンから、動いている3次元の複雑な腫瘍ターゲットに正確に、ビーム強度とエネルギーを可変の状態にして取り出すこと。
【解決手段】特殊な電子ビーム冷却装置による強い強度の“冷たいイオンビーム”をもつ低ビームエミッタンスをビーム強度、エネルギー可変で安定にシンクロトロンの外に取り出す方法であり、電子ビーム冷却装置によるイオンの荷電再結合現象を使うかまたはギャップの小さい10kHz超高速キッカーを用いる。 (もっと読む)


【課題】 試料の表面に低エネルギーの中性粒子ビームを照射し、試料が電気的に中性を保つように不純物を導入することができるドーピング装置を提供する。
【解決手段】 ドーピング装置10は、試料18に中性粒子を照射して不純物をドープする。ドーピング装置10は、試料18を保持する保持台44と、荷電粒子をプラズマとして発生させるプラズマ室14と、荷電粒子を試料に向けて加速する電極32と、加速された荷電粒子を中性化して中性粒子を生成する中性室16とを備えている。また、このドーピング装置10は、中性化室16と試料18との間に設けられ、中性化室16で中性化されなかった荷電粒子54を除去する偏向電極60と、偏向電極60により除去された荷電粒子54を計測することにより試料18へのドープ量を計測する計測手段64,66,68,70とを備えている。 (もっと読む)


高エネルギー粒子パルスの発生装置が提供される。この装置は、1018W/cm2より大きく、好ましくは1020W/cm2(ワット/平方センチメートル)より大きなピーク強度に集束されることができる、パルス幅が100fs(フェムト秒)より短いレーザーパルスを発生させるレーザーシステムと、前記少なくとも1パルスのレーザーパルスに付随する時間的強度プロファイルを、レーザーコントラストが105以上、好ましくは107以上、特に1010に高まるように整形する装置と、少なくとも1パルスの前記レーザーパルスが照射されると、高エネルギー粒子パルス、特に電子または陽子パルス、を放出することができるターゲットとを備える。この装置を用いた対応する方法も記載される。
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ガスクラスタイオンビーム処理のためのシステム(350)と方法は改良ビームと対象物中和機器(122)を利用することで達成される。大きなGCIB電流運搬はGCIBの空間荷電の低エネルギー電子中和によって提供される。電流が大きくなるほどGCIBのガス量は増大する。高ガス運搬量にも拘わらず通気型ファラデーカップビーム測定システム(302)はビーム量測定精度を維持する。
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イオンビームの空間電荷を中和するためのプラズマ発生器を開示し、このプラズマ発生器は、ビームライン径路に沿ってイオンブームを発生しかつ指向するように動作可能なイオン注入装置内に存在する。このプラズマ発生器は、ビーム径路の一部分に電界を発生させる電界発生システムとビーム径路の一部分に磁界を発生させる磁界発生システムとを有する。この磁界は、電界に直交している。プラズマ発生器は、さらに、電界と磁界によって占有される領域内にガスを導入するために作動可能なガス源を含む。この領域内の電子は、電界と磁界のそれぞれによって、この領域内を移動し、少なくともいくつかの電子がこの領域内で衝突し、ガスの一部分をイオン化し、これによりプラズマを発生する。 (もっと読む)


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