【課題】種々の大きさの患部に対して汎用的に使用可能な中性子線治療装置を提供する。
【解決手段】中性子線治療装置１は、加速器と、加速器からの荷電粒子線Ｐで中性子線を生成するターゲットＴと、当該中性子線を減速させ治療用中性子線Ｎを出射するモデレータ５０と、開口４６ａを通じてモデレータ５０からの治療用中性子線Ｎを患者に照射させるコリメータ４６と、を備える。開口４６ａから出射される治療用中性子線Ｎを水ファントム６０中に入射させた場合に、所定の基準位置Ｑ２、Ｑ３，Ｑ４における熱中性子束が、いずれも、治療用中性子線Ｎの照射中心軸線Ｃ上で入射面６０ａから２０ｍｍの深さの基準位置Ｑ１における熱中性子束の０．２倍以上になるように設定されている。 （もっと読む）

【課題】安定な制御と、調整が簡単で調整時間が短い円形加速器を提供すること。
【解決手段】出射装置から出射する荷電粒子のビーム電流の目標電流値を記憶する目標電流値メモリと、ビーム電流検出器の検出信号と目標電流値メモリに記憶された目標電流値との誤差信号に基づくフィードバック制御により、周波数変化率を求め、この求めた周波数変化率と現在の周波数とにより次の周波数を決定する周波数決定部と、を備え、この周波数決定部で決定された次の周波数を周波数メモリに記憶するとともに、決定された次の周波数の高周波を高周波発生装置が発生するようにした （もっと読む）

【課題】軸部材の摺動面の潤滑性を維持しつつ、真空容器へ空気の進入を防止して装置の信頼性の向上を図ることが可能な粒子加速器を提供すること。
【解決手段】本発明の粒子加速器は、真空容器の壁体３ａを貫通して容器内の真空環境に達すると共に進退可能である軸部材２１の周面２１ａ上に潤滑剤を供給すると共に、軸部材２１の周面２１ａ上に形成された空孔３８Ａに対して真空排気を行う軸封装置３０を有する構成とする。これにより、供給された潤滑剤によって軸部材の潤滑性を維持し、軸部材２１の周面上２１ａに形成された空孔３８Ａに対して真空排気を行うことで、真空容器への空気の進入を防止する。 （もっと読む）

【課題】移動可能な機械的デバイスを加速チェンバー内部に配置して有する粒子加速器を提供する。
【解決手段】加速チェンバー（２０６）内部において所望の経路に沿って荷電粒子を導く電場システム（１０６）及び磁場システム（１０８）を含む粒子加速器（１０２）である。本粒子加速器はさらに、加速チェンバーの内部に配置させた機械的デバイス（２８０、２８２）を含む。この機械的デバイスは、加速チェンバー内部の別の位置まで選択的に移動される。本粒子加速器はさらに、コネクタ構成要素（４５６）と該コネクタ構成要素と動作可能に結合させた圧電素子（５１２）とを有する電気機械的（ＥＭ）モータ（２９０、２９２）を含む。このコネクタ構成要素は機械的デバイスに動作可能に取り付けられている。圧電素子を作動させたときにＥＭモータはコネクタ構成要素を駆動し、これにより機械的デバイスが移動する。 （もっと読む）

【課題】電子ビームの電流値の瞬時値を測定しなくても、所要のバケットに電子ビームを追加入射して電子ビームの電流値を略一定に維持可能なシンクロトロンのタイミング制御装置を提案する。
【解決手段】タイミング制御装置５は、トリガ信号ｔを受け取ると電子ビームを出力する電子銃６と、ビーム許可信号ｅおよびバケット信号ｂを受け取るとバケット信号ｂが指定するバケット番号へ電子ビームを出力するよう電子銃６へトリガ信号ｔを出力するトリガ発生装置１１と、を備えるシンクロトロン１に接続し、予め定める時間間隔毎にビーム許可信号ｅおよびバケット信号ｂをトリガ発生装置１１へ出力する。 （もっと読む）

【課題】不使用ビーム量を低減し、ビーム利用効率を向上できる荷電粒子ビーム照射装置を提供することである。
【解決手段】照射野形成装置５００は、シンクロトロン２００から出射された荷電粒子ビームをビーム進行方向と垂直な方向に走査する走査電磁石を有する。制御装置６００の照射順番決定システム６３は、あるエネルギーに周回ビームが加速された状態から他のエネルギーへ再加速または再減速した場合に損失される周回ビーム量を予測し、周回ビーム電荷量モニタ２５により測定された周回ビーム電荷量と、照射線量モニタ５２により測定された照射線量を用いて、照射全体を通して損失する周回ビーム量が最小になるようにシンクロトロンの運転パターンを変更して、照射するエネルギーの順番を決定する。 （もっと読む）

【課題】スキャニング照射等で必要な粒子線の出射電流を簡便な制御機器で安定に変更可能な荷電粒子ビーム照射システムを提供すること。
【解決手段】入射された荷電粒子を偏向電磁石により偏向させて周回軌道に沿って周回させ荷電粒子ビームを形成し、荷電粒子を高周波加速空洞に印加する高周波電圧により加速し、収束用電磁石により荷電粒子ビームを収束させ、六極電磁石により周回軌道に共鳴を励起し、出射装置により荷電粒子を周回軌道から取り出す円形加速器から出射される荷電粒子ビームを照射対象に照射する荷電粒子ビーム照射システムにおいて、高周波加速空洞に印加する高周波電圧のパラメータを制御することにより、周回軌道から取り出す荷電粒子の出射電流を変更するようにした。 （もっと読む）

【課題】中心運動量の変化が少なく、また加速した粒子のほとんどを出射させることができる円形加速器を提供すること。
【解決手段】荷電粒子を周回軌道に沿って周回させて荷電粒子ビームを形成する偏向電磁石と、荷電粒子を加速するための高周波加速空洞と、荷電粒子のベータトロン振動を安定領域と共鳴領域に分割するための領域分割装置と、荷電粒子を周回軌道から取り出すための出射装置とを備えた円形加速器において、高周波加速空洞内の高周波の周波数を制御する周波数制御部と偏向電磁石の磁場強度を制御する磁場制御部とを有し、高周波加速空洞内の高周波の周波数と偏向電磁石の磁場強度とを制御することにより荷電粒子ビームの中心軌道を変位させて、荷電粒子を上記ベータトロン振動の上記共鳴領域に移動させる制御を行う制御装置を備えた。 （もっと読む）

【課題】スポットスキャン法において、スポット数が多くなった場合でも照射時間を短縮し、かつ目標照射量のビームを精度良く各スポットに照射できるようにする。
【解決手段】中央制御装置４６は、事前に目標照射量に応じて、スポット毎に照射時間がほぼ一定となるように目標ビーム電流値を決定し、加速器制御部４７は、その目標ビーム電流値が得られるようシンクロトロン４から出射する荷電粒子ビームの電流値を調整する。また、中央制御装置４６は事前にビーム電流値に対する遅延照射量を計算し、照射装置制御部４８及び加速器制御部４７は目標照射量から遅延照射量を引いた設定照射量に達した時点で出射停止信号を出力してビーム出射を停止する制御を開始する。 （もっと読む）

本発明は、粒子放射線治療用に使用可能なパルス化ビーム粒子加速器に関する。特に、ビームパルス内の粒子数を制御するデバイス及び方法が提供される。粒子加速器は、ビーム制御パラメータの値の関数として、最小値から最大値の間で、そのパルス化イオンビームの各ビームパルス内の粒子数を変更する手段を備える。各粒子照射に対して、各ビームパルスに対する所要の粒子数は、較正データに基づいてビーム制御パラメータに対する値を定めることによって、制御される。
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【課題】一台の粒子加速器によって放射線治療用及びＲＩ製造用の各用途に応じた電流量の加速粒子を取り出すことを可能とし、その結果として、稼働率の向上を図り易くなる粒子加速器及び粒子加速システムを提供することを目的とする。
【解決手段】放射線治療用の陽子ビームＢ１及びＲＩ製造用の陽子ビームＢ２のそれぞれをサイクロン３から取り出すために、サイクロン３に少なくとも二つ設けられた取出ポート２５，２７と、サイクロン３内を周回する負イオンＰを取出ポート２５，２７に誘導するフォイル２１ｂ，２３ｂと、負イオンＰをサイクロン３に供給するイオン源１８と、フォイル２１ｂ，２３ｂの進退量及びイオン源１８による負イオンＰの供給量の少なくとも一方を制御して取出ポート２５，２７から取り出される陽子ビームＢ１，Ｂ２の電流量を制御する制御装置３５と、を備える粒子加速システム１Ａである。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子照射システムにおいて、ビーム走査とエネルギースタッキングにより動く照射対象を照射し、一様な線量分布を形成したいニーズがある。
【解決手段】目標ビーム電流値を設定してイオンビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置１と、走査電磁石２３，２４及びエネルギーフィルタ２６を有し、イオンビームを出射する照射装置２１と、照射対象の位置を測定し、照射対象の移動によって時間変化する信号を出力する監視装置６６を備え、監視装置から出力される信号に基づいて、イオンビームの出射タイミングを決定し、イオンビームのエネルギーを順次変更して各エネルギーでリペイント照射することで、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】シンクロトロン出射時の周回ビーム粒子数やチューンの変化に対し、高精度な照射ビーム電流の制御を安定に維持できる粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】粒子線治療システム１００は、シンクロトロン２００と、ビーム輸送系３００と、照射装置５００から構成される。制御装置６００は、ビーム輸送系３００または治療室４００内のビームモニタ５２（３３）で荷電粒子ビームの電流値を検出し、該電流値が予め定めた目標値に近づくように出射装置２６に印加する高周波電圧の振幅と周波数を制御するフィードバック系を構成し、かつシンクロトロン２００を周回する荷電粒子ビームの粒子数を検出するビームモニタ２８の出力信号に基づきフィードバック系の利得を調整する利得演算器７０を備えている。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビームを進行方向に垂直な方向に走査して照射する粒子線治療装置において、ビーム走査中に周回ビーム電荷量が不足することがなく、横方向の線量分布がシンクロトロンの二つ以上の運転周期にわたって形成されることによる横方向線量一様度の悪化を防止することができる荷電粒子照射システムを提供することにある。
【解決手段】イオンビームを加速して出射するシンクロトロン２と、走査電磁石２０２を通過したイオンビームを照射対象に照射する照射野形成装置２００と、走査電磁石２０２による荷電粒子ビームの照射位置の一回の走査が完了してから次の回の走査を開始するまでの期間におけるシンクロトロン２の周回ビーム電荷量に基づいて、シンクロトロン２の運転パターンを変更する制御装置を備えたことにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

駆動ビームを供給する駆動ビーム源と、加速ビームを供給する加速ビーム源と、駆動ビームと加速ビームの経路に配置された離調共振キャビティと、２ビーム集束装置とを含む２ビーム加速器装置及びその使用方法を提供する。離調された共振キャビティは、矩形、正方形、軸対称、及び又は、円筒状とすることができる。集束装置は、変形４つの磁石と、中央の開口と、中央の開口中のチャネルと、４つの磁石の一つの磁石中にあり、磁性材料でライニングされた非磁性材料のチャネルを有する開口とを備える４極磁石を含むことができる。 （もっと読む）

異なるＲＦ出力を加速器に提供する出力発生器により駆動される荷電粒子加速器を備え、インターレース型動作が可能である多重エネルギー放射線源が開示される。自動周波数制御技法は、加速器に提供されるＲＦ出力の周波数を加速器の共振周波数に一致させるように提供される。出力発生器が機械的に同調可能なマグネトロンである一例では、自動周波数制御装置は、これらのＲＦ出力パルスが提供される場合に、１つの出力におけるＲＦ出力パルスの周波数を加速器の共振周波数に一致させるように提供され、当該マグネトロンは、これらのＲＦ出力パルスが提供される場合に、他の出力におけるマグネトロンの周波数偏移が、加速器における共振周波数偏移に少なくとも部分的に一致するように動作する。他の例では、出力発生器がクライストロンまたは電気的に同調可能なマグネトロンである場合、別の自動周波数制御装置がＲＦ出力パルス毎に設けられる。複数の方法およびシステムが開示される。 （もっと読む）

【課題】大電流かつ高エネルギの直流陽子加速器を提供する。
【解決手段】本発明における加速器システムは直流の高電圧・大電流の電力供給装置と、排出イオン加速管と、陽子イオン源と、双極子分解磁石と、高電圧端子に設置された真空ポンプとを有する。大電流・高エネルギの直流陽子ビームは、ホウ素中性子補足治療法（ＢＮＣＴ）、核共鳴吸収法（ＮＲＡ）、及びシリコン分割のようなアプリケーションに応じて、多くの対象に指向することができる。 （もっと読む）

【課題】シンクロトロン内の蓄積ビームを効率良く出射・利用でき、かつ照射線量の平坦度を担保することができる荷電粒子ビーム照射システムおよび荷電粒子ビーム出射方法を提供する。
【解決手段】シンクロトロン１３の運転サイクルにおける出射制御期間の直前にシンクロトロン内を１３周回しているイオンビームの蓄積ビーム電荷量Ｑｍ０を測定する計測手段１５と、イオンビームの蓄積量の測定結果Ｑｍ０に基づいてイオンビームの全量が予め設定した出射制御時間Ｔｅｘの終了に合わせて出射し終わるようにイオンビームの出射を制御するビーム出射制御手段２０，２４，２８，２９とを設ける。照射装置がＲＭＷ３２を備える場合、蓄積ビーム電荷量の基準値に対する測定値の割合Ｑｍ０／Ｑｓ０と、出射制御時間Ｔｅｘに対する実際のビーム出射時間の割合Ｔｂ／Ｔａに応じて出射用高周波電圧の振幅値を制御する。 （もっと読む）

本発明は、癌腫瘍の荷電粒子照射と併用する荷電粒子ビーム抽出方法及び装置を有する。そのシステムは、高周波空洞システムを使用して荷電粒子の流れのベータトロン振動を誘導する。荷電粒子の流れの十分な振幅変調によって、荷電粒子の流れは箔などの部材を叩く。箔は荷電粒子の流れのエネルギーを低下させ、シンクロトロン１３０内の荷電粒子の流れの曲率半径が十分に小さくし、エネルギーが低下した荷電粒子の流れを最初の荷電粒子の流れから物理的に分離することができる。次に、物理的に分離された荷電粒子の流れは、供給される磁場及び偏向器の使用によって、シンクロトロン１３０から取り除かれる。 （もっと読む）

本発明は、癌腫瘍の多軸荷電粒子照射治療と併用される荷電粒子ビーム入射方法及び装置を有する。陰イオン源は、陰イオン・ビーム源、真空システム、イオン・ビーム・フォーカス・レンズ、及び又は２連型加速器を備えている。陰イオン源は、陰イオン・ビームをフォーカスするために電場線を使用する。陰イオン源プラズマ室は磁性材料を有し、その磁性材料は高温プラズマ室及び低温プラズマ領域の間に磁場障壁を設ける。入射システム真空システム及びシンクロトロン真空システムは変換箔によって分離され、その変換箔において陰イオンが陽イオンに変換される。その箔は、入射システム真空室に高めの部分圧力及びシンクロトロン真空システムに低めの圧力を用意する真空管の端に貼付される。 （もっと読む）