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Fターム[2G085DA03]の内容

粒子加速器 (3,302) | 荷電粒子ビームの取扱い (129) | ビームの改変 (126) | 粒子ビームの変換(電荷変換、X線等の発生) (103)

Fターム[2G085DA03]に分類される特許

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【課題】陽子ビームの照射面積を増大すること。
【解決手段】ノズル10から噴射された液体リチウムの噴流は、ノズル10の形状に従って膜状に噴射され、液体リチウムターゲットを形成する。この液体リチウムターゲットの表面は、ノズル10の長辺11が波形状になっていることから、当該波形状に応じたトタン板状の波面が形成される。液体リチウムの噴流の速度は最大で20m/sであるため、ノズル10の長辺部分の波形状がそのまま定在波の自由液面として形成される。この定在波が形成され自由液面は、平滑な自由液面に比べて表面積が大きくなるので、陽子ビームを受け止める領域が増えて中性子の発生効率が高くなる。 (もっと読む)


【課題】製造コストや維持コストおよび占有体積を抑制することが可能なX線照射装置および高周波電力生成ユニットの提供。
【解決手段】X線照射装置100は、高周波電力を生成する高周波電力生成ユニット112と、電子線を放出する電子銃110と、高周波電力生成ユニット112による高周波電力の供給を受けて、電子銃110から放出された電子線を加速する加速器118と、加速器118で加速された電子線をX線に変換するX線変換部120と、を備え、高周波電力生成ユニット112は、高電圧のパルス電圧を生成する高周波電源112aと、振幅が相異なる複数のパルスを規則的に配したドライブ信号を生成する信号発生器112cと、パルス電圧の供給を受け、ドライブ信号に応じて高周波電力を生成する高周波電力増幅器112bと、を備える。 (もっと読む)


【課題】癌細胞を高い選択性をもって破壊する。
【解決手段】薬剤投与手段10は、患者A、B、Cに対して特定の同位体を含む薬剤11を、例えば注射等によって投与する。次に、薬剤11が患部に蓄積した患者A、B、Cにおける各患部A1、B1、C1に、ガンマ線照射手段20から発したガンマ線21が照射される。ここで投与される薬剤11には、ガンマ線21を吸収することによって重粒子を発生する同位体が含まれる。ガンマ線照射手段20として、特にレーザーコンプトンガンマ線源が特に好ましく用いられる。 (もっと読む)


【課題】線形加速器から出射させる電子ビームのエネルギを異ならせても、発生させるX線の線量の変動を抑制する、ことを目的とする。
【解決手段】X線発生装置10は、電子ビームを発生させる電子銃12、電子銃12によって発生された電子ビームをマイクロ波によって加速させる線形加速器14、線形加速器14によって加速された電子ビームが照射されることによって、X線を発生するX線ターゲット16、線形加速器14に導入させるマイクロ波を発生するマイクロ波発生装置、マイクロ波の電力が変化するようにマイクロ波発生装置を制御するパルスモジュレータを備える。線形加速器14は、複数のバンチャ空洞40を有しているため、マイクロ波の電力を低下させることで加速位相からずれた電子が生じても、該電子を次の時間周期の加速位相にて加速させることができるので、マイクロ波の電力を低下させても出射される電子ビームの強度の低下が抑制される。 (もっと読む)


【課題】メンテナンス時に作業者が受ける放射線の影響を低減すると共に、減速体を設置する部屋の面積の増大を抑制することができる中性子線照射装置及び中性子線照射装置のメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】本発明は、照射室Rm内の被照射体に中性子線を照射する中性子線照射装置1であって、荷電粒子を加速して荷電粒子線Pを出射するサイクロトロン2と、荷電粒子線Pが照射されることで中性子線Nを発生させるターゲット3と、サイクロトロン2とターゲット3とを接続する真空ダクト4と、ターゲット3で発生した中性子線Nを減速させるモデレータ5と、を備え、ターゲット3は、モデレータ5から離間するように移動可能である。 (もっと読む)


【課題】複数の異なるエネルギーのX線を放射すると共に、生成したX線のエネルギーのばらつきを抑制する。
【解決手段】X線検査装置10に備えられるX線発生装置14は、粒子加速装置20が複数の異なるエネルギーのX線を発生させるための荷電粒子ビームを生成し、ターゲット22に荷電粒子ビームが照射されることによってX線を放射する。単一エネルギー制御装置は、ターゲット22に荷電粒子ビームが照射されることによって、ターゲット22に流れる電流の計測値及びターゲット22から放射されるX線の線量の計測値から求められる単位ターゲット電流当たりのX線線量に基づいて、異なるエネルギーのX線毎に粒子加速装置20を制御する。 (もっと読む)


【課題】従来よりも、陽子による放射化能の低減、及び有害且つ放射化能の高い速中性子の低減が可能であり、且つターゲット材料の熱問題や水素脆化の問題を根本的に解決することが可能な中性子発生用ターゲットを提供する。
【解決手段】本発明の複合型ターゲットは、陽子を衝突させて中性子を発生させるためのターゲットが、ベリリウム及び非金属材料を複合して成る複合型ターゲットであり、該ベリリウムが、陽子線の進行方向に対して垂直な平面積以上の表面積を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】移動可能な機械的デバイスを加速チェンバー内部に配置して有する粒子加速器を提供する。
【解決手段】加速チェンバー(206)内部において所望の経路に沿って荷電粒子を導く電場システム(106)及び磁場システム(108)を含む粒子加速器(102)である。本粒子加速器はさらに、加速チェンバーの内部に配置させた機械的デバイス(280、282)を含む。この機械的デバイスは、加速チェンバー内部の別の位置まで選択的に移動される。本粒子加速器はさらに、コネクタ構成要素(456)と該コネクタ構成要素と動作可能に結合させた圧電素子(512)とを有する電気機械的(EM)モータ(290、292)を含む。このコネクタ構成要素は機械的デバイスに動作可能に取り付けられている。圧電素子を作動させたときにEMモータはコネクタ構成要素を駆動し、これにより機械的デバイスが移動する。 (もっと読む)


【課題】陽子による部材の放射化を低減するためのターゲット、該ターゲットに陽子を衝突させて低エネルギーの中性子、特に医療用の中性子を発生させるための中性子発生方法及び装置を提供する。
【解決手段】陽子による部材の放射化を低減させるために非金属材料及びベリリウムから構成される新規の複合型ターゲットを用いる。有害な速中性子が殆ど含まれていない中性子を発生させるために照射陽子として4MeV以上11MeV未満の範囲にある陽子を用いる。そしてまた、加速器として、小型の線形加速器を用いる。 (もっと読む)


【課題】フォイルストリッパーの長寿命化を図ることができる粒子加速器及びBNCT装置を提供する。
【解決手段】サイクロトロンは、イオン源から取り入れた荷電粒子を加速させる粒子加速器であって、H粒子を加速させる加速空間に所定方向の磁場を発生させる磁場発生手段と、H粒子の加速軌道A上に設けられ衝突したH粒子から電子を剥ぎ取るフォイルストリッパー71と、を備え、フォイルストリッパー71は、磁場方向(Z方向)に対して傾斜する傾斜面71aを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】遮蔽体を少なくし、あるいは無くすことができるとともにS/N比を改善することができるX線計測装置及びX線計測方法を提供する。
【解決手段】X線検出データのうち、衝突点9においてX線4が発生している時に対応する検出データを有効化し、その他のデータを無効化して、X線波形を生成する。例えば、レーザ光3がパルスレーザ光であり、電子ビーム1が連続状又はパルスレーザ光のパルス幅と同じかそれより長いパルス幅をもつパルス状の電子ビームである場合は、レーザ光3を検出し、X線検出データとレーザ光検出データとを、衝突点9に関して時間軸を一致させて乗算して、X線波形を生成する。 (もっと読む)


【課題】単色性の高いレーザーコンプトン光を得る。
【解決手段】偏向空洞13を通過した電子パルス12は、線形加速器14を通過する。線形加速器14中において、この電子パルス12は高周波加速を受け、高エネルギー電子パルス15となる。レーザー光源16は、可視光あるいは近赤外光でありパルス状のレーザー光17を発する。レーザー光17は、反射鏡18で反射されて、高エネルギー電子パルス15と衝突点19で衝突する設定とされる。衝突点19から、高エネルギー光(X線、ガンマ線等)とされたレーザーコンプトン光20が発せられる。偏向空洞13によって電子パルス12はその進行方向に対して傾斜角をもち、衝突点19においては、この傾斜角が大きくなった状態となるような設定とされる。 (もっと読む)


【課題】電子ビームとレーザ光との衝突点をガスターゲットの位置関係に応じて最適に設定し、レーザ光の減衰を防止することで、X線の発生効率を向上する。
【解決手段】真空中においてレーザ光源から発光されたレーザ光を第1レーザ光と第2レーザ光に分光するステップと、第1レーザ光にプラズマを発生し、電子を加速する媒体であるガスターゲットを投射するステップと、第1レーザ光を利用して加速された電子ビームと第2レーザ光とを、投射されたガスターゲットによってガス密度が他の真空領域よりも高密度である高密度領域の境界面を基準とした所定の位置で衝突させてX線を発生させるステップとを備える。 (もっと読む)


【課題】光路の形成に利用するミラーの数を低減することでX線発生装置を小型化する。
【解決手段】レーザ光を発生するレーザ光源10と、レーザ光源から発生されたレーザ光を、電子を加速させるための第1レーザ光と加速された電子に衝突させる第2レーザ光とに分光する分光手段11と、真空室中で第1レーザ光にプラズマを発生し、電子を加速する媒体であるガスを発生させる発生手段16と、分光手段で分光された第2レーザ光の光路L2に第1レーザ光及び第2レーザ光と干渉しないように設置され、それぞれ位置と回転角度を調節してこの第2レーザ光の光路L2を設定する2枚のミラー12a,12bと、第1レーザ光を利用して加速された電子と第2レーザ光とが衝突する位置を設定する集光手段13とを備える。 (もっと読む)


本発明は、キャパシタスタックと、そのキャパシタスタックを充電するためのスイッチングデバイスとを備えたDC高電圧源に関し、キャパシタスタックは、第一の電位に設定可能な第一の電極(37)と、第一の電極(37)に対して同心状に配置され第二の電位に設定可能な第二の電極(39)と、第一の電極(37)と第二の電極(39)との間に同心状に配置され第一の電位と第二の電位との間の中間電位に設定可能な少なくとも一つの中間電極(33)とを有し、キャパシタスタックの電極(33、37、39)がスイッチングデバイス(35)に接続され、スイッチングデバイス(35)の動作時に、互いに同心状に配置されたキャパシタスタックの電極(33、37、39)が、増大していく電位レベルに設定可能となるようにスイッチングデバイスが構成されていて、キャパシタスタックのスイッチングデバイス(35)が、電子管(63)を備える。
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【課題】不要なエネルギー領域のX線の発生量を抑制するX線発生装置を提供する。
【解決手段】X線発生装置50は、第1の線形加速器54により加速された電子ビームBを出射するビーム出射部52と、電子ビームBの経路上で薄膜ターゲットT1を保持する保持部20と、薄膜ターゲットT1透過後の電子ビームBを減速するための第2の線形加速器56と、減速後の電子ビームBを受け止めるビームダンプ部18とを備え、第2の線形加速器56は、高周波が供給されることによって内部に定在波電場が形成される加速セル15aを備えた加速部15を有し、この加速部15は、定在波電場により荷電粒子を加速したときに当該荷電粒子を外部に出射する開口16を有し、この開口16から加速部15の内部に薄膜ターゲットT1通過後の電子ビームBが入射する位置に配置される。 (もっと読む)


【課題】簡素な構成でありながら、加速管で後ろ向きに加速された電子によるビーム出射手段の損傷等を防止できる電子加速器及びこれを備えたX線発生装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係る電子加速器11は、電子ビームBを出射するビーム出射手段13と、電子ビームBの進行方向を前記電子ビームBの進行方向に対し所定の方向に偏向する偏向磁場を形成する磁場形成手段14と、偏向磁場により偏向された電子ビームBが入射する位置に配置され、この入射した電子ビームBを高周波により加速可能な加速管15とを備え、偏向磁場は、加速管15から戻ってきた電子の経路上に形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、切り換え可能な疑中性ビームシステムを用いてリアルタイムで基板を処理して、フォトレジスト層のエッチング耐性を改善する装置及び方法を供してよい。それに加えて、前記の改善されたフォトレジスト層は、エッチング処理において、ゲート及び/又はスペーサの限界寸法(CD)のより正確な制御、ゲート及び/又はスペーサのCD均一性の正確な制御、並びに、ライン端部粗さ(LER)及びライン幅粗さ(LWR)の除去に用いられてよい。
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【課題】比較的簡単な構成でかつ安価に、収束性及びコヒーレンスが高い電磁波を発生することができる電磁波発生装置及びその発生方法を提供すること。
【解決手段】 電子ビーム(e)をターゲット(T)に入射して電磁波(W)を発生させる電磁波発生装置であって、
電子ビーム(e)の電子エネルギーが、相対性理論が適用される1Mev以上であり、
ターゲット(T)の形状が線状部材または薄膜状部材であり、
ターゲット(T)に磁場を印加して、電磁波を発生させるターゲト内の自由電子の運動方向を一方向に制限することによって、収束性及びコヒーレンスが高い電磁波(W)を発生する。 (もっと読む)


【課題】高エネルギー、大電流の荷電粒子ビームが照射されるターゲットを確実に冷却し、ターゲットが破損した場合であっても真空破壊等の甚大な事故を引き起こすことがないこと。
【解決手段】荷電粒子ビーム2が照射されて中性子を発生するビーム照射部3を有するターゲット板1と、このターゲット板と間隔をおいて配置され、冷却構造を有する吸熱板5とを備えている。
さらにビーム照射部を吸熱板に対向する位置に移動させるターゲット駆動機構9、10とを備えていることを特徴とする。 (もっと読む)


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