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Fターム[2G085DB02]の内容

Fターム[2G085DB02]に分類される特許

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【課題】 質量が大きい粒子であってもレーザー航跡場加速法により充分加速することができる粒子加速装置を提供する。
【解決手段】 レーザー航跡場加速法によりミュオンμを加速する粒子加速装置であって、ミュオンμの入射側を基準にプラズマ電子密度が高い高圧ガス3Cを噴射させる領域からプラズマ電子密度が低い低圧ガス3Dを噴射させる領域に向け、ミュオンμの進行方向に沿って順に高圧ガス噴射領域3Aおよび低圧ガス噴射領域3Bを並設したガスジェット発生装置100と、高圧および低圧ガス3C,3Dをプラズマ化するレーザー光Lを照射するためのレーザー装置1と、ミュオンμの進行方向にレーザー装置1から照射するレーザー光Lの光軸が一致するようにレーザー光Lの光路を調整するミラー2とを有する。 (もっと読む)


【課題】光路の形成に利用するミラーの数を低減することでX線発生装置を小型化する。
【解決手段】レーザ光を発生するレーザ光源10と、レーザ光源から発生されたレーザ光を、電子を加速させるための第1レーザ光と加速された電子に衝突させる第2レーザ光とに分光する分光手段11と、真空室中で第1レーザ光にプラズマを発生し、電子を加速する媒体であるガスを発生させる発生手段16と、分光手段で分光された第2レーザ光の光路L2に第1レーザ光及び第2レーザ光と干渉しないように設置され、それぞれ位置と回転角度を調節してこの第2レーザ光の光路L2を設定する2枚のミラー12a,12bと、第1レーザ光を利用して加速された電子と第2レーザ光とが衝突する位置を設定する集光手段13とを備える。 (もっと読む)


【課題】放射光発生装置において、電子周回部の周長又はその一部を測長し、その変化量から放射光パルス時間を制御する装置及び方法を提供。
【解決手段】入射した電子ビームを加速し偏向電磁石7により電子周回部を周回させるエネルギー回収型リニアック1と、前記電子周回部に設けた複数の電磁石からなる周長補正用シケイン10と、偏向電磁石7で発生した放射光を2台のスライド移動可能なステージに設置した回転ミラーに斜入射させることにより光軸を変えずに放射光の光路長を変化させる光学遅延機構11とからなる。 (もっと読む)


【課題】逆コンプトン散乱現象を利用して硬X線を生成するX線射出装置において、安定して硬X線を射出する。
【解決手段】第1導光部4及び第2導光部5が、平行レーザ光L1の分岐手段2への基準入射条件からのズレ量に起因する変化が対称面Aに対して対称となるように電子加速用レーザ光L2及び衝突用レーザ光L3を導光する。 (もっと読む)


【課題】高強度の放射光を取り出すことができる電子蓄積リングを提供する。
【解決手段】予め定められた曲率を有する設計軌道10に沿って電子ビームを周回させ、設計軌道10から接線方向に放出された放射光を外部に取り出すための取出口4を有する電子蓄積リング1であって、取出口4の中心から設計軌道10への接線が、設計軌道10上の接点となる第1の位置Aを超える延長線上に配置された第1の集束ミラー6aを備え、第1の集束ミラー6aは、設計軌道10上の第2の位置Bから接線方向に放出された放射光L2を反射させて、第1の位置Aで集束させることにより、設計軌道10上の第1の位置Aから接線方向に放出される放射光L1に重畳させて、取出口4から外部に放出するように構成される。 (もっと読む)


【課題】比較的小型の加速器装置を利用して、ほぼ同時かつ同方向に二つの異なる波長帯の短パルス高輝度光ビームを得ることができる二帯域短パルス高輝度光源を提供することを目的とする。
【解決手段】二帯域短パルス高輝度光源装置は、大電荷量の線形加速器を用いた相対論的電子ビームに大出力短パルスレーザーを衝突させるコンプトン散乱により準単色の硬X線ビームを発生させ、前記電子ビームを周期長の短いアンジュレータで短パルスレーザーから分離した一部分と相互作用させてバンチスライス法によるテラヘルツ光を発生させたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】放射光施設で用いられる硬X線、軟X線を集光させるためX線集光装置であって、大きな開口数(NA)を有するK−Bミラーのアライメントを高精度且つ迅速に行うことが可能なミラーマニピュレータを備え、集光スポットが100nm以下の高い空間分解能を達成することが可能なX線集光装置を提供する。
【解決手段】光源と集光点を焦点とする楕円の形状が作り込まれた2枚の全反射ミラーからなる第1ミラー1と第2ミラー2を互に垂直に配置したK−Bミラー配置とし、2本の平行なレーザービームの一方を、水平に配した第1ミラーに垂直に入射し、他方を垂直に配した第2ミラーに90°方向を変換して垂直に入射し、両ミラーからの反射ビームが入射ビームと重なるように調節する。 (もっと読む)


【解決手段】 本明細書において、所望のエネルギースペクトルを有するイオンのビームを伝送するための小型の粒子選択および視準用装置が開示されている。これらの装置は、レーザ加速されたイオン治療システムと共に有用であり、該システムにおいて、初期イオンは広いエネルギー分布および角度分布を有する。超電導電磁石システムは、粒子選択のために異なるエネルギーおよび放射角を有するイオンを分布させるための所望の磁場構造を形成する。磁場の存在下におけるイオン輸送に関するシミュレーションは、選択されたイオンが磁場を通過した後、ビーム軸上にうまく再集束されることを示している。さらにまた、放射線治療応用のためのレーザ加速されたイオンビームについてのモンテカルロシミュレーションを利用して、線量分布が得られる。 (もっと読む)


高エネルギー粒子パルスの発生装置が提供される。この装置は、1018W/cm2より大きく、好ましくは1020W/cm2(ワット/平方センチメートル)より大きなピーク強度に集束されることができる、パルス幅が100fs(フェムト秒)より短いレーザーパルスを発生させるレーザーシステムと、前記少なくとも1パルスのレーザーパルスに付随する時間的強度プロファイルを、レーザーコントラストが105以上、好ましくは107以上、特に1010に高まるように整形する装置と、少なくとも1パルスの前記レーザーパルスが照射されると、高エネルギー粒子パルス、特に電子または陽子パルス、を放出することができるターゲットとを備える。この装置を用いた対応する方法も記載される。
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