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Fターム[2G085EA08]の内容

粒子加速器 (3,302) | 材料、電気回路、製造方法、検査、用途 (362) | 用途 (168) | 製造、加工用(露光装置) (27)

Fターム[2G085EA08]に分類される特許

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【課題】陽子、重陽子又はヘリウムイオンからなる大電流、高エネルギーイオンビームを生成するためのシングルエンド直流線形加速器を提供する。
【解決手段】加速器は、高電圧ターミナル4内に配置されたイオンビーム7を生成するイオン源6と、イオンビーム7を精製するための分析磁石19と、加速管3と、重要なイオンを高エネルギーに加速する直流高電圧電源と、イオン源6からの中性ガスの大部分を接地電位の真空ポンプ18に向けて輸送するポンプ輸送管17とを備えており、それにより加速管3内における大きい真空圧力の悪影響を防止する。 (もっと読む)


【課題】多くのレベルをもつ出力エネルギーを与えることができる定在波粒子ビーム加速器を提供する。
【解決手段】粒子ビームを加速する加速器が、軸線にそって連続して連結された複数の電磁空洞16を有する主要体部と、隣接する電磁空洞の二つに連結される側方空洞を有する結合体部と、側方空洞の電場の分布を変更する唯一のプローブ56を有するエネルギー切り替え部80と、を含み、プローブ56は、円筒状のカップ形状体部50の軸線59とは平行であるがずれている軸線を有し、プローブ56は、電磁空洞16の二つの間の電磁場結合を、第二の側方空洞34へのプローブ56の挿入の程度を変化させることにより変更することができるように設けられる。 (もっと読む)


本発明は、切り換え可能な疑中性ビームシステムを用いてリアルタイムで基板を処理して、フォトレジスト層のエッチング耐性を改善する装置及び方法を供してよい。それに加えて、前記の改善されたフォトレジスト層は、エッチング処理において、ゲート及び/又はスペーサの限界寸法(CD)のより正確な制御、ゲート及び/又はスペーサのCD均一性の正確な制御、並びに、ライン端部粗さ(LER)及びライン幅粗さ(LWR)の除去に用いられてよい。
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【課題】中性粒子ビームが照射される被処理体の加工状態を把握するため、被処理体と同じ位置において中性粒子ビームの諸特性(全エネルギーフラックス、残留イオン、光エネルギーフラックス)を観測することが可能な測定ユニットを提供する。
【解決手段】測定ユニット12は、真空処理空間内にあって、中性粒子ビームが照射される被処理体11と同じ領域内に収容可能なチップ状の基材と、該基材に配された全エネルギーフラックスの測定部および残留イオンの測定部と、を少なくとも備える。 (もっと読む)


【課題】ダイポールモードの共振安定性を向上させるとともに、製造容易な加速管を提供する。
【解決手段】アイリスを設けたディスクを設けることによって複数のセルを結合した、ディスクロード型加速管において、アイリスの形状をレーストラック形状(2つの半円を直線でつないだ形状)などの扁平な形状とする。これにより、2つのダイポールモードの縮退が解け、サプレッサーなどの追加のアイリスを設けなくても、ビーム偏向方向が安定した荷電粒子加速が可能となる。また、単一のアイリスを設ければよいだけなので、製造も容易となる。 (もっと読む)


単色空間電荷で中性化された中性ビームで活性化される化学プロセスによって基板を処理する化学プロセスシステム及び当該化学プロセスシステムの使用方法が記載されている。当該化学プロセスシステムは、第1プラズマポテンシャルで第1プラズマを生成する第1プラズマチャンバ、及び、前記第1プラズマポテンシャルよりも大きい第2プラズマポテンシャルで第2プラズマを生成する第2プラズマチャンバを有する。前記第2プラズマは前記第1プラズマからの電子束を用いて生成される。さらに当該化学プロセスシステムは、前記第2プラズマチャンバ内に基板を設置するように備えられた基板ホルダを有する。
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【課題】イオン源から引き出したイオンビームがビーム加速電極による加速・集束領域に入射するまでの間に、空間電荷効果によって拡散(損失)することを軽減したイオンビーム引出加速方法及び装置の提供。
【解決手段】イオン源3は、線形加速器4の容器4aに結合した接地電位の真空容器3a内に絶縁状態に設置した容器状の高電圧ターミナル3b内にプラズマ発生ターゲット3dを設置し、プラズマ発生ターゲット3dから発生した高電圧ターミナル3b内のプラズマを線形加速器4のビーム加速・集束空間4bまで輸送するための筒状電極3fを高電圧ターミナル3bに設けて、筒状電極3fの先端位置が線形加速器4のイオンビーム加速・集束空間4bを形成するビーム加速電極4cの開口端の位置に一致するように設置する。 (もっと読む)


【課題】使用条件が異なる場合に容易に対応できる汎用性をもたせると共に、ビーム照射中に電子ビームの分布を変更することにより、リアルタイムに基板の処理状態を制御可能にする。
【解決手段】陰極としての放電容器1の内部に、陽極となる棒状の電極2を2本配置し、これらの電極2に直流電源6を接続して電圧を印加する。また、2本の電極2の間に1本の棒状の絶縁体3を配置し、かつ、絶縁体3を絶縁体駆動部20により上下左右に移動可能な構造にする。さらに、放電容器1には、容器内でプラズマを発生させるために必要なガスを導入するガス供給口4、および電子ビームを放出する放出部であるビーム放出孔5を設ける。 (もっと読む)


【課題】自立できる、一以上の分離可能な半導体膜を形成するためのシステム。
【解決手段】本装置は、第一のエネルギーレベルにある複数の平行化した荷電粒子を生成するイオン源を備える。本システムは、1からN個の相互に連続した高周波四重極(RFQ)エレメントを有するリニア加速器を備え、Nは1より大きな整数である。本リニア加速器は、第一のエネルギーレベルにある複数の平行化した荷電粒子を、第二のエネルギーレベルを有する荷電粒子ビーム内へと、制御して加速する。1番目のRFQエレメントは、イオン源に動作可能に接続される。本システムは、RFQリニア加速器の番号NのRFQエレメントに接続される出口アパーチャを備える。具体的な実施形態において、本システムは出口アパーチャに接続されるビームエキスパンダを備え、該ビームエキスパンダは第二のエネルギーレベルにある荷電粒子ビームを処理し、荷電粒子の拡大ビームとするよう構成される。本システムは、ビームエキスパンダと、注入のためにプロセスチャンバ内に供給されるワークピースとに接続する、プロセスチャンバを備える。 (もっと読む)


【課題】ダイレクトデジタル合成(DDS)技術を使用して、高精度な周波数および位相の制御並びに自動化された電極電圧の位相較正を達成することにより改善されたLINACとこれを使用したHEイオン注入システムを開示する。
【解決手段】DDSコントローラ130は、多段線形加速器を使用した注入処理において、加速器の各ステージ内のそれぞれの電極に対する電界の周波数および位相を同期させるために使用される。DDSコントローラは、電極の電界の位相を変調するためのデジタル位相合成(DPS)回路138、および、デジタル周波数合成またはDFS134を使用して、それぞれのDPS回路に印加されるマスター周波数およびマスター位相をデジタル処理により合成するためのマスター発振器を含んでいる。各ステージのRF電極の電圧の位相および振幅を自動的に較正するための方法も開示される。 (もっと読む)


【課題】軸方向磁場の強度変化によるプラズマ密度或いはイオンビーム電流の変化を低減し、精密な磁場調整なしでビーム電流を安定化するマイクロ波イオン源或いはプラズマ源と、それを利用した線形加速器システム、医療用加速器システム等の機器等の応用装置を提供する。
【解決手段】永久磁石6を放電容器4の周囲に16個、隣り合う磁石の極性が異なるように設置し、放電で発生するプラズマを閉じ込める多極磁場B2を放電容器壁近傍に局部的に発生させる。また、この多極磁場により軸方向磁場B1の変化によるプラズマ密度の変化が低減され、電極9a〜9cの孔より引き出されるイオンビームの電流の変化も低減される。これにより磁場B1の精密な調整なしでイオンビーム電流を安定化できる。また、軸方向磁場B1を永久磁石15で発生させた場合でも、大電流のイオンビームが安定に得られる。 (もっと読む)


【課題】
集束イオンビーム形成装置において、加速器と集束レンズ系を一体化とすることにより小型化を実現するとともに、加速器の加速管も集束レンズ系の一部とすることで装置全体の縮小率も最大化することで、ナノビームを形成する。
【解決手段】
加速器が、折り返し型タンデム加速器であるため、高電圧ターミナル部に180°分析電磁石を置き、高エネルギー側の加速管の入口部にエネルギー分析及び発散制限スリット機能を有するスリットを設置し、再度、単孔レンズ効果を有する加速管によりビームを加速するとともに、集束を行い、MeV領域高エネルギーイオンナノビームを形成する。 (もっと読む)


【課題】エッチング時に必要な加速エネルギーを確保することができる、プラズマを分離加速させる中性ビームエッチング装置を提供する。
【解決手段】中性ビームエッチング装置は、一方が第1開口を形成する第1チャンバー110と、一方が第2開口を形成し、プラズマ生成領域が形成されるよう第1チャンバー110の内部に配置される第2チャンバー120と、第1開口およびプラズマ生成領域を連結する第1チャネル130と、第2開口およびプラズマ生成領域を連結する第2チャネル140と、第1チャンバー110の外部表面上に配置し、磁場を形成してプラズマ生成領域でプラズマを生成するコイル160と、第1チャネル130および第2チャネル140に配置し、第1チャネル130および第2チャネル140を介してプラズマを陽イオンと電子とに分離加速させて放出させる加速部170とを含む。 (もっと読む)


【課題】 試料の表面に低エネルギーの中性粒子ビームを照射し、試料が電気的に中性を保つように不純物を導入することができるドーピング装置を提供する。
【解決手段】 ドーピング装置10は、試料18に中性粒子を照射して不純物をドープする。ドーピング装置10は、試料18を保持する保持台44と、荷電粒子をプラズマとして発生させるプラズマ室14と、荷電粒子を試料に向けて加速する電極32と、加速された荷電粒子を中性化して中性粒子を生成する中性室16とを備えている。また、このドーピング装置10は、中性化室16と試料18との間に設けられ、中性化室16で中性化されなかった荷電粒子54を除去する偏向電極60と、偏向電極60により除去された荷電粒子54を計測することにより試料18へのドープ量を計測する計測手段64,66,68,70とを備えている。 (もっと読む)


【課題】 中性粒子ビームによる被処理物の加工中に中性粒子ビーム中の残留イオンによる被処理物のチャージアップを避けることができる中性粒子ビーム処理装置を提供する。
【解決手段】 中性粒子ビーム処理装置10は、イオン生成室14の内部にイオン70を生成するイオン生成手段と、イオン生成室14の内部のイオン70を引き出す引出手段と、引き出されたイオン70を中性化して中性粒子ビーム72を生成する中性化手段と、中性粒子ビーム72が照射される被処理物18を保持する保持台48とを備えている。中性粒子ビーム処理装置10は、被処理物18に帯電した電荷と反対の極性を持つ荷電粒子76を被処理物18に照射して、被処理物18に帯電した電荷を中和する荷電粒子源60を備えている。 (もっと読む)


【課題】被処理物に均一な密度の中性粒子ビームを照射することができる中性粒子ビーム処理装置を提供する。
【解決手段】中性粒子ビーム処理装置は、複数の孔40が形成された構造体42と複数の中性粒子ビーム生成機構50とを有する中性粒子ビーム源を備えている。各中性粒子ビーム生成機構50は、孔40の内部のプラズマ領域Pにマイクロプラズマを発生させるマイクロプラズマ生成部51と、マイクロプラズマ中のイオン102を中性化領域Nに引き出すイオン引出部52と、引き出されたイオン102を中性化して中性粒子ビーム104を生成する中性化部53とを有している。マイクロプラズマ生成部51とイオン引出部52と中性化部53とは構造体42に一体に形成されている。 (もっと読む)


【課題】 高密度の中性粒子ビームを被処理物に照射することができ、被処理物の加工速度を向上させることができる中性粒子ビーム処理装置を提供する。
【解決手段】 中性粒子ビーム処理装置10は、イオン生成室14の内部にイオンを生成するイオン生成手段と、イオン生成室14の内部のイオンを中性化室16に引き出す引出手段と、引き出されたイオンを中性化して中性粒子ビームを生成する中性化手段とを備える。中性粒子ビーム処理装置10は、中性粒子ビーム中に残留する荷電粒子を除去する荷電粒子除去手段と、中性粒子ビームが照射される被処理物18を保持する保持台48とを備えている。荷電粒子除去手段は、ビームの進行方向に垂直な方向に磁界を形成して荷電粒子の軌道を曲げる磁界形成手段と、軌道が曲げられた荷電粒子を捕捉する捕捉板66とを有している。 (もっと読む)


【課題】 電界で壊れやすい陰極を使用し、かつ高電界を加えて電子流を希望する速度まで加速する方法及び装置を開発すること。
【解決手段】 本発明は、電界により壊れやすい陰極を設置した、低電界電子放射部と、高電界を加えて電子流を高速度に加速する高電界電子流加速部とを、90度から180度の位置関係に設置し、いくつかの電磁石を使用して、低電界電子放射部と高電界電子流加速部との間を、曲線的に連結することにより、高電界電子流加速部の電界の影響を、陰極の設置された低電界電子放射部に及ぼさないようにし、壊れやすい陰極を長時間の使用に耐えられる構造にした。 (もっと読む)


【課題】 小型かつ軽量の装置でありながら高いエネルギーを実現することができる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】 この電子線照射装置は、電子34を発生させる電子源32と、それからの電子34を周回させて加速する円形の加速器であって、電子の軌道半径が大きくなるにつれて磁場の強さが強くなる磁場勾配を持ち時間的に一定の磁場を発生させる複数の電磁石42を有しているFFAG加速器40と、それからの電子34を走査する走査器12と、それからの電子34を透過させると共に走査器12の内外の雰囲気を分離する窓箔16とを備えている。 (もっと読む)


【課題】安全で使用環境及び使用条件などに制限を加えることなく、熱中性子あるいは熱外中性子などの中性子を高強度に得る方法及び装置を提供する。
【解決手段】陽子又は重陽子をリング状の加速器により所定のエネルギーまで加速する。次いで、前記所定のエネルギーを有する前記陽子又は前記重陽子を所定のターゲットに衝突させ、原子核反応を通じて中性子を発生させる。 (もっと読む)


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