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Fターム[2H016AF05]の内容

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Fターム[2H016AF05]に分類される特許

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【課題】めっき処理時に見られるような線幅の太りがなく、かつ簡便な方法によって、高精細かつ高導電性の配線パターンが得られる導電性材料の製造方法を提供する。
【解決手段】基材の少なくとも一方の面に銀画像パターンを形成する工程と、該銀画像パターン上に銀を主体とする金属微粒子を含む金属コロイド溶液を塗布し金属微粒子膜を形成する工程と、該銀画像パターンと該銀画像パターン上の金属微粒子膜に対して水溶性ハロゲン化物を作用させる定着工程と、水洗工程を少なくともこの順に行うことを特徴とする導電性材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】液を経時した際にも酵素の活性を低下させずに高い導電性が得られ、且つ他の機能材との接着性が低下することのない導電性材料用後処理液を提供する。
【解決手段】酵素と、該酵素に対して2〜30倍量(質量基準)の水溶性ハロゲン化物を含有する導電性材料用後処理液。 (もっと読む)


【課題】水溶性高分子を含有する層との密着性に優れたコーティング層を提供する。
【解決手段】多官能性モノマーを含むコーティング用組成物であって、
前記モノマーとして、ヒドロキシル基を含有する多官能(メタ)アクリレートを含み、且つ
ヒドロキシル基を含有する多官能(メタ)アクリレートの含有量が、モノマーの全質量に対して、55〜70質量%であることを特徴とするコーティング用組成物。 (もっと読む)


【課題】導電性が高く、無電解銅めっきによる導体回路の線幅の太りが少ない配線パターンを形成することが出来る導電性材料の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上の少なくとも一方の面に銀画像を形成させた後、該銀画像に無電解銅めっき液中の溶存酸素濃度が4ppm以上である第一めっき浴にてめっき処理を施し、その後無電解銅めっき液中の溶存酸素濃度が4ppm未満である第二めっき浴にてめっき処理を施す。 (もっと読む)


【課題】
主波長がh線である照射光源を持つマスクレス直接描画露光装置で紫外線用の感光性材料を高スループットにパターン描画可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】
マスクレス直接描画露光装置から照射される主波長のh線に対して低感度で、紫外光を含有するエネルギー線に対して高感度の第一の感光性材料を基板上に成膜する工程と、前記主波長のh線に対して高感度の第二の感光性材料を前記第一の感光性材料の上に形成する工程と、前記第二の感光性材料に対してマスクレス直接描画露光装置を用いて第二のパターンを描画する工程と、第二の感光性材料を現像する工程と、第二のパターンが形成された前記第二の感光性材料及び第一の感光性材料を一括露光する工程と、第二の感光性材料を剥離する工程と、第一の感光性材料を現像して目的とする第一のパターンを形成する工程とを有するパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】ハロゲン化銀感光材料を用いて露光−化学現像−物理現像−電解メッキの手順で作製する透光性導電性薄膜のメッキ不良の防止を目的とする。
【解決手段】ハロゲン化銀感光材料が塗布された透明支持体にメッシュ状の露光を行った後、化学現像−物理現像−電解メッキという手順で導電性メッシュを形成する透光性導電性薄膜の製造方法において、物理現像後、アルカリ金属またはアルカリ土類金属イオンを含有する液で処理することを特徴とする透光性導電性薄膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】画像と機能性層との接着性が良好な導電性材料であり、かつ支持体と画像との接着性が良好な金属パターンを有する導電性材料の製造方法を提供することにある。
【解決手段】支持体上に少なくとも物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順に有する導電性材料前駆体を像様に露光し、その後、現像処理により金属銀を析出させる導電性材料の製造方法において、該導電性材料前駆体が支持体と物理現像核層との間に実質的にタンパク質を含有しない下引き層を有し、現像処理後に酵素処理することを特徴とする導電性材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】メッシュ部分の異物が少なく、電磁波遮蔽能に優れる透光性導電性薄膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】透明支持体にハロゲン化銀感光性層が設けられたハロゲン化銀感光材料を用い、これをフォトマスクを介して露光して、現像処理、物理現像処理することにより得られる透光性導電性薄膜の製造方法において、物理現像処理の工程でのハロゲン化銀感光材料の搬送速度が3〜10m/minであること、更には物理現像処理槽における一定時間内の液循環量が物理現像処理槽の総液量に対し0.1〜2.00Round/minであり、少なくとも1つの循環口から吹き出される循環液の流速が3〜10m/minであることを特徴とする透光性導電性薄膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】現像処理後に、現像の局部暴走により導電性材料の銀線エッジ部ににじみ、ギザギザ等の欠陥が発生することを抑制する。
【解決手段】感光ウエブ12の搬送方向に沿って、現像液16Aが貯留された現像処理槽16と、定着液20Aが貯留された定着槽20との間に、現像停止処理槽18を設ける。現像停止処理槽18には、pH5以下の停止液が貯留されている。これにより、現像処理槽16を出た感光ウエブ12は現像停止処理槽18に搬送され、現像停止処理される。このため、感光ウエブ12に同伴した現像液16Aが定着液20Aに接触することがなく、現像の局部暴走による導電性材料の銀線エッジ部のにじみ、ギザギザ等の欠陥の発生を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】透過率の高い光透過性導電膜及び電磁波遮蔽材料を提供する。
【解決手段】支持体上にハロゲン化銀粒子を含む少なくとも1層の乳剤層を有する感光材料をパターン露光後、連続して現像処理工程、定着処理工程、物理現像処理工程を施すことによる導電性金属部形成方法において、更に、銀溶解処理工程を施すことを特徴とする導電性金属部形成方法及び光透過性導電膜、並びに光透過性が高い電磁波遮蔽材料。 (もっと読む)


【課題】高い導電性と光透過性を有し、かつ、干渉ムラとモアレを低減した透明導電膜とその製造方法、該透明導電膜を用いた電磁波遮蔽材料及び該透明導電膜の製造に用いられる密着性が良好な透明導電膜形成用感光材料、透明導電膜及びその製造方法並びに電磁波遮蔽材料を提供する。
【解決手段】支持体上に、少なくともハロゲン化銀及びバインダーからなる乳剤層を有し、露光後、現像処理することでメッシュ状に金属銀部を形成させることにより透明性導電膜を製造可能な透明性導電膜形成用感光材料であって、該乳剤層の膨潤率が100%より大きく145%以下であることを特徴とする透明性導電膜形成用感光材料、透明導電膜及びその製造方法、電磁波遮蔽材料。 (もっと読む)


【課題】銀塩方式を用いて、低コストで、生産性高く、フォトリソ方式に対し、同じ抵抗値でも透過率の高い、電磁波遮蔽フィルムを生産可能な電磁波遮蔽フィルムの製造方法を提供することにある。
【解決手段】連続して走行する支持体上に金属塩微粒子を含有する塗布液を均一に塗布、乾燥後、その塗布層に、マスクを用いて、メッシュパターン露光を、順次、連続して行った後、現像処理することにより支持体上に金属メッシュパターンを形成し、次いで、物理現像処理及び/又はメッキ処理を行うことによって金属メッシュパターンに導電性を付与して電磁波遮蔽機能を付与する電磁波遮蔽フィルムの製造方法において、搬送する支持体上の塗布層への前記メッシュパターン露光を、隣接するメッシュパターン同士が一部重なるように露光することを特徴とする電磁波遮蔽フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】電磁波遮蔽性能に優れ、かつ高い透明性を有し、さらに長尺連続ロール生産においても、メッシュパターンの膜付きに優れ、巻き癖カールの発生が小さく、パネルの接地性にも優れ、さらに、電磁波シールドフィルム製造中に発生する現像処理ムラ、めっきムラを改善した電磁波シールドフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】長尺の透明支持体上に形成された、連続する導電性のメッシュ部1と額縁部2とを有する電磁波シールドフィルムであって、額縁部2がメッシュ部1より導電性が高い幾何学パターンである電磁波シールドフィルム。 (もっと読む)


【課題】モアレの発生が無く、高い光透過性と高い導電性(電磁波シールド能)の性能を同時に満たした透明電磁波遮断フィルム、その製造方法、及びそれ用いたプラズマディスプレイパネルを提供することである。
【解決手段】支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子及びバインダーを含有する層を設けて成る感光材料をメッシュパターン露光後、化学現像処理し、更にめっき処理することにより導電性金属メッシュを形成する工程を経て製造される透明電磁波遮断フィルムにおいて、該導電性金属メッシュの断面形状が特定の関係式を満たすことを特徴とする透明電磁波遮断フィルム。 (もっと読む)


【課題】3次元ディスプレイ、高密度光記録媒体、ホログラフィック光学素子等への応用可能な高感度かつ高解像度、高回折効率、高保存性を有するホログラム記録方法を提供する。
【解決手段】屈折率変調剤と屈折率差増強剤の吸着により、回折効率が上がることを特徴とするホログラム記録方法。 (もっと読む)


【課題】3次元ディスプレイ、高密度光記録媒体、ホログラフィック光学素子等への応用可能な高感度かつ高解像度、高回折効率、高保存性を有するホログラム記録材料に有用な屈折率差増強剤及びホログラム記録方法を提供する。
【解決手段】無機物の粒子を含むことを特徴とする屈折率差増強剤。下記一般式(1)の化学構造式で表される屈折率変調剤と吸着することを特徴とする前記記載の屈折率差増強剤。および該屈折率差増強剤を使用するホログラム記録方法。
(もっと読む)


【課題】フィルムやガラス基板等の基板上に、高精度の導電性パターンを、比較的簡便な方式で得ることができる方法を提供する。
【解決手段】基板1a上に少なくとも一種の感光性ハロゲン化銀乳剤層2が積層された写真感光材料を有し、該写真感光材料に対し、(A)マスクフィルム4を介して画像状露光、(B)硬化現像処理、(C)未硬化部の除去を行い、(D)前記未硬化部が除去された除去部に無電解めっき処理を施すことにより無電解めっき部3を得ることを特徴とする導電性パターンの形成方法。 (もっと読む)


【課題】導電性に優れ、且つ、高精細な配線パタンを形成することができる導電性基材の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体の少なくとも一方の面に写真製法により銀画像を形成した後、該銀画像を形成させた材料に紫外線を照射し、その後無電解めっきを施す。 (もっと読む)


【課題】透明性と導電性が共に高く、かつ保存安定性の良い導電性材料、およびそれが得られるための製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を含有する銀塩感光材料を導電性材料前駆体として使用する導電性材料において、導電性材料に析出した銀画像パターンのX線回折法での2θ=38.2°のピークの半値幅が0.41以下であることを特徴とする導電性材料を用いる。また、該導電性材料の製造方法であって、該導電性材料前駆体を現像し、画像形成した後に還元性物質、水溶性リンオキソ酸化合物、水溶性ハロゲン化合物のいずれかを少なくとも1種類以上含有する後処理液もしくは55℃以上の温水で処理することを特徴とする導電性材料の製造方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】 ハロゲン化銀写真感光材料にパターン露光と現像を行い、さらに電解めっきする際に電解めっき工程で生じるめっきむらを低減できる方法を提示すること。それによって、均一で高い導電性と高い透光性とを有する透光性導電性膜、とくに電磁波シールド膜、並びにそれらを装備した画像表示装置を提供すること。
【解決手段】 支持体上にハロゲン化銀乳剤層を含む少なくとも1層の親水性コロイド層を有する黒白ハロゲン化銀写真感光材料に現像処理を施して金属銀部を形成し、続いて該金属銀部に電解めっきを施す導電性膜の製造方法において、該現像処理済み感光材料がメッキ液に浸漬される際に液面の変動を抑制することを特徴とする透光性導電性膜の製造方法及び装置。これを用いた透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜及びそれらを装備した画像表示装置。 (もっと読む)


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