【課題】ろ過性、線幅均一性に優れたレジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）環状アルキル構造を有する特定の繰り返し構造単位を含有する酸分解性樹脂、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）下記（ａ）群から選択される少なくとも1種の溶剤と、下記（ｂ）群〜（ｄ）群から選択される少なくとも1種の溶剤とを含む混合溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法。（ａ）群：アルキレングリコールモノアルキルエーテル、（ｂ）群：アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、（ｃ）群：直鎖状ケトン、分岐鎖状ケトン、環状ケトン、ラクトン、アルキレンカーボネート、（ｄ）群：乳酸エステル、酢酸エステル、アルコキシプロピオン酸エステル。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、側鎖に、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基含有エステル基を有する構成単位（ａ０−１）を有し、質量平均分子量（Ｍｗ）が１００００以下の高分子化合物（Ａ１−１）と、高分子化合物（Ａ１−１）が有する構成単位と同一の構成単位（ａ０−１）を有し、Ｍｗが、高分子化合物（Ａ１−１）のＭｗの１．５倍以上である高分子化合物（Ａ１−２）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】フィルタ面における各画素の角（カド）部の丸みが小さい矩形の正方画素を有し、正方画素の断面の角（カド）部の丸みも小さい矩形に形成されたカラーフィルタを提供する。
【解決手段】複数の受光素子を有する支持体と、前記支持体の受光素子形成面側に設けられ、顔料及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含み、波長３６５ｎｍの光の透過率が０．１％以上１０．０％以下、より好ましくは０．１％以上５．０％以下であってパターンサイズが０．５μｍ以上１．２μｍ以下である着色画素とを備えている〔Ｒ^１〜Ｒ^２：Ｈ、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基（同時にＨを表さない。Ｒ^１とＲ^２はＮと共に環状アミノ基を形成してもよい）；Ｒ^３：電子吸引基；Ｒ^４：電子吸引基〕。
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【課題】 レーザ直接描画露光において高感度で、レジスト形状に優れ、解像度、密着性及び剥離性が良好なレジストパターンを形成することが可能なレーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する光重合性化合物、（Ｃ１）アクリジン化合物、（Ｃ２）２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、（Ｄ）ハロゲン化合物及び（Ｅ）重合禁止剤を含有するレーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物であって、前記（Ｅ）重合禁止剤の含有量が２０〜１００質量ｐｐｍであるレーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む構成単位および酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位で表される構成単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、フッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤（Ｅ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含むアクリル酸エステル構成単位及び／又はメタクリル酸エステル構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）及び／又は酸解離性溶解抑制基を含むメタクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１’）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、高分子化合物（Ａ１）中の、該アクリル酸エステルから誘導される構成単位の割合が１５〜８０モル％であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、（Ａ）成分は、側鎖の末端に「−ＳＯ_２−を含む環式基」を含む構成単位（ａ０）を有し、かつ、その構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物（Ａ１）を含有し、（Ｂ）成分は、一般式（ｂ１−１）［式中、Ｒ^０は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の炭化水素基である。ただし、−ＳＯ_３⁻における硫黄原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子は結合していない。Ｚ^＋は有機カチオンである。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有するポジ型レジスト組成物。
［化１］
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【課題】レジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を側鎖に有するアクリル酸エステル系の特定の構成単位（ａ０−１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記有機溶剤（Ｓ）が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、および２−ヘプタノンを含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む構成単位（ａ０−１）を有する高分子化合物（Ａ１−１）と、前記高分子化合物（Ａ１−１）が有する構成単位と同一の構成単位（ａ０−１）を有し、構成単位（ａ０−１）の含有割合（モル％）が、前記高分子化合物（Ａ１−１）と異なる高分子化合物（Ａ１−２）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む構成単位を有する高分子化合物（Ａ１−１）と、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含まず、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物（Ａ１−２）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ０）と酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）と、酸発生剤成分（Ｂ）と、塩基解離性基を含有する構成単位を有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）とを含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】アルカリ水溶液で高い解像度を有し、２００℃以下の低温で硬化することが可能であり、硬化後のフレキシブルプリント基板との積層体の反りが小さく、折曲性に優れた感光性カバーレイを提供すること。
【解決手段】（Ａ）重量平均分子量が１０，０００以上３０，０００以下の可溶性ポリイミドを含有し、２００℃で１時間熱処理した後の引張弾性率が２．５ＧＰａ以下であり、引張伸びが５％以上であることを特徴とする感光性カバーレイ。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、芳香族基を有する構成単位（ａ０）、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ５）及び酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成時においてスカムが発生せず、基板とのマッチングが良好なポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、カルボキシル基を含有する構成単位、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む構成単位、及び酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】着色剤としてポリハロゲン化亜鉛フタロシアニンを含有する場合であっても、塗布により膜厚が均一な硬化性組成物層を形成しうる固体撮像素子用着色硬化性組成物、解像力に優れた着色パターンを備える個体撮像素子用カラーフィルタ、及び、該カラーフィルタを高い生産性で製造しうるカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）ポリハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料、（Ｂ）オキシム系光開始剤及び（Ｃ）重合性化合物を含有する固体撮像素子用着色硬化性組成物である。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性が良好で、形成されるレジストパターンの形状も良好なポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素有機化合物成分（Ｄ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む構成単位を有し、かつ、その構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記含窒素有機化合物成分（Ｄ）を少なくとも２種含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】光の利用効率が高く、露光感度（感度、細線密着性、解像度）を向上させ、生産性に優れた感光性積層体及び感光性フィルム、並びに、プリント基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性積層体は、光重合開始剤又は該光重合開始剤及び増感色素からなり３４５ｎｍ〜３８５ｎｍの波長に感光性のピークを有する重合開始成分（Ａ−１成分）、バインダー（Ｂ−1成分）、及び、１分子中に少なくとも一つの不飽和基を含有する重合性化合物（Ｃ−１成分）を含有する感光性樹脂組成物からなる第１の感光層と、光重合開始剤又は該光重合開始剤及び増感色素からなり３８６ｎｍ〜４３５ｎｍの波長に感光性のピークを有する重合開始成分（Ａ−２成分）、バインダー（Ｂ−２成分）、及び、１分子中に少なくとも一つの不飽和基を含有する重合性化合物（Ｃ−２成分）を含有する感光性樹脂組成物からなる第２の感光層と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】環骨格中に−ＳＯ_２−を有する環式基を含む構成単位、フッ素原子を含む構成単位、および前記各構成単位とは異なる構成単位であって酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、および当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と下記一般式（ｆ２−１）［式中、Ｗは多環式の脂肪族環式基を含む基である。］で表される構成単位（ｆ２）とを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
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【課題】
高耐熱性・高解像度・高感度・高残膜率を両立したフォトレジスト用クレゾール樹脂および、それから得られるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】
ビフェニレン基及びキシリレン基から選ばれる少なくとも１つの２価のアリーレン基を架橋基に持つクレゾール型重合体単位（ｎモル）と、クレゾール・ホルムアルデヒド重合体単位（ｍモル）を共に有し、両者の重合度のモル比（ｍ／ｎ）を９７／３−７０／３０としたクレゾール樹脂および該樹脂を含有する組成物により解決される。 （もっと読む）