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Fターム[2H025AA03]の内容

フォトレジストの材料 (104,520) | 目的 (13,098) | パターン形状の改良 (1,130)

Fターム[2H025AA03]に分類される特許

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【課題】立体基板上に透明樹脂構造体を形成する場合に、寸法精度よく透明樹脂構造体を形成することができる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】立体基板上に、紫外線吸収剤を含有する紫外線硬化型透明性樹脂組成物を載置した後、フォトマスクを介して紫外光を照射して選択露光することにより、該樹脂組成物を硬化させる工程と、未露光部分を除去することにより硬化された樹脂構造体を形成させる工程とを備えることを特徴とする立体基板上に透明性樹脂構造体を形成する方法を行う。 (もっと読む)


【課題】ろ過性、線幅均一性に優れたレジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】(A)環状アルキル構造を有する特定の繰り返し構造単位を含有する酸分解性樹脂、(B)酸発生剤、(C)下記(a)群から選択される少なくとも1種の溶剤と、下記(b)群〜(d)群から選択される少なくとも1種の溶剤とを含む混合溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法。(a)群:アルキレングリコールモノアルキルエーテル、(b)群:アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、(c)群:直鎖状ケトン、分岐鎖状ケトン、環状ケトン、ラクトン、アルキレンカーボネート、(d)群:乳酸エステル、酢酸エステル、アルコキシプロピオン酸エステル。 (もっと読む)


【課題】レジストパターンの寸法変化を抑制することができるパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】Dense部及びFlat部を有するギャップが存在する被加工基板上に、平坦化膜形成用組成物を塗布して平坦化膜を形成する工程(1)と、平坦化膜上にレジスト組成物を塗布してレジスト膜を形成する工程(2)と、レジスト膜に放射線を照射して、レジスト膜を選択的に露光する工程(3)と、露光したレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程(4)と、レジストパターンをマスクとして用いて、平坦化膜及び被加工基板に所定のパターンを形成する工程(5)と、を含み、平坦化膜形成用組成物が、所定の重合体(A)と、架橋剤(B)と、有機溶媒(C)と、を含有するものであるパターン形成方法である。 (もっと読む)


【課題】レジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を有機溶剤(S)に溶解してなるレジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、その環骨格中に−SO−を含む環式基を側鎖に有するアクリル酸エステル系の特定の構成単位(a0−1)を有する高分子化合物(A1)を含有し、前記有機溶剤(S)が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、および2−ヘプタノンを含有することを特徴とするレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)は、環骨格中に−SO−を含む環式基を含む構成単位(a0−1)を有する高分子化合物(A1−1)と、前記高分子化合物(A1−1)が有する構成単位と同一の構成単位(a0−1)を有し、構成単位(a0−1)の含有割合(モル%)が、前記高分子化合物(A1−1)と異なる高分子化合物(A1−2)とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】その環骨格中に−SO−を含む環式基を含む(メタ)アクリル酸エステル構成単位(a0)と酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有する高分子化合物(A1)と、酸発生剤成分(B)と、塩基解離性基を含有する構成単位を有する含フッ素高分子化合物(F1)とを含有するポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分(A)は、芳香族基を有する構成単位(a0)、その環骨格中に−SO−を含む環式基を含む(メタ)アクリル酸エステル構成単位(a5)及び酸解離性溶解抑制基を含む構成単位(a1)を有する高分子化合物(A1)を含有する。 (もっと読む)


【課題】優れた感度で、LWRの小さい、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の構成単位の合成に利用できる化合物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)は、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位(a0)を有する高分子化合物(A1)を含み、かつ前記構成単位(a0)における酸解離性溶解抑制基が、下記一般式(a0−0−1)で表される基を含む。[式(a0−0−1)中、R’及びR’はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表し、Yは単結合又は二価の連結基であり、Rはその環骨格中に−SO−を含む環式基である。]
[化1]
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【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、(A)成分は、側鎖の末端に「−SO−を含む環式基」を含む構成単位(a0)を有し、かつ、その構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物(A1)を含有し、(B)成分は、一般式(b1−1)[式中、Rは置換基を有していてもよい炭素数1〜12の炭化水素基である。ただし、−SOにおける硫黄原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子は結合していない。Zは有機カチオンである。]で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有するポジ型レジスト組成物。
[化1]
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【課題】化学増幅型フォトレジスト組成物において、ラインエッジラフネス(LWR)の更なる改善を図ること。
【解決手段】環状ポリシロキサンと、該環状ポリシロキサンを構成する珪素原子に結合した1又は2以上の側鎖と、を備え、前記側鎖のうち少なくとも一部が、光の作用により酸を発生する光活性基を含み、該光活性基が同一分子中に複数存在するときそれらは同一でも異なっていてもよい、光活性化合物。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性が良好で、形成されるレジストパターンの形状も良好なポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)、および含窒素有機化合物成分(D)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、環骨格中に−SO−を含む構成単位を有し、かつ、その構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物(A1)を含有し、前記含窒素有機化合物成分(D)を少なくとも2種含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分(A)が、その環骨格中に−SO−を含む環式基を含むアクリル酸エステル構成単位及び/又はメタクリル酸エステル構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)及び/又は酸解離性溶解抑制基を含むメタクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1’)とを有する高分子化合物(A1)を含有し、高分子化合物(A1)中の、該アクリル酸エステルから誘導される構成単位の割合が15〜80モル%であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖の末端に「−SO−を含む環式基」を含有する構成単位(a0)と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有する高分子化合物(A1)と、酸発生剤成分(B)と、フッ素原子を有していてもよい酸解離性溶解抑制基含有基を含み、かつ少なくとも1つのフッ素原子が含まれる構成単位(f1)を有する含フッ素樹脂成分とを含有するポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】露光ラチチュード、パターン形状に優れた微細パターンを提供することができる、感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】(A)下記一般式(1)で表される構造を含む繰り返し単位及び下記一般式(I)で表される構造を含む繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有してなる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。(式(1)及び(I)中の符号は明細書に記載の意味を表す。)
【化1】


【化2】
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【課題】 エキシマレーザー光によるパターン形成において、通常露光(ドライ露光)のみならず液浸露光においても、露光ラティチュード(EL:Exposure Latitude)、パターンプロファイルが良好なパターンを得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 (A)酸の作用により保護基が脱離してアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有してなり、樹脂(A)の保護基が極性基を有し、かつ、化合物(B)から発生する酸が下記一般式(I)で表されることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。(式(I)中の各符号は明細書に記載の意味を表す。)
【化1】
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【課題】半導体後工程のリフロー又は及びレジスト剥離工程において使用される新規感光性樹脂組成物、及び該組成物を用いたフラックスや溶剤に対して充分な耐性を持ちかつ側壁形状に角のない硬化レリーフパターンの製造方法の提供。
【解決手段】(A)下記一般式(1):


で表される構造を含むヒドロキシポリアミド100質量部、(B)ジアゾキノン化合物1〜100質量部、(C)オキセタニル基を含有する化合物、及び(D)熱架橋剤を含有し、該(C)オキセタニル基を含有する化合物と該(D)熱架橋剤との合計含有量が20〜50質量部であり、且つ、該(C)オキセタニル基を含有する化合物に対する該(D)熱架橋剤の質量比が0.06〜0.67であることを特徴とする感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】超微細領域での、特に、電子線、X線またはEUV光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する感活性光線または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】イオン性構造部位を有し、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位(A)と、少なくとも1個のフェノール性水酸基を有し、その水酸基の水素原子の一部又は全部が酸の作用により脱離する基で保護された基を有する繰り返し単位(B)とを有する樹脂(P)を含有し、樹脂(P)が有する繰り返し単位(A)のイオン性構造部位が、活性光線または放射線の照射により樹脂の側鎖に酸アニオンを生じる構造であり、且つ、発生した酸のpKaが0以下であることを特徴とする、感活性光線または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】感度、解像度、密着性、レジスト形状、硬化後の剥離特性及びスラッジ除去性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、(B)光重合性化合物、(C)ヘキサアリールビイミダゾール系化合物を含む光重合開始剤及び(D)下記一般式(4)で表される化合物を含む増感色素を含有する感光性樹脂組成物。
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【課題】ダブルパターニングプロセスにおいて、2回目のパターニングの影響を受けにくい第一のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】ダブルパターニングプロセスにおいて、第一のレジスト膜を形成するポジ型レジスト組成物として用いられ、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、含フッ素化合物成分(F)とを含有し、当該(F)成分が、塩基解離性基を含む構成単位(f1)のみを有する含フッ素高分子化合物(F1)および前記構成単位(f1)と側鎖に特定の基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(f2)とを有する含フッ素高分子化合物(F2)からなる群から選択される少なくとも一種の含フッ素樹脂成分を含むポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】現像欠陥の発生が抑制され、且つ、露光ラチチュード及びラインエッジラフネス性能に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、(C)疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、(A)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式(1)で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。(式中の符号は、明細書に記載の意味を有する。)
【化1】
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