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Fターム[2H025AB20]の内容

フォトレジストの材料 (104,520) | 用途 (10,556) | その他の特殊用途 (441)

Fターム[2H025AB20]に分類される特許

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【課題】永久膜用途に用いられ、ハロンゲンを含有する感光剤を用いていない感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びこのドライフィルムを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】(A)脂環式エポキシ基を有するポリマー、(B)ラジカル重合性基を有するモノマー、(C)ラジカル重合開始剤、及び(D)光照射によってスルホン酸を発生する感光剤を含む感光性樹脂組成物は、永久膜用途に用いたとしても、微細部品等に用いられる材料を腐食させることがないので、永久膜用途の感光性樹脂組成物として、好適に使用することができる。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板に対して薄膜で密着強度が高く、抵抗値が低く、高精細なパターンを形成可能な、安価なアルミニウム含有感光性組成物を提供すること。
【解決手段】アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選択される少なくとも1種の金属粉末(A)、アルカリ可溶性樹脂(C)、多官能(メタ)アクリレート(D)、光重合開始剤(E)、ならびにジヒドロターピネオールおよびテキサノールから選択される少なくとも1種の溶剤(F)を含有し、該金属粉末(A)の平均粒径D50が1〜20μmであることを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。 (もっと読む)


【課題】フォトレジストなどのパターニング用途において、感度、無機基板への密着性、現像性に優れたモノマーを提供する。
【解決手段】グリシジルメタクリレートとアクリル酸を反応させて2−ヒドロキシー3−アクリロイルオキシプロピルメタクリレートを合成し、これに無水ピロメリット酸を反応させて得られた不飽和基を6個有する多官能モノマー(A)、それを使用したエネルギー線硬化型樹脂組成物、その硬化物の製造法、並びにその硬化物の層を有する物品を提供する。本発明の多官能モノマー(A)を使用することにより、それを含有する樹脂組成物はネガ型フォトレジストのパターニングにおいて優れた感度、無機基板への高密着性、優れた現像性が確認された。 (もっと読む)


【課題】基板のエッジ領域の膜厚が、内側領域の膜厚に比べて厚くなる膜厚の盛りあがり現象の発生を抑制できる技術を提供する。
【解決手段】スピンチャック41に保持された基板Wの側方周囲を取り囲む円環板状の部材であって、その外周とカップ43の内壁との間に排気手段と連通する平面視で円環状の微小間隙K1を形成するとともに、その内周と基板Wの端面との間に排気手段と連通する平面視で円環状の微小間隙K2を形成する部材(側方整流部材45)を設ける。被処理基板Wの周囲には、基板Wの表面から側方整流部材45の上面に沿って流れ、微小間隙K1を通って排気される気流AR1と、基板Wの表面に沿って流れ、微小間隙K2を通って排気される気流AR2とが形成される。その結果、基板Wのエッジ領域付近に形成される気流が安定し、膜厚の盛りあがりが生じにくくなる。 (もっと読む)


【課題】感度が高く、特性のバラツキが少なく、製造工程が単純で、製造コストの低廉な感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】一般式(1)で示される置換基が、一般式(2)で示される置換基を1つ以上有するコア分子の炭素−炭素二重結合に付加した化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。


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【課題】レジストパターンが形成された基板にめっき処理を行うとき、クラックの発生を抑制できるポジ型感放射線性樹脂組成物等を提供する。
【解決手段】式(I)


で表される構造単位を有する重合体、酸発生剤を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】高屈折率な光デバイスを高感度に得ることが可能な2光子吸収重合性組成物を提供すること並びに、上記の2光子吸収重合性組成物を用いた光リソグラフィーによって得られる光デバイス、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】(a)重合性化合物、(b)ジチオカルバメート基含有高分子化合物及び(c)2光子吸収化合物、を含有することを特徴とする2光子吸収重合性組成物、該組成物を用いた光硬化方法、並びに該組成物を用いた光デバイス構造体。 (もっと読む)


【課題】親水性表面と疎水性表面とからなるパターン基板であって、親水性表面を有する部位が光触媒機能および親水性回復機能を発揮可能であり、優れた耐久性を有し、高精細なパターンを実現可能であり、印刷版やマイクロチップ等に用いて好適なパターン基板を提供する。
【解決手段】基材(1)の表面に、親水性を有する光触媒機能層(3)が設けられているとともに、光触媒機能層(3)の表面に所定のパターンに対応した形状を有する遮光材(9a)が設けられており、その遮光材(9a)の上に、疎水性の化合物層(10)が被覆されており、該疎水性の層(10)と親水性の酸化層(3)とにより所定のパターンが形成されたパターン基板(12)、およびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】液晶パネルによりパターン形状の明暗分布を指定して、それをレチクルやマスクの代替として露光するとき、波長200〜410nmの遠紫外光〜短波長可視光の範囲に主たる感光波長帯を有するレジストは感光させることができなかった。
【解決手段】波長200〜410nmの遠紫外光〜短波長可視光の範囲に主たる感光波長帯を有する下層レジスト上にアルカリに溶解する金属膜、その上に液晶パネルを透過して明暗差が大きくとれる波長420nm〜530nmの青色可視光を用いて感光させることができる上層レジストを積層する。上層レジストを液晶パネルに指定したパターン形状に感光させてアルカリ現像すると、金属膜もパターン化され、波長200〜410nmの遠紫外光〜短波長可視光を当てると、該金属膜パターンが遮光マスクとして働き、下層レジストに該パターンを転写できる。 (もっと読む)


【課題】 感光性レジストに要求される一般特性を保持しながら、段差を有する基板に塗工した場合でも気泡を巻き込み難く、段差部での裾引きによる膜厚低下が生じ難い感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 (A)カルボキシル基及び/又はビニル基を含有する樹脂、(B)オキシムエステル骨格を有する光重合開始剤、(C)370〜420nmに極大吸収波長を有する光増感剤及び(D)光架橋性モノマーを含有する感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度で高い保存安定性を有する厚膜用ネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される光酸発生剤(A)、ADR(アルカリ溶解速度)が1000Å/s以上であるフェノール樹脂(B)及び一分子中にエポキシ基を二個以上有するエポキシ樹脂(C)を含有してなる厚膜用ネガ型レジスト組成物を用いて、厚膜の積層体、パターン等を形成する。
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【課題】本発明は、円筒状のワークを横置きにしてワークの内表面を加工する場合であっても、ワークの撓みを抑制して良好に加工を行うことを目的とする。
【解決手段】円筒内表面の加工装置(レーザ照射装置6)は、ワーク3の両端を回転可能に支持するワーク支持台(中空支持軸64aおよびベアリング台64b)と、ワーク3を回転させる駆動装置(モータ、ベルト64cおよびプーリ64d)と、前記ワーク支持台に形成される孔64fから通されてワーク3内においてワーク3の軸方向に延びるヘッド支持軸(ヘッドガイド軸62およびヘッド駆動軸63b)と、前記ヘッド支持軸に沿って移動しながら、ワーク3の内表面にレーザ光を照射するヘッド61と、を備えて構成されている。 (もっと読む)


【課題】優れた熱分解性及び感光性を有し、充分な膜厚を有する被膜を形成することが可能な焼結性レジスト組成物を提供する。また、該焼結性レジスト組成物を用いたマイクロ構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロ構造体の製造に用いられる焼結性レジスト組成物であって、(メタ)アクリル樹脂、光重合開始剤及び有機溶剤を含有し、上記(メタ)アクリル樹脂の含有量が20〜50重量%であり、上記(メタ)アクリル樹脂は、分岐構造を有する(メタ)アクリレートに由来するセグメントを40〜90重量%、及び、両末端が(メタ)アクリレートで変性されたポリオキシアルキレンエーテルオリゴマーに由来するセグメントを4〜20重量%含有する焼結性レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】良好な画像解像度、熱安定性、耐薬品及び溶媒溶解性を有し、高感度でかつプレッシャークッカー試験(PCT)後の基板への密着性が低下しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】光カチオン重合開始剤(A)と1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)を含有してなるMEMS用感光性樹脂組成物であって、光カチオン重合開始剤(A)がトリフルオロメチルスルホニウム含有イオン化合物からなる光カチオン重合開始剤であるMEMS用感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】良好な画像解像度、熱安定性、耐薬品及び溶媒溶解性を有し、高感度でかつプレッシャークッカー試験(PCT)後の基板への密着性が低下しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】テトラキスペンタフルオロフェニルボレート錯体からなる光カチオン重合開始剤(A)と1分子中に2個以上のエポキシ基を有する特定構造のエポキシ樹脂(B)を含有してなるMEMS用感光性樹脂組成物。該エポキシ樹脂(B)の軟化点が40℃以上120℃以下かつエポキシ当量が150〜500/eq.であるMEMS用感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】MEMSの作製に好適な被膜形成方法を提供する。
【解決手段】第1の塗布工程ではホットプレート4によって塗布液を加熱してリフローする。この加熱処理によって、塗布液は下方に下がり、少なくとも凹部の底部から壁部の中間深さ位置に至るまで被膜7を形成することができる。そして、第2の塗布工程では、スプレーノズルから噴霧された塗布液9は、凹部の底部までは届きにくいため凹部の中間深さ位置から凸部3の上面に至るまでの領域に被膜10が形成され、この被膜10をベークする。この被膜10と前記被膜7によって、凹部の全面に均一な厚さの被膜11が形成される。 (もっと読む)


【課題】MEMSや貫通電極を有する基板の作製などに好適な塗布装置と塗布方法を提供する。
【解決手段】ノズルに縦方向(Y軸方向)に往復動させつつX軸方向に徐々に移動する。そして縦方向の塗布が終了したら横方向(X軸方向)に往復動させつつY軸方向に徐々に移動する。このように1回の塗布でノズルが基板Wの表面を2回スキャニングしつつ塗布し、1回目のスキャニングと2回目のスキャニングの方向を90°異ならせることで塗り残しをなくすことができる。 (もっと読む)


【課題】簡易な手段によりネガレジストを用いて、斜面を有する高低差の大きな三次元微細形状を得ることのできるレジスト露光方法を提供することにある。
【解決手段】第1回目の露光工程においては、フォトマスク38を透過した光を露光用マスク29に垂直に照射して通常の露光を行う。第2回目の露光工程においては、回折格子35を備えた露光用マスク29を用い、回折格子35の1次回折光で斜め方向からネガレジスト32に露光し、現像することによって斜面を形成する。 (もっと読む)


【課題】活性エネルギー線の照射により反応し、高い耐熱性を示す硬化物を形成する新規な感光性高分子化合物を提供し、該高分子化合物を含み、活性エネルギー線を照射した際に高い反応効率を示す感光性樹脂組成物、該組成物を含む液体、および該液体を用いたゲル形成方法を提供する。
【解決手段】主鎖に沿って複数の1,2−または1,3−ジオール基を有しており、マレイミド基を含む側鎖を複数有することを特徴とする高分子化合物、感光性樹脂組成物、液体及びゲル形成方法。 (もっと読む)


【課題】優れた記録感度を有するとともに、反応終点において記録用モノマーの残存量が少なく記録保持性が良好な、デジタルボリュームホログラフィに好適な光記録用組成物および上記組成物を用いた超高密度光記録が可能なホログラフィック記録媒体を提供すること。
【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物を含有する光記録用組成物。


一般式(I)中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、Xは酸素原子または硫黄原子を表す。 (もっと読む)


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