【課題】無機物の微細パターンを安定に形成することを可能にするポジ型感光性ペーストを提供する。
【解決手段】有機成分と無機粉末を含むポジ型感光性ペーストであって、有機成分として少なくともアルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤、およびヒンダードフェノール化合物を含むことを特徴とするポジ型感光性ペーストである。また、有機成分と無機粉末を含むポジ型感光性ペーストであって、アルカリ可溶基が酸で脱離する基で保護されている樹脂および光酸発生剤、またはアルカリ可溶基がアルカリで脱離する基で保護されている樹脂および光塩基発生剤を含み、さらにヒンダードフェノール化合物を含むことを特徴とするポジ型感光性ペーストである。 （もっと読む）

【課題】本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、熱硬化時に酸を発生することがないため、メタル腐蝕の問題がないネガ型の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有するポリヒドロキシアミド：１００質量部、（Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で表されるエステル化合物：１〜５０質量部、（Ｃ）光塩基発生剤：２〜３０質量部、を含むことを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。


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【課題】光塩基発生剤および、該光塩基発生剤を用いたブロードバンド光により露光可能であり、２００℃という低温での硬化でポリイミドを得ることのできるネガ型感光性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される光塩基発生剤。
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【課題】高感度で、熱処理後のパターン形状に優れる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂、（ｂ）一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂以外の樹脂、（ｃ）光酸発生剤および（ｄ）前記（ｃ）以外の光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物。
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【課題】露光部の感光性組成物を現像液に十分に溶解させることができ、パターン形状に優れたパターン膜を得ることができるポジ型感光性組成物、これを用いたパターン膜の製造方法及び半導体素子を提供する。
【解決手段】アルコキシシランの縮合物（Ａ）と、ポジ型感光性組成物を現像液に不溶化する化合物であり、アルコキシシランの縮合物（Ａ）よりも疎水性が高く、光線もしくは放射線の照射により分解する部位を有する化合物（Ｂ）とを含むポジ型感光性組成物であり、感光性組成物１が光線もしくは放射線で選択的に露光されたときに、露光部の感光性組成物１Ａが現像液に可溶になるポジ型感光性組成物、これを用いたパターン膜１Ｃの製造方法及び半導体素子。 （もっと読む）

【課題】少ない工程数で低欠陥な微粒子パターン、ドットアレイパターン、ホールアレイパターンを形成するための感光性シランカップリング剤、及び該感光性シランカップリング剤を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニル基で保護された２級アミノ基を有する感光性シランカップリング剤。基板１の表面に前記感光性シランカップリング剤を積層し、前記感光性シランカップリング剤層２にパターン状に露光を行ない、露光部３に２級アミノ基を発生させ、露光部２に選択的に微粒子を配する。得られた微粒子パターを用いて単一電子素子、パターンドメディア、化学センサ、量子ドットレーザー素子、フォトニック結晶光学デバイスなどを作製する。 （もっと読む）

【課題】光分解反応により撥水親水性の薄膜が形成した基材を短時間で製造する方法の提供。
【解決手段】光照射によって分解して撥水親水性が変化する芳香族ニトロ化合物を含有する光分解性材料からなる薄膜（Ａ）が基材表面に形成した処理基材を得て、ついで該薄膜（Ａ）の最表面に液体（Ｂ）を接触させ、ついで該薄膜（Ａ）に光照射することによって光照射部の光分解性材料を分解し、薄膜（Ａ）の光照射部の撥水親水性が変化して撥水性および／または親水性の薄膜になった光処理基材を得ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スピロ環状ケタール基を有するフォトレジスト用ポリマーおよびこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】前記ポリマーおよびフォトレジスト組成物は、スピロ環状ケタール基が脱保護される反応の活性化エネルギーが低いため解像度および工程余裕度を改善でき、露光後べーク温度敏感度が低いため精密なパターンを具現できる。 （もっと読む）

少なくとも１つのキャップされていないポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、少なくとも１つのキャップされたポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、少なくとも１つの感光性剤および少なくとも１つの溶媒のポジ型感光性樹脂組成物、基板上に画像をパターン化するためにこのような組成物を使用すること、ならびに得られる信頼性のあるパターン化された基板およびそれからの電子部品。 （もっと読む）