【課題】パターン露光後の現像工程を省略することができる、新規なフォトリソグラフィー法を提供すること。
【解決手段】被加工表面上に、ヒートモード感光性化合物を蒸着することにより蒸着膜を形成すること、上記蒸着膜に、上記化合物が感光性を有する波長のレーザー光をパターン露光すること、および、上記パターン露光後の蒸着膜を有する被加工表面の少なくとも一部にエッチング処理を施し、上記パターン露光において露光された部分に対応する領域における被加工表面の少なくとも一部をエッチングすること、を含む被加工表面のエッチング方法。被加工物上に複数の凹凸を形成する加工方法。被加工物上に、ヒートモード感光性化合物を蒸着することにより蒸着膜を形成すること、および、上記蒸着膜に、上記化合物が感光性を有する波長のレーザー光をパターン露光することにより、該蒸着膜に複数の凹部を形成すること、を含む。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される新規なフォトレジスト用化合物、上記のフォトレジスト用化合物を用いたフォトレジスト液、および上記のフォトレジスト液を使用して所望の表面をエッチングするエッチング方法の提供。
【解決手段】下記一般式(Ａ)で表される化合物。


[一般式(Ａ)中、Ｘ¹およびＸ²は、酸素原子、等を表し、ｍおよびｎは０〜３の範囲の整数を表し、Ｒ¹〜Ｒ³は水素原子または置換基を表し、Ｌ¹およびＬ²は二価の連結基を表す。] （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される新規なフォトレジスト用化合物、それを用いたフォトレジスト液、およびその液を使用するエッチング方法の提供。
【解決手段】一般式(I)で表される化合物またはその塩であるフォトレジスト用化合物。


［Ｒ¹およびＲ²はＨまたは置換基、L¹〜L³は置換基を有していてもよいメチン基を表し、Ｖ¹およびＶ²は少なくとも一方はハメットの置換基定数σｐが０．２〜０．９の範囲の置換基、またはＶ¹およびＶ²が窒素を含有するへテロ環を形成してもよく、ｎは0または１を表す。］ （もっと読む）

【課題】本発明は、円筒状のワークを横置きにしてワークの内表面を加工する場合であっても、ワークの撓みを抑制して良好に加工を行うことを目的とする。
【解決手段】円筒内表面の加工装置（レーザ照射装置６）は、ワーク３の両端を回転可能に支持するワーク支持台（中空支持軸６４ａおよびベアリング台６４ｂ）と、ワーク３を回転させる駆動装置（モータ、ベルト６４ｃおよびプーリ６４ｄ）と、前記ワーク支持台に形成される孔６４ｆから通されてワーク３内においてワーク３の軸方向に延びるヘッド支持軸（ヘッドガイド軸６２およびヘッド駆動軸６３ｂ）と、前記ヘッド支持軸に沿って移動しながら、ワーク３の内表面にレーザ光を照射するヘッド６１と、を備えて構成されている。 （もっと読む）

【課題】レーザー光を使用することなく、ＣＴＰ等のディジタル化にも対応してパターン形成体を製造することが可能なパターン形成体の製造方法、及び製造されたパターン形成体を再生してパターン形成体用原版を得るパターン形成体の再生方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成体の製造方法は、光触媒層と該光触媒層上に形成された光触媒の作用により特性の変化する特性変化層とを有するパターン形成体用原版を用いてパターン形成体を製造する方法であり、特性変化層上に、活性光を遮光する遮光パターンを形成する工程と、活性光を透過する透明基材上に光触媒層が形成された光触媒層形成基材を、この光触媒層と遮光パターンが形成された特性変化層とが接触するように配置する工程と、光触媒層形成基材を介して、パターン形成体用原版に活性光を照射する工程と、活性光の照射後、光触媒層形成基材を取り外す工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】光触媒機能を利用すべき印刷用版材において、版材の耐久性、とくに光触媒機能を有する層の基材自体の層への密着性を格段に高め、それによって版材全体の耐久性を大幅に高めて、その版材を実際の印刷工程に問題なく使用できるようにするとともに、高精細な印刷を可能とし、しかも、問題なく容易に再生できるようにする。
【解決手段】基材（２）自体の表層が、陽極酸化処理した後加熱処理することにより光触媒機能を有する酸化層（３）に改質されており、その酸化層（３）の上に、疎水性の化合物を含み光触媒機能により分解可能な層（４）が被覆されていることを特徴とする印刷用版材（１）、およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】レーザー光を使用することなく、短時間で高コントラストの親水・撥水パターンを形成することが可能であり、かつ保管容易性が高い印刷原版、その印刷原版を用いた印刷版の製造方法、及び印刷版を印刷原版へと再生する印刷版の再生方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る印刷原版は、酸化ジルコニウムを含有する光触媒層、及び撥水性層を備える。この印刷原版から印刷版を製造する際には、印刷原版の撥水性層に選択的に活性光を照射する。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される、新規なフォトレジスト用化合物、上記フォトレジスト用化合物を用いたフォトレジスト液、および上記フォトレジスト液を使用して、所望の表面をエッチングするエッチング方法の提供。
【解決手段】アゾ化合物または該化合物と金属イオンとの錯体化合物であるフォトレジスト用化合物。前記フォトレジスト用化合物を含むフォトレジスト液。前記フォトレジスト液を使用する被加工表面のエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される、新規なフォトレジスト用化合物、上記フォトレジスト用化合物を用いたフォトレジスト液、および上記フォトレジスト液を使用して、所望の表面をエッチングするエッチング方法の提供。
【解決手段】フタロシアニン色素骨格を有するフォトレジスト用化合物。前記フォトレジスト用化合物を含むフォトレジスト液。前記フォトレジスト液を使用する被加工表面のエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される、新規なフォトレジスト用化合物、上記フォトレジスト用化合物を用いたフォトレジスト液、および上記フォトレジスト液を使用して、所望の表面をエッチングするエッチング方法の提供。
【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物であるフォトレジスト用化合物。前記フォトレジスト用化合物を含むフォトレジスト液。前記フォトレジスト液を使用する被加工表面のエッチング方法。


一般式(I)中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、ハメットの置換基定数σｐが０．２〜０．９の範囲の置換基を表し、Ｒ³は水素原子または一価の置換基を表し、Φは置換または無置換のアリール基または芳香族ヘテロ環基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびΦのうちの何れか二つ以上が互いに結合して環を形成していてもよい。 （もっと読む）

【課題】新規なフォトレジスト用化合物、前記化合物を用いたフォトレジスト液、当該フォトレジスト液を使用するエッチング方法の提供。
【解決手段】下記一般式(I)または(II)で表される化合物であるフォトレジスト用化合物。前記化合物を含むフォトレジスト液。当該レジスト液を使用するエッチング方法。


X¹およびＸ²は、それぞれ独立にＯ、Ｓ、ＳＯ₂またはＮＲを表し、RはＨまたは置換基を表し、Y¹およびY²は、それぞれ独立にＯ、ＳまたはCL¹L²を表し、L¹およびL²は、それぞれ独立に置換基を表し、R¹、〜R⁸は、Ｈまたは置換基を表す。 （もっと読む）

【課題】高精細なパターンを形成すること、かつ簡便な工程で形成が可能である導電性パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】基材１と、基材上にパターン状に形成された光触媒含有層２とを有する光触媒含有層側基板３と、光触媒含有層中の光触媒の作用により特性が変化する特性変化層５を有するパターン形成体用基板６とを、所定の方向からエネルギーを照射することにより、特性変化層表面に特性の変化した特性変化パターンを形成する特性変化パターン形成工程と、前記特性変化パターンが形成されたパターン形成体用基板表面に、金属ペーストを塗布することにより、パターン状に金属ペーストを付着させる金属ペースト塗布工程と、前記特性変化パターンにパターン状に付着した金属ペーストを固化させて導電性パターンとする導電性パターン形成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 印刷不良を生じずかつ解像度に優れた印刷版を製造できるレーザー彫刻用印刷原版の原料となる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（A）水分散ラッテクスから得られる疎水性重合体、（Ｂ）光重合性化合物、（C）光重合開始剤および（Ｄ）数平均分子量が１０００〜３００００の架橋基をもたない共役ジエン重合体を含有することを特徴とする、レーザー彫刻可能な印刷原版用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】彫刻感度が高く、低レーザーエネルギーで効率的に彫刻が可能であるとともに、解像度が良好なパターン形成材料を提供すること。
【解決手段】支持体上に、−Ｃ（Ｒ¹）＝Ｎ−Ｏ−で表される部位（Ｒ^１は水素原子または１価の有機基を表す）を少なくとも１つ分子中に有するポリマーを含有する層を設けたパターン形成材料。 （もっと読む）

【課題】厚膜にも利用可能であり、彫刻感度が高く、低レーザーエネルギーで効率的に彫刻が可能であるレーザー分解性樹脂組成物および該組成物を用いたパターン形成材料を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基およびカルボン酸無水物構造から選択される少なくとも１つの構造を有するとともに、該構造以外に分子内にＮ、ＳおよびＯ原子から選択される少なくとも１つのヘテロ原子を有する化合物、および、（Ｂ）バインダーポリマー、を含有するレーザー分解性樹脂組成物。支持体上に、該組成物からなる層を有することを特徴とするパターン形成材料。 （もっと読む）

【課題】レーザー光によるアブレーション加工を行う際、分解物などの洗浄除去を容易に行うことができ、高品質のパターン、特にカラーフィルタ用のブラックマトリックスを形成する方法を提供する。
【解決手段】基材１上に設けられた被加工膜２の表面に、予め水溶性の高分子膜４を形成し、その高分子膜形成面にパターンマスク７を介してレーザー光８を照射してアブレーション加工を行い、その後水洗を行うことにより、樹脂分解物６と残った水溶性高分子膜５を除去し、薄膜パターン１０を形成する。この方法は、カラーフィルタ用ブラックマトリックスの形成に好適である。ブラックマトリックスの形成に適用する場合は、被加工膜２を遮光性樹脂膜と、薄膜パターン１０をブラックマトリックスと、それぞれ読み替えればよい。 （もっと読む）

【課題】基材の表面に形成された単分子膜を選択的に除去して像を形成する場合に、機械的な接触を伴うことなく単分子膜への作像が可能で、かつ高解像度の作像及び印刷が可能なものとする。
【解決手段】所要の表面特性が付与された基材１の表面１ａにこれとは相反する表面特性を有する単分子膜２が形成されると共に、この単分子膜２と基材１との結合を切り離す分離作用を光により発現する光吸収物質を単分子膜２に含み、光の照射により基材１の表面から単分子膜２を選択的に分離除去して所要の像が形成されるものとする。 （もっと読む）

【課題】水系現像液で現像でき、また、水性インキに対する耐性があり、且つ現像速度を早くすることができ、高速印刷に耐え得る機械的強伸度を有する新聞用フレキソ印刷原版。
【解決手段】（１）なくとも支持体、感光性樹脂層、ＩＲアブレーション層およびカバーフィルムを有する感光性樹脂積層体において、前記支持体が金属であって、かつ前記感光性樹脂層の厚みが１０００μｍ以下であることを特徴とする感光性樹脂積層体。（２）感光性樹脂積層体が新聞印刷用原版である前記（１）記載の感光性樹脂積層体。（３）感光性樹脂層に水分散ラテックスから得られる疎水性重合体が含有されていることを特徴とする前記（１）記載の感光性樹脂積層体。（４）ＩＲアブレーション層とカバーフィルムとの間に、有機高分子層を有する前記（１）記載の感光性樹脂積層体。（５）ＩＲアブレーション層が、ＩＲ吸収性金属層のみからなる、前記（１）記載の感光性樹脂積層体。 （もっと読む）

【課題】高分子前駆体、特にポリイミド前駆体の種類を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、結果的に、十分なプロセスマージンを保ちつつ、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】光脱炭酸をするカルボン酸とアミンとの塩と、高分子前駆体を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物である。上記の塩の一つとして下記式（１）で表される芳香族成分含有カルボン酸とアミンとの塩が挙げられる。


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^１０は、それぞれ独立に水素又は１価の有機基である。） （もっと読む）

【課題】 高精度な厚みと印刷に好適な表面平滑性による印刷適正が高く且つ完全に継ぎ目のないスリーブ印刷原版を製造することができ、従来のネガフィルム作製工程や溶液現像液工程を不要とすることによる作業性の向上、省資源化及び環境保全を図ること。
【解決手段】 感光性樹脂を押出機２２００に注入し、ブリッジシリンダ２００と一体化した印刷用スリーブ１００をリングダイ２３００の内部を走行させながら印刷用スリーブ１００の外周面に液状感光性樹脂をシームレス態様で均一な厚みにコーティングした後に、ワーク５００を回転させながら高強度な紫外線で露光して光硬化させた感光性樹脂硬化層を形成する。 （もっと読む）