【課題】マイクロブリッジ欠陥やＢＬＯＢ欠陥と呼ばれる各種現像欠陥が低減されたパターンを得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により保護基が脱離してアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）フッ素原子または珪素原子の少なくともいずれかを有する疎水性樹脂、を含有してなり、樹脂(A)が、極性基を含む保護基を有する繰り返し単位を有し、かつ、疎水性樹脂（Ｃ）が、下記(x)〜(z)の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物：(x)アルカリ可溶性基；(y)アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基；(z)酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基。 （もっと読む）

【課題】水溶性保護層に対して適度な剥離性と適度な密着性とを発揮するカバーフィルム、およびカバーフィルムと水溶性保護層との間に適度な剥離性と適度な密着性とを兼ね備え、廃棄時の環境負荷が少ない水系凸版印刷用感光性樹脂構成体を提供すること。
【解決手段】表面に樹脂層４２を有し、該樹脂層が、酸変性成分１〜１０質量％および（メタ）アクリル酸エステル成分０．５〜４０質量％の酸変性ポリオレフィン樹脂、架橋剤およびポリビニルアルコールを含有し、架橋剤がカルボジイミド化合物および／またはオキサゾリン化合物にて構成され、酸変性ポリオレフィン樹脂１００重量部に対する架橋剤の含有量が１〜３０質量部であり、ポリビニルアルコールの含有量が５〜１００質量部であるカバーフィルム４。ベースフィルム１、水溶性感光性樹脂組成物層２、水溶性保護層３、および上記カバーフィルム４の順に積層された構造を有する水系凸版印刷用感光性樹脂構成体。 （もっと読む）

【課題】着色層の電気的な性質が液晶の配向乱れや、スイッチング性能に悪影響を与えることの無いカラーフィルタ、及び薄膜トランジスター（ＴＦＴ）方式カラー液晶表示装置の駆動用基板上の着色層についても電気特性に優れたカラーフィルタを形成することができるカラーフィルタ用着色組成物、及びカラーフィルタを提供すること。
【解決手段】前記課題は、無水マレイン酸と無水マレイン酸以外の１種類以上のエチレン性不飽和単量体との共重合体（Ａ）、顔料、バインダー樹脂（Ｂ）、活性エネルギー線重合性単量体、及び、活性エネルギー線重合開始剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物によって解決される。 （もっと読む）

【課題】超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、および良好なラインエッジラフネスを同時に満足するパターンを形成可能な感活性光線または感放射線性樹脂組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）製膜により膜表面に偏在する化合物、を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィにおいて、現像前のレジスト表面が親水性と疎水性の凸凹構造を持つことによる撥水化を抑制し、ムラなく均一に現像が進行するようにすることで、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを与え、かつアウトガス低減を同時に実現するパターン形成を可能とするリソグラフィ用基板被覆方法、およびこれに好適な感活性光線または感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に膜を被覆する工程と、該膜上に、トップコート組成物を用いてトップコート層を形成する工程を含むリソグラフィ用基板被覆方法であって、前記感活性光線または感放射線性樹脂組成物として、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物を、該組成物中の全固形分に対し少なくとも１０質量％含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いることを特徴とするリソグラフィ用基板被覆方法。 （もっと読む）

【課題】 超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィにおいて、現像前のレジスト表面が親水性と疎水性の凸凹構造を持つことによる撥水化を抑制し、ムラなく均一に現像が進行するようにすることで、抜け性の向上による高解像性とアウトガス低減を同時に実現するパターン形成を可能とするリソグラフィ用基板被覆方法、及びその方法に用い得るポジ型レジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 リソグラフィプロセスにおいて基板上に膜を被覆する工程と、該膜上にトップコート層を設ける工程を含むリソグラフィ用基板被覆方法であって、前記膜が、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いて形成されることを特徴とする、リソグラフィ用基板被覆方法。 （もっと読む）

【課題】従来と同じプロセスで成膜可能で、その反射防止膜は効果的に露光光の反射を防止し、更に、高いドライエッチング速度を兼ね備え、微細パターン形成に有用である有機反射防止形成材料を提供する。
【解決手段】一般式(１)で示される繰り返し単位を１種以上有し、露光波長における消光係数(ｋ値)が０．０１〜０．４、屈折率(ｎ値)が１．４〜２．１の範囲の高分子化合物(Ａ)と、芳香環を有し、露光波長における消光係数(ｋ値)が０．３〜１．２の範囲の高分子化合物(Ｂ)とをそれぞれ１種以上含有する反射防止膜形成材料。
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【課題】赤外線レーザーによる直接描画が可能で、なおかつ感度、経時安定性、及び、耐刷性に優れたネガ型平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）下記式（I）で表されるシアニン色素、（Ｂ）ウレタン結合を有するエチレン性不飽和化合物、（Ｃ）重合開始剤、及び、（Ｄ）バインダーポリマーを含有する感光層を有することを特徴とする平版印刷版原版。式（I）中、Ｘ¹及びＸ²はそれぞれ独立にＳ、Ｏ、ＮＲ及びＣ（アルキル）₂よりなる群から選ばれた二価の連結基を表し、Ｒ^1a及びＲ^1bはそれぞれ独立にアルキル基、アルキルスルホネート基、アルキルカルボキシレート基又はアルキルアンモニウム基を表し、Ｒ²は、ＳＲ、ＳＯ₂Ｒ又はＯＲを表し、Ｒはアリール基を表し、Ｚは一価以上のアニオンを表し、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立に０〜３の整数を表す。
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【課題】撥液性成分を含有する感光性組成物（レジスト）を用いて基板上に構造物（隔壁）を形成するにあたり、形成された構造物で区画される部分におけるレジストの残渣や撥液性成分の残留に起因する白抜けの問題を解決する。
【解決手段】基板上に、撥液性成分を含有する感光性組成物で構造物を製造する際に、該感光性組成物と基板との間に直接または他の層を介して形成される該感光性組成物の下引き層用の組成物において、親水性有機化合物を含有することを特徴とする下引き層用組成物。この下引き層用組成物を用いて基板と感光性組成物との間に下引き層を形成することにより、上記課題が解決できる。 （もっと読む）

【課題】高い顔料分散性とその安定性に優れたカラーフィルタ用着色組成物を提供し、高いコントラストを有し、現像で残渣の少ないカラーフィルタ、及び該カラーフィルタの製造方法を提供し、色特性の良好な液晶表示装置、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）平均一次粒子径１０ｎｍ〜３５ｎｍの有機顔料、（Ｂ１）ポリアリルアミン構造又はポリアルキレンイミン構造を有する主鎖部と、ポリエステルからなる側鎖部を有する重量平均分子量が３０００〜１５０００の範囲であるグラフトポリマー、（Ｂ２）ポリアリルアミン構造又はポリアルキレンイミン構造を有する主鎖部と、ポリエステルからなる側鎖部を有する重量平均分子量が２００００〜６００００の範囲であるグラフトポリマー、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能性単量体、（Ｅ）光重合開始剤、および（Ｆ）有機溶剤を含有するカラーフィルタ用着色組成物。 （もっと読む）

【課題】
現像処理において現像浴槽内に蓄積する現像カスを著しく低減可能にし、長期間安定的に処理をすることができる現像液を提供する。また、感光性組成物を用いた平板印刷版の現像性及び耐刷性を良好なものとする現像液を提供する。
【解決手段】
式（I）で表わされるアニオン界面活性剤とキレート剤とを含むネガ型感光性平板印刷版用の現像液であって、現像液はアニオン界面活性剤を１．０質量％〜１０質量％の範囲で含み、かつキレート剤を０．０５質量％〜１．０質量％の範囲で含み、ｐＨが１１〜１２．５である現像液。
【化１】
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【課題】凹凸の大きい遮光性レリーフ層を有するフォトマスクに適用する場合であっても、表面平滑性に優れた透明保護膜を形成しうるフォトマスク用ハードコート組成物、該組成物を用いてなるハードコート層を有するフォトマスクを提供すること。
【解決手段】重合性化合物（Ａ）と、フッ素含有化合物及び／又はシリコン含有化合物（Ｂ）と、重合開始剤（Ｃ）と、を含有し、フッ素含有化合物及び／又はシリコン含有化合物（Ｂ）の含有量が組成物の総量に対して０．１質量％〜３．０質量％である、紫外線硬化型或いは熱硬化型のフォトマスク用ハードコート組成物、並びに、パターニングしてなる遮光性レリーフ層上に、前記フォトマスク用ハードコート組成物を塗設してなるハードコート層と、を有するフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】液浸露光フォトレジスト膜において、アルカリ可溶性樹脂と併用するＳｉ原子及び／又はＦ原子を有する化合物の働きを、さらに高めたフォトレジスト膜の保護層用トップコート組成物、並びに該レジスト膜の保護層用トップコート組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】成分（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、成分（Ｂ）Ｓｉ原子及び／又はＦ原子を有する化合物、及び成分（Ｃ）下記式（１）で表される溶剤を含有することを特徴とするレジスト膜の保護層用トップコート組成物、並びにパターン形成方法。


（前記式（１）において、Ｒ₁は炭素数２〜３のアルキレン基、Ｒ₂は炭素数３〜４のアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】光の伝搬損失の発生を抑制できる感光性樹脂組成物、光導波路フィルムおよび光導波路フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、（Ａ）置換または無置換の環状オレフィン樹脂と、（Ｂ）（Ａ）とは屈折率が異なり、かつ、環状エーテル基を有するモノマーと、（Ｃ）光酸発生剤と、を備える。このような感光性樹脂組成物は、屈折率が異なる領域を含むフィルムに使用され、たとえば、光導波路フィルムに使用される。 （もっと読む）

【課題】遮光材料を大量に含有する場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、高解像度で画像形成が可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）下記式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）等で表される少なくとも１つの光学増白剤、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、（Ｄ）バインダーポリマー、および、（Ｅ）遮光材料を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）等で表される化合物は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基等により置換されていてもよい。
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【課題】遮光材料を大量に含有する場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ保存安定性及びセーフライト適性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、高解像度で画像形成が可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。下記一般式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して水素原子又は一価の置換基を表し、Ｒ^３は一価の置換基を表す。
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【課題】高感度であり且つセーフライト性、保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、解像度が高く、画像エッジ部の直線性に優れたフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）分子内に下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を有する増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス。一般式（Ｉ）中、Ｒ^１はアルキル基を示し、Ｒ^２は水素原子又は１価の置換基を示す。
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【課題】レーザー光による描画に適し、スクリーン線数２００線以上の高精細ＡＭスクリーン印刷やＦＭスクリーン印刷、特にＦＭスクリーンを使用した中間調の平網ムラの均一性が良好であるとともに、ドットロスを抑制した印刷版を提供できる平版印刷版原版、さらに、一液による現像においても、カス分散性に優れた平版印刷版原版、そして、該平版印刷版原版を用い、一浴現像において、平網ムラとドットロスを抑制した印刷版を作製する方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、ネガ型感光層、露光波長±５０ｎｍの光を吸収可能な、染料及び顔料の少なくもいずれかを含有する保護層、をこの順に有するネガ型の平版印刷版原版を画像様露光した後、一液で現像することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】低ｐＨ領域（例えばｐＨ１１以下）において、現像性、処理性、汚れ防止性、及び、耐刷性に関して充分な特性を両立するとともに、安全かつ、優れた現像性及び処理能力を示し、また現像後印刷までに印刷版を保存した場合でも耐刷性の低下が起こらない、1液処理が可能な平版印刷版の作製方法を提供することにある。
【解決手段】親水性支持体上に、下記（i）、（ii）、（iii）および（iv）を含有する画像記録層を有するネガ型平版印刷版原版を、画像露光した後、炭酸イオンと炭酸水素イオンとを含有する水溶液で処理することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
（i）増感色素
（ii）光重合開始剤
（iii）エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物
（iv）一般式（Ｉ）で表わされる構造を側鎖に有するバインダーポリマー
−Ｌ_１―Ｘ−ＮＨ−Ｙ−Ｒ_１ （Ｉ）
（式中、Ｌ_１は、ポリマー主鎖に結合する単結合または２価の連結基を表す。Ｘ、Ｙは、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表す。ただし、Ｘ、Ｙの少なくとも一方は、−ＳＯ_２−を表す。Ｒ_１は水素原子または１価の有機基を表す。） （もっと読む）

【課題】遮光材料を大量に含有する場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ保存安定性及びセーフライト適性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、高解像度で画像形成が可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。一般式（Ｉ）中、Ｘは、窒素原子又は−Ｃ（Ｒ^６）−を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立して、水素原子又は一価の置換基を表す。但し、Ｒ^１〜Ｒ^８のうち隣接する２つ、Ｒ^８とＲ^５、Ｒ^７とＲ^６のうちの１又は２以上の組み合せで結合して環を形成していてもよい。
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