【課題】 アルカリ現像性に優れ、かつ硬化収縮による反りが極めて小さい感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
親水性樹脂（Ａ）、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）、分子内に芳香族環を有するカルボキシル基変性セルロース（Ｃ）、及び光ラジカル重合開始剤（Ｄ）を含有するアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】 不純物イオンの溶出量が少なく、液晶表示装置に用いた場合に液晶汚染が少なく、表示ムラが発生しにくいカラーフィルタ用感光性樹脂組成物、これを用いたカラーフィルタ、及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）光重合性モノマー、（Ｂ）樹脂バインダー、（Ｃ）重合開始剤、（Ｄ）着色剤及び（Ｅ）溶剤を含有するカラーフィルタ用感光性着色組成物であって、前記（Ｂ）樹脂バインダーは、メラミン樹脂とイソシアネート基を含有する化合物及び／又は酸無水物とを反応させてなる熱硬化性樹脂を含有し、該感光性着色組成物の硬化物をＮ−メチルピロリドンで溶出したときのナトリウムイオンの溶出量が３ｎｇ／ｃｍ^２以下、カルシウムイオンの溶出量が１ｎｇ／ｃｍ^２以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】中性に近い水溶液で現像するにも拘わらず、非画像部に感光層の残存がない良好な現像性を示し、しかも、非画像部に汚れがなく画像部にムラのない良好な印刷物を供する平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）３５０〜４５０ｎｍの波長域に極大吸収を有する増感色素、（Ｂ）ラジカル重合開始剤、（Ｃ）ラジカル重合性化合物、（Ｄ）バインダーポリマーを含有する感光層を有する平版印刷版原版を、レーザー露光した後、ｐＨが３〜９の現像液で非露光部の感光層を除去して現像処理することを含む平版印刷版の作製方法において、前記バインダーポリマーが、酸価１０〜２５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇを有するバインダーポリマーであり、前記現像液が、特定の界面活性剤を含有することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などの製造工程における微細加工に用いられる反射防止膜材料として有効なレジスト下層膜形成材料及びこれを用い、ＡｒＦエキシマレーザー光（１９３ｎｍ）を用いた液浸リソグラフィーに好適なレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも下記一般式（１）で示される質量平均分子量が１，０００〜１００，０００の範囲で波長１９３ｎｍにおける消光係数（屈折率の虚数値；ｋ値）が０．１０〜０．３８の高分子化合物と、ブレンドフェノール低核体およびフェノールフラーレンから選ばれる波長１９３ｎｍにおける消光係数（屈折率の虚数値；ｋ値）が０．４〜１．１の範囲の化合物１種以上とをブレンドしてなることを特徴とするレジスト下層膜材料。
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【課題】エッジフュージョン（端面融着）がなく、かつタック性及び経時での性能安定性に優れ、フィルム化が容易で、高精細な永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなど）を効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、前記感光性積層体を用いた永久パターン形成方法、及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、エラストマー、及び熱架橋剤を含み、前記バインダーが、酸性基とエチレン性不飽和結合とを側鎖に有する高分子化合物を含む感光性組成物等である。前記バインダーが、酸性基と、ヘテロ環を含んでもよい芳香族基と、エチレン性不飽和結合とを側鎖に有する高分子化合物を含む態様、などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターンの膜減りを抑えられる、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、レジスト膜の、水に対する接触角が７５°以上であることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）ベース樹脂、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性化合物を含有するレジスト膜が成膜されたフォトマスクブランクであって、レジスト膜が、更に、（Ｄ）水酸基を有するフッ素置換炭化水素基であって、水酸基が結合する炭素原子に結合する隣接炭素原子に、該隣接炭素原子全体で２以上のフッ素原子が結合した第１のフッ素置換炭化水素基を有する側鎖を備える第１の繰り返し単位を含む高分子化合物を含有するフォトマスクブランク。
【効果】（Ｄ）成分の高分子化合物が添加されたレジスト膜により、レジストパターン形成時、現像プロセスにおいてレジスト膜全体に均一な現像が行なわれることで、現像後、線幅の面内均一性の高いレジストパターンを形成することができ、特に（Ｄ）成分の高分子化合物が添加されたレジスト膜を設けたフォトマスクブランクから、このレジスト膜のレジストパターンを用いて、面内精度の高いフォトマスクを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 放射線の波長に対して十分な透過性をもち、フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト膜上に保護膜を形成でき、更には十分な撥油性を有し高速スキャン時に膜上への液残りが少なく、高ＮＡ露光に対応する十分高い屈折率を有する上層膜を形成できる。
【解決手段】 ｔｒａｎｓ−デカヒドロナフタレン、１，１−ビシクロヘキシル、ｅｘｏ−テトラヒドロジシクロペンタジエンとの接触角が６５°以上、９０°未満であり、１９３ｎｍおける屈折率が１．６以上、１．８以下となる膜を形成することができ、重量平均分子量が２，０００〜１００，０００であり、上層膜用重合体は、フッ素原子を含む基をその側鎖に有する繰返し単位と、硫黄原子を含む基をその側鎖に有する繰返し単位とを含む。 （もっと読む）

【課題】導電性が高く、しかもパターンの精度が高い導電性回路を簡便に形成できる導電性回路の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の導電性回路の形成方法は、基材上に導電性高分子溶液を塗布して導電性塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記導電性塗膜をパターン露光した後、現像液を用いて現像して導電性回路を形成する回路形成工程とを有し、導電性高分子溶液が、π共役系導電性高分子と水溶性ポリアニオンと水溶性アクリル化合物と非水溶性アクリル化合物と溶媒とを含み、非水溶性アクリル化合物が、導電性高分子溶液中の全アクリル化合物１００質量％に対して４．２〜６６．６質量％であり、導電性高分子溶液中の全アクリル化合物の質量が、π共役系導電性高分子と水溶性ポリアニオンの合計に対して１．７〜１６．６倍であり、現像液が、水及び／又は水溶性溶媒を含む液である。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度で細線密着性及びパターン形状も良好で、しかも、残渣の発生がなく、また、ハードベーク時の着色がなく、可視光領域での光透過率が良好な光重合性組成物を提供する。
【解決手段】 次の（Ａ）〜（Ｄ）の各成分を含有する光重合性組成物。
（Ａ）酸価１００ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上２５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以下のアルカリ可溶性樹脂
（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する化合物
（Ｃ）光重合開始剤
（Ｄ）軟化点が１００℃以下の樹脂 （もっと読む）

【課題】環境および労働安全上好ましいｐＨ２〜１０の現像液を使用し、良好な現像性が得られ、しかも、画像強度が強く耐刷性も優れた平版印刷版を作製する方法を提供できる。
【解決手段】支持体上に画像記録層を有する平版印刷版原版を、画像様露光により露光部の画像記録層を硬化させた後、ｐＨ２〜１０の現像液の存在下、擦り部材にて擦りながら画像記録層未露光部の除去を行う平版印刷版の作製方法において、前記擦り部材の擦り力Ｆが、５（ｇ／ｍｍ）≦ Ｆ ≦１００（ｇ／ｍｍ）の範囲にあることを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】水または水性の現像液による現像性に優れ、更に耐刷性にも優れた平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に画像形成層を有する平版印刷版原版であって、前記画像形成層が、光重合開始剤、重合性化合物およびグラフト鎖を有するバインダーポリマーを含有する感光性組成物からなり、かつ前記グラフト鎖が、親水性基を有する親水性グラフト鎖であることを特徴とする平版印刷版原版。該原版を用いた平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】 ＩＴＯ成膜時の断線を起こさない、順テーパな感光性着色樹脂組成物と、これを用いた着色画像の製造法、カラーフィルタの製造法、カラーフィルタ等を提供する。
【解決手段】 （Ａ）色素、（Ｂ）樹脂、（Ｃ）光重合性化合物、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有する感光性着色樹脂組成物であって、前記（Ｃ）成分が一般式（Ｉ）を含み、且つ、（Ｃ）成分中に占める一般（Ｉ）の割合が２０〜８０重量％である感光性着色樹脂組成物。
【化１】


（一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２は２価の有機基を示す。） （もっと読む）

【課題】紫外光、可視光あるいは赤外光を放射する固体レーザー又は半導体レーザーを用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能な平版印刷版原版、特に、ｐＨ１０以下の水溶液や印刷機上において現像可能な高感度、高耐刷の簡易処理型平版印刷版原版及びこれを用いる平版印刷方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、双極子モーメントが３．８デバイ以上の官能基を有し、且つ、酸価が０．３ｍｅｑ／ｇ以下であるバインダーポリマー、ラジカル重合性化合物、及びラジカル重合開始剤を含有する感光層を有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】より安全性の高いハイパーブランチポリマーを合成するとともに、合成にかかるコストの低減を図ることができるハイパーブランチポリマーの合成方法を提供すること。
【解決手段】ハロゲン元素を含むモノマーのリビングラジカル重合を経てハイパーブランチポリマーを合成する際に、リビングラジカル重合によって重合された共重合体に酸分解性基を導入する導入工程と、フェニルシランまたはシランを用いて、導入工程において酸分解性基が導入された共重合体におけるハロゲン元素を水素元素に置換する置換工程と、をおこなうようにした。 （もっと読む）

【課題】 ハロゲン系難燃剤を用いずに十分な難燃性を確保することができ、十分な伸び率を有する硬化物を得ることが可能な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 樹脂と、（Ｄ）ホスフィン酸塩と、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】３５０〜４５０ｎｍの波長を有する露光光源に対する感度、解像度、密着性、及びサンドブラスト耐性に優れ、スカム発生量の少ない、アルカリ現像性感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（ａ）α，β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で１００〜６００、重量平均分子量が５０００〜５０００００の熱可塑性共重合体：２０〜７０質量％、（ｂ）末端に水酸基を有するポリマーまたはモノマーと、ポリイソシアネートと、活性水素を有する官能基とエチレン性不飽和基を分子内に共に有する化合物より得られるポリウレタンプレポリマー：２０〜７０質量％、（ｃ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：３〜７０質量％、（ｄ）ヘキサアリールビスイミダゾールを含む光重合開始剤：０．０１〜３０質量％、及び（ｅ）特定のピラゾリン化合物：０．００１〜１０質量％、を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】安価な短波半導体レーザの発振波長に対し高感度であり、保存安定性にも優れた感光性組成物、該組成物を用いた画像形成材料及び平版印刷版の作成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の構造を持つビイミダゾール型化合物、（Ｂ）３５０ｎｍ〜８５０ｎｍに吸収極大波長λ_maxを持つ増感色素、及び、（Ｃ）重合性化合物を含有する感光性組成物、及び該組成物を用いた画像形成材料及び平版印刷版の作成方法。 （もっと読む）

【課題】高エネルギー線、特にＫｒＦエキシマレーザー、電子線、Ｘ線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、ラインエッジラフネス、パターン形状、感度、溶解コントラスト、コントラスト、露光時のアウトガス、ＰＥＢ温度依存性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも１つの分岐部を介してポリマー鎖を３つ以上有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大するポリマー、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物として、特定のスルホニウム塩を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】タック性が低減された塗布乾燥膜（保護膜）を形成可能で、ハードベーク時の着色がなく、可視光領域での光透過率が良好な保護膜用熱硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有し、前記成分（Ａ）の酸価が８０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ以上であり、且つ、前記成分（Ａ）を膜厚１μｍで成膜した樹脂膜の０．４重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（２５℃）中でのブレークポイントが、１０秒以上であることを特徴とする保護膜用熱硬化性組成物。 （もっと読む）