【課題】本発明の目的は、有機半導体層、または導電膜等薄膜の高精度で生産効率の高いパターニング方法を提供することにある。また、移動度の高い高性能の有機ＴＦＴと、高精度で生産効率の高い有機ＴＦＴの製造方法を提供することにある。
【解決手段】酸の存在下で分解する保護基を分子内に有することを特徴とする表面処理材料。 （もっと読む）

【目的】レジストとして利用可能な低分子膜を形成することができる新規なフルオレン系化合物を提供する。
【構成】フルオレン系化合物は、下記の一般式（１）で表されるものである。一般式（１）において、Ｒは水素原子またはハロゲン原子を示す。ハロゲン原子は、例えばフッ素である。このフルオレン系化合物をシクロヘキサン等の溶媒に溶解した溶液を調製し、この溶液を基材に塗布すると、薄膜が形成される。この薄膜は、フルオレン系化合物が分子間力により配列した分子集合体である。
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【課題】複雑な工程を行うことなく、簡単に製造することができ、かつレジストパターン形成において露光後の加熱が必要なく、優れた性能を有するポジ型感光性樹脂組成物を得る。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）α−アミノ置換型アセトフェノン誘導体である光ラジカル発生剤を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、この組成物を用いたレジストパターンの形成方法、及びこの組成物を用いた導体パターンの形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】繰り返し単位としてヒドロキシスチレン単位を含み、重量平均分子量が２０，０００以下であることを特徴とする自己組織化によりミクロドメイン構造のパターンサイズが２０ｎｍ以下のパターンを形成する自己組織化高分子膜材料。
【効果】本発明は、ヒドロキシスチレン単位を含む高分子化合物を、ブロック共重合体として用いたり、他の高分子化合物と配合することで、従来のブロックコポリマーでは難しい、パターンサイズが２０ｎｍ以下の自己組織化により形成されるミクロドメイン構造のパターンを得ることができ、特に超ＬＳＩ製造用の微細パターン形成材料などへ好適な自己組織化材料を与えることが可能である。 （もっと読む）

【課題】安価で大きな出力のレーザパワーが得られる赤色半導体レーザを用いても微細なパターンが露光可能なレジスト材料を提供することを目的とする。
【解決手段】半導体装置の製造の際、パターンを形成するために使用されるレジスト膜において、レーザ光の照射によって感光し性質が変化する感光膜１０２と、パターンを形成するためのマスク層１０４と、マスク層１０４を感光膜１０２から剥離するための剥離層１０３と、を有し、感光膜１０２は、遷移金属の不完全酸化物からなり、不完全酸化物は、酸素の含有量が遷移金属のとりうる価数に応じた化学量論組成の酸素含有量より小さい材料である。 （もっと読む）

【課題】より簡単かつ低コストで行うことのできるフォトレジスト膜のリワーク方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、反射防止用ケイ素樹脂膜１２、その上にフォトレジスト膜１３を順次形成した基板１０のフォトレジスト膜１３をリワークする方法であって、少なくとも、溶剤で前記ケイ素樹脂膜１２を残したまま前記フォトレジスト膜１３を除去し、前記ケイ素樹脂膜１２の上に再びフォトレジスト膜１３を形成することを特徴とするフォトレジスト膜１３のリワーク方法。この時、前記フォトレジスト膜１３をリワークする基板は、前記ケイ素樹脂膜１２の下に、有機膜１１を形成したものとすることができる。 （もっと読む）

【課題】 スピンコート法により基板上に薄膜を形成するに際し、滴下する高分子溶液に新たな成分を添加する必要がなく、しかも簡易な操作でストリエーションの発生を抑制する方法を提供する。
【解決手段】 本発明の薄膜の形成方法は、スピンコート法により基板上にポリマー溶液を適用して薄膜を形成する方法において、基板にポリマー溶液を供給する直前に該ポリマー溶液にせん断を付与することを特徴とする。ポリマー溶液として、極性基を有するモノマー単位を少なくとも含むポリマーの溶液を用いることができる。せん断の付与手段として、例えば、超音波、振盪、撹拌及び細管内の通過から選択された少なくとも１つの手段が挙げられる。 （もっと読む）

【課 題】 低温焼成性および非感光性成分の熱分解性に優れた感光性組成物を提供すること。
【解決手段】式
【化１】


（式中、Ｒは炭素数３以上のアルキレン基を示し、ｎは１以上の整数である）
で表されるオキシアルキレン単位を含む非感光性（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）、感光性成分（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および焼結性粉末（Ｄ）を含有することを特徴とする感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光に適用した場合に、ドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく、液浸液への酸の溶出が極めて少ない液浸露光に好適なレジストを提供する。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有しており、かつ基板上に塗膜を形成した際の純水に対する静的接触角が72°以上であり、アルカリ現像液に対する静的接触角が70°以下であることを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）