【課題】９０ｎｍ以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。
【解決手段】側鎖にアダマンチルラクトンを有する繰り返し単位（ａ−１）、および酸解離性基を有する繰り返し単位（ａ−２）を含む樹脂（Ａ）と、特定構造のスルホニウム塩を含む感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有する。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路、プリント配線基板又は液晶パネルの製造に用いることのできるフォトレジスト技術に関し、従来の反応現像画像形成法により形成されるフォトレジストの耐熱性を向上させ、かつ適正な現像時間を確保する手段を提供する。
【解決手段】所望のパターンでマスクされたフォトレジスト層に紫外線を照射し、その後この層をアルカリを含む溶剤で洗浄することから成る現像画像形成法において、該フォトレジスト層が、アマダンタン骨格を有する耐熱性ポリカーボネート樹脂と光酸発生剤とから成り、該アルカリがアミンであることを特徴とする反応現像画像形成法。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥が低減されたネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定構造の酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用によりネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、及び（Ｃ）溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ネガ型現像によるパターニングに於いて、パターン倒れ性能が良好で、かつトレンチパターン解像性の良好なネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定構造の酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用によりネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、及び（Ｃ）溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】画像部の良好な耐刷性を維持しつつ、湿式現像処理を経ることなく非画像部の良好なガム液処理による現像除去性を達成しうる平版印刷版原版、及び、その製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性モノマー、及び、（Ｄ）下記一般式（１）で表される基及び下記一般式（２）で表される基の少なくとも１種を側鎖に有する高分子化合物を含有する重合性組成物から構成され、露光後、ガム液を供給することにより未露光部を除去しうる画像記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版
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【課題】自由度を損なうことなく高解像度を実現する微細構造の作製方法を提供すること。
【解決手段】まず、図１（ｂ）のように、ネガ型レジスト１０２を基板１０１に塗布する。次に、図１（ｃ）のように、ネガ型レジスト１０２に、電子ビーム（エネルギービームに対応）１０３を第１のパターンで照射する（第１の露光ステップ）。ついで、図１（ｄ）のように、ネガ型レジスト１０２を現像して、ブロック状（第１の構造に対応）のレジスト１０２Ａを形成する（第１の現像ステップ）。そして、図１（ｅ）のように、ブロック状のレジスト１０２Ａに、電子ビーム１０３を第１のパターンとは異なる第２のパターンで照射する（第２の露光ステップ）。最後に、図１（ｆ）のように、ブロック状のレジスト１０２Ａを現像して、３本の直交ナノワイヤ状（第２の構造に対応）のレジスト１０２Ｂを形成する（第２の現像ステップ）。 （もっと読む）

【課題】疎水性めっき触媒受容領域を形成した基板の所望領域のみに選択的にめっき触媒を吸着させることができる触媒吸着方法、及び、それを用いた金属層付き基板の製造方法を提供する。
【解決手段】重合性基と相互作用性基とを有する化合物を含有し、硬化物が疎水性表面である感光性樹脂組成物を基板上に塗布する工程、パターン状に露光し、該組成物を硬化させる工程、未硬化物を現像除去する工程、及び、該基板に、めっき触媒と有機溶剤とを含有する水性めっき触媒液を接触させる工程、を含み、パラジウムをめっき触媒として含むめっき触媒液を接触させたときの、めっき触媒受容領域における吸着量をＡｍｇ／ｍ^２、未形成領域における吸着量をＢｍｇ／ｍ^２としたとき、下記式（Ａ）、（Ｂ）を満たす。
式（Ａ）：１０ｍｇ／ｍ^２≦Ａ≦１５０ｍｇ／ｍ^２
式（Ｂ）：０ｍｇ／ｍ^２≦Ｂ≦５ｍｇ／ｍ^２ （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、１９３ｎｍ以下、特に１５７ｎｍ用であって、このような短波長でも高透明性であるばかりでなく、例えば優れたプラズマエッチング耐性および接着性を含むその他鍵となる特性をも有する別の新規なレジスト組成物の提供である。
【解決手段】本発明は、フッ素含有コポリマーであって、（ｉ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合している少なくとも１個のフッ素原子を含む少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物から誘導された反復単位と、（ｉｉ）ＣＨ₂＝ＣＨＯ₂ＣＲ¹⁵、ＣＨ₂＝ＣＨＯＣＨ₂Ｒ¹⁵およびＣＨ₂＝ＣＨＯＲ¹⁵からなる群から誘導された反復単位であり、式中、Ｒ¹⁵は、炭素原子が約４個から約２０個の飽和アルキル基であり、炭素原子対水素原子の比が０．５８より大きいかまたは同じであるという条件付きで、１個または複数のエーテル酸素を任意で含有している反復単位と、を含むことを特徴とするフッ素含有コポリマーに関する。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度、高透明性の特性を有し、かつ有機アミンを含有するポジレジスト剥離液への耐性が良好な硬化膜を得ることができるポジ型感光性組成物を提供することである。
【解決手段】（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）（メタ）アクリルポリマー、（ｃ）重量平均分子量（Ｍｗ）が３００以上のヒンダードフェノール系酸化防止剤、（ｄ）キノンジアジド化合物ならびに（ｅ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィーにより、アスペクト比に優れ、高微細、低蛍光性のマイクロチップ部品に適合した成形物の作成を可能にする感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定のエポキシ樹脂（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）及び溶剤（Ｃ）を含有するマイクロチップ用感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィーにより、アスペクト比に優れ、高微細、低蛍光性のマイクロチップ部品に適した成形物（硬化物）が得られる。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスが低減され、更に寸法均一性も高いパターンが形成する方法、該方法に用いられる樹脂組成物及び該方法に用いられる現像液を提供する。
【解決手段】脂環式炭化水素構造を有し、分散度が１．７以下であり、かつ酸の作用により極性が増大する樹脂を含有する、活性光線又は放射線の照射により、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、レジスト組成物を塗布する工程、露光工程、および、ネガ型現像液を用いて現像する工程、を含むことを特徴とするパターン形成方法、該方法に用いられるレジスト組成物及び該方法に用いられる現像液及びリンス液。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する為のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により極性が増大する樹脂を含有し、活性光線又は放射線の照射により、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、特定のネガ型現像用レジスト組成物を塗布する工程、（イ）液浸媒体を介して露光する工程、及び（ウ）ネガ型現像液を用いて現像を行う工程、を含むことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】トレンチパターンやホールパターンの寸法を実効的に微細化したパターンをスカムを発生させずに形成する方法の提供。
【解決手段】（ア）酸の作用により極性が増大する樹脂を含有し、活性光線又は放射線の照射により、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程、（ウ）ネガ型現像液を用いて現像を行い、レジストパターンを形成する工程、及び（エ）該レジストパターンに架橋層形成材料を作用させ、該レジストパターンを構成する樹脂と架橋層形成材料とを架橋させ、架橋層を形成する工程、を含むことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する為のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により極性が増大する樹脂を含有し、活性光線又は放射線の照射により、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、ネガ型現像用レジスト組成物を塗布する工程、（イ）前記レジスト膜の形成後かつ前記レジスト膜の露光前に、保護膜組成物による保護膜を形成する工程、（ウ）液浸媒体を介して露光する工程、及び（エ）ネガ型現像液を用いて現像を行う工程、を含むことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】着色剤が高濃度に含有する場合であっても、塗膜性に優れ、高感度で硬化し、良好なパターン形成性を示し、現像の際のラチチユードが広く、基材である硬質表面との密着性に優れた硬化性組成物、それを用いた解像力と支持体との密着性に優れた着色パターンを備えるカラーフィルタ、及び、該カラーフィルタを高い生産性で製造しうる製造方法を提供する。
【解決手段】（１）側鎖に脂環式（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリル共重合体、及び、（メタ）アクリロイル基を０．００１〜０．２０ｅｑ／ｇ有し、且つ、酸価が１０〜１５０である共重合体から選択される少なくとも１種のアルカリ可溶性樹脂、（２）光重合開始剤、（３）ウレタン、アミド、及びウレアから選択される部分構造と、エチレン性不飽和二重結合と、を有する重合性モノマー又はオリゴマー、及び（４）着色剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する方法、該方法に用いられる樹脂組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液を提供する。
【解決手段】（ア）基板上に、活性光線又は放射線の照射により、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、ポジ型レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程、及び（エ）ネガ型現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法、該方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する方法、該方法に用いられるレジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるリンス液を提供する。
【解決手段】（ア）特定の繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有するレジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程及び（エ）ネガ型現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法、該方法に用いられるレジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるリンス液。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する方法、該方法に用いられるレジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるリンス液を提供する。
【解決手段】（ア）特定繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大する樹脂を含有し、活性光線又は放射線の照射により、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程、及び（エ）ネガ型現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法、該方法に用いられるレジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるリンス液。 （もっと読む）

【課題】ＬＳＩチップのバッファコート材料や再配線層として好適な、キュア前後での膜減りが少なく、２．７以下という低誘電率で、製膜に適した粘度で、通常の光重合開始剤を用いても空気中で硬化可能な感光性シリコーン化合物を含む樹脂組成物、並びにそれを用いた樹脂絶縁膜を提供すること。
【解決手段】特定の構造を有する感光性シリコーン化合物１００質量部、及び光重合開始剤０．１〜２０質量部を含有する感光性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】遮光インクのにじみ性、遮光性および保護層であるカバーシートの剥離性の調整を実現することができる凸版印刷用原版およびその製造方法、インク受容層形成用組成物、ならびに凸版印刷版の製造方法を実現する。
【解決手段】本発明にかかる凸版印刷用原版は、感光性樹脂層と、該感光性樹脂層の上に設けられたインク受容層とを含有する凸版印刷用原版であって、前記インク受容層は、質量平均分子量が互いに異なるヒドロキシアルキルセルロースを少なくとも２種以上含む。 （もっと読む）