説明

Fターム[2H025FA17]の内容

フォトレジストの材料 (104,520) | 画像形成法 (10,567) | 現像 (4,795) | 液体現像 (4,720) | 現像剤が特定されるもの (4,563) | 水性現像剤 (4,519)

Fターム[2H025FA17]に分類される特許

1 - 20 / 4,519


【課題】青味を帯びた緑色の領域において、光透過率が高く、且つ塗布膜厚を厚くすることも着色感放射線性組成物中の顔料成分の含有率を高くすることもなく色純度の高い緑色画素を形成することができる感放射線性組成物を提供すること
【解決手段】着色層形成用感放射線性組成物は、(A)C.I.ピグメントグリーン7を含有してなる着色剤、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体および(D)光重合開始剤を含有し、C光源、2度視野で測定したCIE色度座標が0.140≦x≦0.270、0.500≦y≦0.630の範囲にある緑色画素を形成するための感放射線性組成物である。 (もっと読む)


【課題】立体基板上に透明樹脂構造体を形成する場合に、寸法精度よく透明樹脂構造体を形成することができる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】立体基板上に、紫外線吸収剤を含有する紫外線硬化型透明性樹脂組成物を載置した後、フォトマスクを介して紫外光を照射して選択露光することにより、該樹脂組成物を硬化させる工程と、未露光部分を除去することにより硬化された樹脂構造体を形成させる工程とを備えることを特徴とする立体基板上に透明性樹脂構造体を形成する方法を行う。 (もっと読む)


【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分(A)は、側鎖に、環骨格中に−SO−を含む環式基含有エステル基を有する構成単位(a0−1)を有し、質量平均分子量(Mw)が10000以下の高分子化合物(A1−1)と、高分子化合物(A1−1)が有する構成単位と同一の構成単位(a0−1)を有し、Mwが、高分子化合物(A1−1)のMwの1.5倍以上である高分子化合物(A1−2)とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】ろ過性、線幅均一性に優れたレジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】(A)環状アルキル構造を有する特定の繰り返し構造単位を含有する酸分解性樹脂、(B)酸発生剤、(C)下記(a)群から選択される少なくとも1種の溶剤と、下記(b)群〜(d)群から選択される少なくとも1種の溶剤とを含む混合溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法。(a)群:アルキレングリコールモノアルキルエーテル、(b)群:アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、(c)群:直鎖状ケトン、分岐鎖状ケトン、環状ケトン、ラクトン、アルキレンカーボネート、(d)群:乳酸エステル、酢酸エステル、アルコキシプロピオン酸エステル。 (もっと読む)


【課題】波長310〜380nmのレーザを露光光源とする露光方式に適用される青色着色組成物であって、塗膜表面剥がれおよび塗膜表面シワの発生がない、青色着色組成物、そのような青色着色組成物を用いたカラーフィルタの製造方法、およびそのような方法により製造されたカラーフィルタの提供。
【解決手段】基板上に青色着色組成物を用いて青色塗膜を形成する工程と、前記青色塗膜のフィルタセグメントの形成予定領域に、波長310〜380nmのレーザを照射して硬化させる工程と、前記青色塗膜の未硬化部分を除去してフィルタセグメントを形成する工程とを具備するカラーフィルタの製造方法に用いられる青色着色組成物であって、青色顔料、樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、オキシムエステル系光重合開始剤および多官能チオールを含有することを特徴とする青色着色組成物。 (もっと読む)


【課題】輝度とコントラストとを両立したカラーフィルター用赤色組成物及びそれを有するカラーフィルターを提供する。
【解決手段】PR254、PR177及びオレンジ色顔料を含有するカラーフィルター用赤色組成物及びそれを有するカラーフィルターである。 (もっと読む)


【課題】フィルタ面における各画素の角(カド)部の丸みが小さい矩形の正方画素を有し、正方画素の断面の角(カド)部の丸みも小さい矩形に形成されたカラーフィルタを提供する。
【解決手段】複数の受光素子を有する支持体と、前記支持体の受光素子形成面側に設けられ、顔料及び下記一般式(I)で表される化合物を含み、波長365nmの光の透過率が0.1%以上10.0%以下、より好ましくは0.1%以上5.0%以下であってパターンサイズが0.5μm以上1.2μm以下である着色画素とを備えている〔R〜R:H、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基(同時にHを表さない。RとRはNと共に環状アミノ基を形成してもよい);R:電子吸引基;R:電子吸引基〕。
(もっと読む)


【課題】従来から要望されているカラーフィルタに対する特性を付与することができるとともに、優れた感度を示す着色感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】メタアリル基を有する化合物(A)、2個以上のメルカプト基を有する化合物(B)、アクリロイル基及びメタアクリロイル基からなる群から選ばれる2以上の基を有する化合物(C)、光重合開始剤(D)、着色剤(E)及びアルカリ可溶性樹脂(F)を含有する着色感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 レーザ直接描画露光において高感度で、レジスト形状に優れ、解像度、密着性及び剥離性が良好なレジストパターンを形成することが可能なレーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 (A)バインダーポリマー、(B)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する光重合性化合物、(C1)アクリジン化合物、(C2)2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、(D)ハロゲン化合物及び(E)重合禁止剤を含有するレーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物であって、前記(E)重合禁止剤の含有量が20〜100質量ppmであるレーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】チタンブラックの高い赤外遮光能とチタンブラックの高い分散性とが両立された分散組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】CuKα線をX線源としてX線回折スペクトルを測定した場合の(200)面に由来する回折ピークの回折角(2θ)が43.00°以上43.15°未満であるチタンブラック、分散剤、及び溶剤を含む混合液に対し、該チタンブラックの体積平均粒子径の変化が10nm/パス以下となるまで分散処理を行い、前記分散処理して得られた分散液に、更に分散剤を添加して分散処理を行う。 (もっと読む)


【課題】微細な顔料を用いた場合でも顔料の分散性・分散安定性に優れた顔料分散液、顔料分散液を含有する未硬化領域の除去性に優れた着色硬化性組成物、それを用いた着色パターンを有する高コントラストなカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】(A)(i)窒素原子を有する主鎖部と、(ii)pKaが14以下である官能基を有し、該主鎖部に存在する窒素原子と結合する基「X」を少なくとも2種と、(iii)数平均分子量が500〜1,000,000であるオリゴマー鎖又はポリマー鎖「Y」を側鎖に有する樹脂、(B)顔料、及び、(C)溶剤を含む顔料分散液、及び、さらに(D)重合性化合物と、(E)重合開始剤とを含有することを特徴とする着色硬化性組成物である。 (もっと読む)


【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分(A)が、その環骨格中に−SO−を含む環式基を含むアクリル酸エステル構成単位及び/又はメタクリル酸エステル構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)及び/又は酸解離性溶解抑制基を含むメタクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1’)とを有する高分子化合物(A1)を含有し、高分子化合物(A1)中の、該アクリル酸エステルから誘導される構成単位の割合が15〜80モル%であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】化学増幅型フォトレジスト組成物において、ラインエッジラフネス(LWR)の更なる改善を図ること。
【解決手段】環状ポリシロキサンと、該環状ポリシロキサンを構成する珪素原子に結合した1又は2以上の側鎖と、を備え、前記側鎖のうち少なくとも一部が、光の作用により酸を発生する光活性基を含み、該光活性基が同一分子中に複数存在するときそれらは同一でも異なっていてもよい、光活性化合物。 (もっと読む)


【課題】レジストパターン形成時においてスカムが発生せず、基板とのマッチングが良好なポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分(A)は、カルボキシル基を含有する構成単位、環骨格中に−SO−を含む環式基を含む構成単位、及び酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物(A1)を含有する。 (もっと読む)


【課題】露光から露光後ベークまでの放置時間に関わらず高感度で現像時の膜減りの小さい感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)光重合性化合物、(c)光重合開始剤、(d)光酸発生剤および(e)酸により反応する架橋剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性が良好で、形成されるレジストパターンの形状も良好なポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)、および含窒素有機化合物成分(D)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、環骨格中に−SO−を含む構成単位を有し、かつ、その構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物(A1)を含有し、前記含窒素有機化合物成分(D)を少なくとも2種含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】優れた感度で、LWRの小さい、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の構成単位の合成に利用できる化合物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)は、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位(a0)を有する高分子化合物(A1)を含み、かつ前記構成単位(a0)における酸解離性溶解抑制基が、下記一般式(a0−0−1)で表される基を含む。[式(a0−0−1)中、R’及びR’はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表し、Yは単結合又は二価の連結基であり、Rはその環骨格中に−SO−を含む環式基である。]
[化1]
(もっと読む)


【課題】ジケトピロロピロール顔料を用い、耐熱性に優れる着色組成物を提供すること、並びにこれを用いて高コントラストなカラーフィルタを提供すること。
【解決手段】着色剤[A]と、光重合開始剤[B]と、有機溶剤[C]と、透明樹脂[D]と、透明樹脂前駆体[E]とを含む着色組成物であって、着色剤[A]がジケトピロロピロール系顔料を含み、かつ、透明樹脂前駆体[E]が透明樹脂前駆体[E]の全量を基準として50重量%以上のN−置換マレイミド、好ましくはシクロヘキシルマレイミドを含む着色組成物、および基板上に、前記着色組成物から形成されるフィルタセグメントを具備するカラーフィルタ。 (もっと読む)


【課題】レジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を有機溶剤(S)に溶解してなるレジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、その環骨格中に−SO−を含む環式基を側鎖に有するアクリル酸エステル系の特定の構成単位(a0−1)を有する高分子化合物(A1)を含有し、前記有機溶剤(S)が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、および2−ヘプタノンを含有することを特徴とするレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】ベイク工程後に得られたFPCの反りを低減し、機械物性を向上させ、溶剤耐性を改善することのできる樹脂パターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂パターンの製造方法は、(1)ポジ型感光性樹脂組成物をフィルム基材に塗布し、次いで脱溶剤し感光性ドライフィルムを作る工程と、(2)前記感光性ドライフィルムを、パターンを配した基板上に圧着し感光層を形成する工程と、(3)前記感光層に、マスクを通して活性光線を照射する工程と、(4)前記感光層をアルカリ水溶液により現像する工程と、(5)前記感光層を水及び酸性水溶液からなる群から選択される少なくとも1つの溶媒によりリンスする工程と、(6)前記感光層の全体に活性光線を照射する工程と、(7)100℃〜400℃でキュアする工程とを具備することを特徴とする。 (もっと読む)


1 - 20 / 4,519