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Fターム[2H025FA28]の内容

フォトレジストの材料 (104,520) | 画像形成法 (10,567) | 現像後の処理 (2,668)

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【課題】印刷汚れ及び版面汚れが少なく、且つ印刷耐久性が高い凸版印刷用版材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】凸版印刷用版材10は、版材の凹部11及び凸部12側面がフッ化炭素基を含む膜物質の形成する撥水撥油性被膜13で被覆されている。凸版印刷用版材10は、(1)バック露光工程と、(2)凸部12を形成する部分を被覆するマスク材17を選択的に除去する工程と、(3)露光工程と、(4)マスク材17が除去された部分を水溶性樹脂の被膜20で被覆する工程と、(5)現像工程と、(6)仕上げ露光工程と、(7)凹部11及び凸部12の表面に撥水撥油処理液を接触させ、撥水撥油性被膜13を印刷面側の表面全体に形成する撥水撥油処理工程と、(8)樹脂の被膜が可溶な洗浄液で水溶性樹脂の被膜20を洗浄除去する洗浄工程とを有する方法により製造される。 (もっと読む)


【課題】 感光性を有するため微細加工が可能であり、希アルカリ水溶液で現像可能であり、低温で硬化可能であり、柔軟性に富み、電気絶縁信頼性、ハンダ耐熱性、耐有機溶剤性、封止剤との密着性に優れ、硬化後の基板の反りが小さい感光性樹脂組成物硬化膜からなる回路基板の製造方法を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも、(1)感光性樹脂組成物を用いて基板上に塗膜を形成する工程と、(2)露光工程、さらに(3)アルカリ現像工程を経て、(4)イオン性不純物洗浄除去工程を経由した後、(5)熱硬化工程によって基板上に感光性樹脂組成物硬化膜を形成することを特徴とし、上記感光性樹脂組成物が、(A)イミド化したテトラカルボン酸、(B)ジアミノ化合物及び/又はイソシアネート系化合物、(C)感光性樹脂、(D)光重合開始剤を少なくとも含有することを特徴とする回路基板の製造方法を用いることで上記課題を改善し得る。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、リスタートトーニング回復性が良好な平版印刷原版、特に赤外線感光性ポジ型の平版印刷原版の製版方法を提供するものである。
【解決手段】基板と画像形成層との間に、ホスホン酸基またはリン酸基を有するポリマーを含む中間層を有する平版印刷原版の製版方法であって、前記平版印刷原版を画像様露光し、現像し、そしてオニウム基を有するデンプンを含有する版面保護液を用いて処理することを含む平版印刷原版の製版方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、化学増幅型ネガティブフォトレジストとポジティブフォトレジストとの組み合せによる露光及び現像によりパターンピッチが露光装備の解像度の1/2倍であるマスクパターンを形成するマスクパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係るマスクパターン形成方法の代表的な構成は、基板の上部にネガティブフォトレジスト(Negative Photo Resist)膜を形成する。ネガティブフォトレジスト膜の一部領域を露光する。ネガティブフォトレジスト膜を現像する。ネガティブトーンワーキングフォトレジスト(negative tone working photo resist)膜を含む基板の上部にポジティブフォトレジスト(Positive Photo Resist)膜を形成する。ネガティブトーンワーキングフォトレジスト膜の境界部のポジティブフォトレジスト膜に水素気体が拡散するように基板をベーキング(Baking)する。ポジティブフォトレジスト膜を現像する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、絶縁信頼性に優れたプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】特定の多層構造からなる感光性ドライフィルムレジストを用いて、回路基板上に、絶縁保護層を形成する。上記感光性ドライフィルムレジストを上記回路基板上に積層し、該感光性ドライフィルムレジストに対して露光及びアルカリ現像を行う。その後、(a)Mgイオン又はCaイオンを含有する水溶液、又は、(b)酸性水溶液を用いて、該感光性ドライフィルムレジストを洗浄し、その後、加熱により硬化させる。これにより、絶縁安定性に優れるプリント配線板を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、半導体素子の微細パターン形成方法に関する。
【解決手段】より具体的には被食刻層が備えられた基板上に第1〜第3のマスクパターンからなる積層パターンを形成する段階と、前記第3のマスク膜を食刻バリアに利用して第2のマスクパターンを側面食刻する段階と、前記第3のマスクパターンを除去する段階と、前記第2のマスクパターンの上部を露出するスピンオンカーボン層を形成する段階と、前記スピンオンカーボン層を食刻バリアに利用して被食刻層を露出させる段階と、前記スピンオンカーボン層を除去する段階とを含む半導体素子の微細パターン形成方法に関する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、耐傷性と画質に優れた感光性組成物を提供することを課題とする。もう一つの課題としては、耐傷性、画質及び耐刷性に優れた感光性平版印刷版を提供する事である。
【解決手段】(1)平均繊維径1μm以下であるセルロース繊維を含有する事を特徴とする感光性組成物。(2)支持体上に、平均繊維径1μm以下であるセルロース繊維を含有する画像形成層を有する事を特徴とする感光性平版印刷版。 (もっと読む)


【課題】第一のレジスト膜上に第一のレジストパターンを形成した後、第一のレジストパターンの上に第二のレジスト膜を形成し第二のレジストパターンを形成するために、第一のレジストパターンに対して化学的な処理を行って第二のレジスト液に溶解しないように性状を変化させるフリージングプロセスにおいて、第一のレジストパターンが第二のレジスト液に溶解せず、第一のレジストパターンの寸法が変化しない、更には、第一のレジストパターンと第二のレジストパターンのドライエッチング耐性が同じであるという要件を満たすように、第一のレジストパターンに対して化学的な処理を行う為のフリージングプロセス用の表面処理剤及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】多価アルコール化合物を含有するパターン形成用表面処理剤、及び、当該表面処理剤を用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィ限界以上のピッチを有する微細パターンを形成することができる方法を提供する。
【解決手段】半導体素子の微細パターン形成方法に関し、被食刻層が形成された半導体基板上に第1フォトレジスト組成物を塗布して第1フォトレジスト膜を形成する段階と、前記第1フォトレジスト膜に露光及び現像工程を行って第1フォトレジストパターンを形成する段階と、前記結果物上に前記第1フォトレジストパターンと非反応性の第2フォトレジスト膜を形成する段階と、前記第2フォトレジスト膜に露光及び現像工程を行って前記第1フォトレジストパターンの間に第2フォトレジストパターンを形成する段階とを含む。 (もっと読む)


【課題】pH2.0〜10.0の水性現像液で非画像部が良好に除去され、かつ画像部に優れた耐刷性を付与することのできる画像形成方法を提供すること。pH2.0〜10.0の水性現像液での現像工程を経て作製されるとともに、耐刷性に優れた平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】 酸基の少なくとも一部を塩の形で含有するバインダーポリマーを含む感光層を有する画像記録材料を露光した後、pHが2〜10の現像液の存在下、非画像部の感光層を除去し、続いて、さらに該現像液よりも酸性の処理液で画像部の感光層を処理することを特徴とする画像形成方法および平版印刷版の作製方法。 (もっと読む)


【課題】pH2.0〜10.0の水性現像液で非画像部が良好に除去され、かつ画像部に優れた耐刷性を付与することのできる画像形成方法を提供すること。pH2.0〜10.0の水性現像液での現像工程を経て作製されるとともに、耐刷性に優れた平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】酸基の少なくとも一部を塩の形で含有するバインダーポリマーを含む感光層を有する画像記録材料を露光した後、pHが2〜10の現像液の存在下、非画像部の感光層を除去し、続いて、さらに二価以上の陽イオンを含む処理液で画像部の感光層を処理することを特徴とする画像形成方法および平版印刷版の作製方法。 (もっと読む)


【課題】露光・現像の処理後に後露光処理を行う平版印刷版の作製方法において、露光により発生した感光層中のラジカルを失活化させる作用をもつ空気中の酸素による重合阻害の影響を抑制し、高感度で、未露光部と露光部の耐水性のディスクリミネーションを向上させ、耐刷性に優れた平版印刷版の作製方法及び該方法により作製された平版印刷版を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、(A)増感色素、(B)ラジカル重合開始剤、(C)ラジカル重合性化合物および(D)バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、レーザー露光した後、前記保護層および非露光部の感光層を除去する現像処理をし、続いて、平版印刷版の表面に残っている感光層露光部の上を液体の層で覆い、ラジカル重合を起こさせる波長の光で全面露光を行うことを特徴とする平版印刷版の作製方法及び該方法により作製された平版印刷版。 (もっと読む)


【課題】近年普及してきている高感度プレートから製版された平版印刷版において、画像層にダメージを与えずに版面に付いた汚れを充分に除去し、かつ耐刷性を向上させることができる版面処理手段を提供する。
【解決手段】平版印刷版の版面を版面洗浄剤で処理する版面処理方法であって、該平版印刷版が、支持体上に、赤外線吸収剤を含有する画像記録層と、無機質の層状化合物を含有する保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を画像形成することによって得られた平版印刷版であり、該版面洗浄剤が大豆から抽出された皮膜形成性を有する多糖類を含有する乳化型版面洗浄剤である、平版印刷版の版面処理方法。 (もっと読む)


【課題】ウェハ等の基板に塗布液を塗布する際の基板の回転数を制御するために、基板に対するフォトリソグラフィー処理を行うシステムを停止させることなく、基板の生産性を向上させる。
【解決手段】塗布現像処理システム1内に設置されたパターン測定装置20内において、スキャトロメトリー法を用いてウェハW上に形成されたパターンの高さHを測定する。測定されたパターンの高さHは制御部130に出力され、この測定結果に基づいて、制御部130内でレジスト塗布装置40内のウェハWの回転数を算出する。算出されたウェハWの回転数はレジスト塗布装置40チャック駆動機構142に伝達され、スピンチャック141を介してウェハWの回転数が制御される。 (もっと読む)


【課題】耐傷性及び現像処理後のフィニッシングガム塗布面状に優れた平版印刷版原版の製造方法を提供すること。
【解決手段】支持体上にノボラック樹脂と相溶しない水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する下層用塗布液を用いて下層を塗設した後、該下層上にノボラック樹脂とスルホニウム塩と有機溶媒とを含有するポジ型記録層用塗布液を用いてポジ型記録層を塗設する平版印刷版原版の製造方法であって、前記ポジ型記録層用塗布液が、前記下層を1分間に0.12〜0.17g/mの速度で溶解する液であることを特徴とする平版印刷版原版の製造方法。 (もっと読む)


【課題】基板上に形成されたパターンをマスクとしてエッチングを行うパターン形成方法において、パターン表面に、低温で、耐エッチング性が高い金属酸化物膜を、パターン表面に選択的に形成するために好適に用いられる下層膜形成用材料、積層体およびパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板と、加水分解により水酸基を生成し得る金属化合物(W)が溶剤(S)に溶解してなる膜形成用材料を用いて形成される金属酸化物膜との間に下層膜を形成するための下層膜形成用材料であって、多環式の炭化水素環を有し、該炭化水素環の環上の少なくとも1つの炭素原子が主鎖を構成する構成単位(a)を有し、前記金属化合物(W)と反応する官能基を有さず、かつ前記溶剤(S)に溶解可能な樹脂(A1)を含有することを特徴とする下層膜形成用材料。 (もっと読む)


【課題】選択的に塗布膜を形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板10上の一部に撥水性樹脂からなる第1の塗布膜60を選択的に形成し、半導体基板10の上に塗布剤を塗布して、第1の塗布膜60が選択的に形成された領域を除いた半導体基板10上に第2の塗布膜62を選択的に形成することを含む。 (もっと読む)


【課題】本発明により、アルミニウム支持体、感光層、および保護層を含むCTP用平版印刷版材およびその製造方法、並びに上記印刷版材から印刷版を製造する方法およびそれによって製造される印刷版を提供する。
【解決手段】本発明は、アルミニウム支持体、該アルミニウム支持体上に形成された感光層、および該感光層上に形成された保護層を含むCTP用平版印刷版材であって、該感光層が、エチレン性不飽和化合物、アルカリ可溶性樹脂、近赤外吸収色素、ハロメチル基含有化合物および有機ホウ素アニオン含有化合物を含有する感光性樹脂組成物から形成され、該保護層が、水溶性またはアルカリ可溶性樹脂を含有する保護層用樹脂組成物から形成されることを特徴とするCTP用平版印刷版材に関する。 (もっと読む)


【課題】高感度で、セーフライト適性に優れた平版印刷版原版をpH2.0〜10.0の水性現像液で現像する製版方法及び平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、(A)350〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素、(B)特定構造のチタノセン化合物、(C)重合性化合物、および(D)疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、350〜450nmのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去する。 (もっと読む)


【課題】基板との密着性に優れ、所望の領域に種々の機能性材料を付与することで、安価な装置を用いて簡易に機能性パターンを形成しうるグラフトパターンの形成方法、及び、基板との密着性と導電性に優れた導電性パターンを安価な装置を用いて簡易に形成しうる導電性パターン形成方法を提供する。
【解決手段】露光によりラジカルを発生しうる基材表面上に、ラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させ、360nm〜700nmの波長のレーザにより像様露光して、該基材表面上に基材と直接結合したグラフトポリマーをパターン状に生成させることを特徴とするグラフトパターン形成方法である。ここで形成されたグラフトポリマー生成領域に導電性を付与することで導電性パターンを形成しうる。 (もっと読む)


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