【課題】簡単に、高アスペクト比のレジストパターンを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】マスクパターン層ＭＰを含む土台ユニットＵＴに対し、マスクパターン層ＭＰ上に、ドライフィルムＤＦ２を被せ、ガラス基板１１の裏面１１ｒからの露光によるフォトリソグラフィー法で、ドライフィルムＤＦ２を第１レジストパターンＲＰ１だけに重なるように残す。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光によるリソグラフィ工程において、アウトガスの発生を抑制し、かつ製造コストの低減を図る。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、基板１０上に減圧又は真空雰囲気下においてアウトガスを発生する膜１１及び１２を形成する工程と、前記膜上に前記膜が露出しないように、減圧又は真空雰囲気下において前記膜よりも単位面積あたりのアウトガスの発生量が少ないレジスト膜１３を形成する工程と、前記レジスト膜に対してＥＵＶ（Extreme Ultra Violet）光によるパターン光を照射し、前記レジスト膜を露光する工程と、前記レジスト膜を現像する工程と、前記レジスト膜及び前記膜、又は前記膜をマスクとして前記基板を加工する工程と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を使用したレジストパターニング工程におけるパターニング性に優れる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置の製造方法は、半導体ウェーハ１０上に第１の反射防止膜１１を形成する工程と、第１の反射防止膜１１上に第２の反射防止膜１２を形成する工程と、第２の反射防止膜１２上にレジスト膜１３を形成する工程と、レジスト膜１３を選択的に露光する工程と、この露光後にレジスト膜１３及び反射防止膜１１、１２を現像する工程と、この現像により得られたレジスト膜１３のパターンをマスクに半導体ウェーハ１０に対する処理を行う工程とを備え、第１の反射防止膜１１の感光剤濃度は第２の反射防止膜１２の感光剤濃度よりも高い。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリクスの遮光性を向上させながらも、パターン形状の悪化がなく高精細化が可能な黒色アルカリ現像型感光性樹脂組成物と、それを用いたカラーフィルタ及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】（イ）カーボンブラック、(ロ)バインダー樹脂、（ハ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、（ニ）光重合開始剤、（ホ）溶剤からなる黒色アルカリ現像型感光性樹脂組成物において、固形分中における（イ）カーボンブラック含有量ａと（ロ）バインダー樹脂含有量ｂの割合が、ｂ／ａ＝０．５０〜０．７５の範囲となる。 （もっと読む）

【課題】凹凸の大きい遮光性レリーフ層を有するフォトマスクに適用する場合であっても、表面平滑性に優れた透明保護膜を形成しうるフォトマスク用ハードコート組成物、該組成物を用いてなるハードコート層を有するフォトマスクを提供すること。
【解決手段】重合性化合物（Ａ）と、フッ素含有化合物及び／又はシリコン含有化合物（Ｂ）と、重合開始剤（Ｃ）と、を含有し、フッ素含有化合物及び／又はシリコン含有化合物（Ｂ）の含有量が組成物の総量に対して０．１質量％〜３．０質量％である、紫外線硬化型或いは熱硬化型のフォトマスク用ハードコート組成物、並びに、パターニングしてなる遮光性レリーフ層上に、前記フォトマスク用ハードコート組成物を塗設してなるハードコート層と、を有するフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】隔壁で仕切られた領域に有機層を形成するアクティブ駆動型有機ＥＬ表示装置において、電極の断線がなく、高解像度の画像に対応出来ると共に、発光強度の経時的低下を抑制出来るアクティブ駆動型有機ＥＬ素子を得るための隔壁用感光性組成物、およびその隔壁用感光性組成物を用いて形成された隔壁を有するアクティブ駆動型有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、およびアルカリ可溶性バインダーを含有し、アクティブ駆動型有機電界発光素子の有機層を区画する断面順テーパ状撥液性隔壁を形成するために用いられる隔壁用感光性組成物であって、エチレン性不飽和化合物として、９，９−ビス（４’−ヒドロキシフェニル）フルオレン型のヒドロキシ化合物あるいはそのエポキシ化化合物に不飽和カルボン酸あるいはそのヒドロキシアルキルエステルを反応させて得られる反応生成物を含有し、且つ、膜厚２μｍの塗膜におけるパターン露光用の光に対する吸光度が０．５以下であることを特徴とするアクティブ駆動型有機電界発光素子の隔壁用感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】隔壁で仕切られた領域に有機層を形成するアクティブ駆動型有機ＥＬ表示装置において、電極の断線がなく、高解像度の画像に対応出来るアクティブ駆動型有機ＥＬ素子を得るための隔壁用感光性組成物、およびその隔壁用感光性組成物を用いて形成された隔壁を有するアクティブ駆動型有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、アルカリ可溶性バインダー、および撥液剤を含有し、アクティブ駆動型有機電界発光素子の有機層を区画する断面順テーパ状撥液性隔壁を形成するために用いられる隔壁用感光性組成物であって、撥液剤が架橋性基及びカルボキシル基を有するフッ素系化合物であり、且つ、膜厚２μｍの塗膜におけるパターン露光用の光に対する吸光度が０．５以下であることを特徴とするアクティブ駆動型有機電界発光素子の隔壁用感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】隔壁で仕切られた領域に有機層を形成するアクティブ駆動型有機ＥＬ表示装置において、電極の断線がなく、高解像度の画像に対応出来るアクティブ駆動型有機ＥＬ素子を得るための隔壁用感光性組成物、およびその隔壁用感光性組成物を用いて形成された隔壁を有するアクティブ駆動型有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、アルカリ可溶性バインダー、および撥液剤を含有し、アクティブ駆動型有機電界発光素子の有機層を区画する断面順テーパ状撥液性隔壁を形成するために用いられる隔壁用感光性組成物であって、アルカリ可溶性バインダーが側鎖にエチレン性不飽和基を有するものであり、撥液剤がフッ素系化合物であり、且つ、膜厚２μｍの塗膜におけるパターン露光用の光に対する吸光度が０．５以下であることを特徴とするアクティブ駆動型有機電界発光素子の隔壁用感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、形状保持性に優れ、かつ優れた現像性を有する感光性樹脂組成物およびそれを用いた接着フィルム、受光装置を提供することにある。
【解決手段】 本発明の感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂と、親水性基を有する第１光重合性化合物と、第１光重合性化合物と異なる第２光重合性化合物と、熱硬化性樹脂と、を含むことを特徴とする。また、本発明の接着フィルムは、上記に記載の感光性樹脂組成物で構成されることを特徴とする。また、本発明の受光装置は、半導体素子搭載基板と、前記半導体素子搭載基板と対向する位置に配置される透明基板と、前記半導体素子基板と前記透明基板との間に形成される間隙を規定するためのスペーサーとを備え、前記スペーサーが、上記に記載の感光性樹脂組成物の硬化物であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ゲル化することなく、現像性に優れ、且つ、硬度、はんだ耐熱性、耐薬品性、密着性、ＰＣＴ耐性、無電解金めっき耐性、白化耐性、電気絶縁性、可撓性などの特性に優れる硬化膜を形成できる硬化性組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】（Ａ）４種類の特定構造単位から成り、酸価が２０〜１３１ｍｇＫＯＨ／ｇ、エポキシ当量が３０００ｇ／ｅｑ．以上で、且つ有機溶剤に可溶であることを特徴とするカルボキシル基含有ノボラック型樹脂、（Ｂ）感光性（メタ）アクリレート化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有することを特徴とするアルカリ現像可能な硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】 現像性が良好で、十分に高い感光特性を有し、かつ硬化膜の接着強度及び信頼性に優れた感光性接着剤組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び被接着部材の接着方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）下記一般式（１）で表わされるポリベンゾオキサゾール前駆体と、（Ｂ）分子内にエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）エポキシ樹脂と、を含む感光性接着剤組成物。
【化１】


（一般式（Ｉ）中、Ｕ又はＶは２価の有機基を示し、Ｕ又はＶの少なくとも一方が炭素数１〜３０の脂肪族鎖状構造を含む基、またはＵ又はＶの少なくとも一方が、一般式（ＩＩ）で表される基（一般式（ＩＩ）中、Ｒ^１、Ｒ^２は、各々独立にトリフルオロメタンであり、ａは１〜３０の整数を示す。）） （もっと読む）

【課題】ビアもしくはトレンチへの埋め込みに好適であり、所望のパターンに基づいた形成が容易であり、エッチング耐性に優れるレジスト下層膜を与えるレジスト下層膜形成用組成物及びこの組成物を用いたデュアルダマシン構造の形成方法を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜形成用組成物は、（Ａ）アリール基を有する重合体、（Ｂ）アセチレン基を有する界面活性剤、及び、（Ｃ）溶剤を含有する。更に、（Ｄ）酸発生剤、（Ｅ）架橋剤等を含有することができる。 （もっと読む）

【課題】永久膜として使用される感光性熱硬化性樹脂組成物において、パターン形成後、加熱接着時の流動性に優れ、接着性が良好な樹脂層を形成できる技術を提供すること。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基又はカルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）キノンジアジド基を有する化合物と、（Ｃ）（ｃ１）アルキルエーテル化したアミノ基を有する化合物、（ｃ２）エポキシ樹脂および（ｃ３）オキセタン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の架橋剤を含有するポジ型感光性接着剤組成物を基板に塗布し、プレベークした後、選択的に露光し、次いでアルカリ現像してレジストパターンを形成し、さらに加熱または露光した後、前記基板のレジストパターン形成面に被着体をプレスすることにより、基板と被着体とを接着させる接着方法。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性、光堅牢性、及び耐熱性に優れた金属粒子含有膜を備え、種々の波長に対する遮光性に優れる遮光材料とその作製方法を提供すること。
【解決手段】基材と、該基材に結合した下記一般式（ｉ）で表されるポリマー、及び、該ポリマーに吸着させた金属イオン又は金属塩中の金属イオンを還元してなる金属粒子を含有する金属粒子含有膜と、を有する遮光材料、並びにその作製方法。
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【課題】 ブラックマトリックスのプラズマ処理において、高い親液プラズマ耐性を有するインクジェット法カラーフィルター用ブラックマトリックスを提供する。
【解決手段】 少なくとも色材、バインダー樹脂および溶媒を含むインクジェット法カラーフィルター用ブラックマトリックス形成用組成物であって、該組成物から溶媒を除いた固形分の軟化点が110℃以下であることを特徴とする、インクジェット法カラーフィルター用ブラックマトリックス形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、化学増幅型ネガティブフォトレジストとポジティブフォトレジストとの組み合せによる露光及び現像によりパターンピッチが露光装備の解像度の1/2倍であるマスクパターンを形成するマスクパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係るマスクパターン形成方法の代表的な構成は、基板の上部にネガティブフォトレジスト(Negative Photo Resist)膜を形成する。ネガティブフォトレジスト膜の一部領域を露光する。ネガティブフォトレジスト膜を現像する。ネガティブトーンワーキングフォトレジスト(negative tone working photo resist)膜を含む基板の上部にポジティブフォトレジスト(Positive Photo Resist)膜を形成する。ネガティブトーンワーキングフォトレジスト膜の境界部のポジティブフォトレジスト膜に水素気体が拡散するように基板をベーキング(Baking)する。ポジティブフォトレジスト膜を現像する。 （もっと読む）

【課題】流路などの微小セル構造を積層形成するための１０μｍ以下の大きさの複数のマイクロパターン部材を有するマイクロパターン複合材であって、各層の位置合わせを容易とし、確実に接着することを可能とするマイクロパターン形成用材料を提供する。
【解決手段】マイクロパターン部材５Ａを形成するためのマイクロパターン形成用材料であって、第１のトリガーが部分的に与えられることにより部分的に硬化し、かつ部分的に硬化した部分以外の部分が除去された後に、第１のトリガーとは異なる第２のトリガーが与えられることにより硬化し、かつ接着性を発現するマイクロパターン形成用材料。 （もっと読む）

【課題】
現像処理した後ウエハ周辺部を、現像液やイソプロピルアルコールのようなアルコール類の溶剤でリンスしても、ウエハ周辺部に異物が付着している。
【解決手段】
半導体装置の製造方法は、被加工層を有する半導体ウエハの表面上方に、周辺部を除いて、レジスト膜を塗布し、塗布したレジスト膜にパターンを露光し、潜像を形成し、潜像を形成したレジスト膜を現像し、現像後の半導体ウエハの周辺部にシンナを供給し、クリーニングした後、現像したレジスト膜を用いて半導体ウエハの被加工層に加工処理を行なう。 （もっと読む）

【課題】高解像性、高密着性を有しつつ、さらに、現像液汚染性及びめっき液耐汚染性が少なく、露光直後のコントラスト性に優れる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）α，β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で１００〜６００、重量平均分子量が５，０００〜５００，０００の熱可塑性共重合体：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５質量％、（ｃ）特定のオキシム化合物からなる光重合開始剤：０．０１〜１０質量％、及び（ｄ）ロイコ染料：０．０５〜１０質量％を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】工程が簡便で、歩留まりが高く、高精度なアスペクト比の高い微細な構造体の形成を可能にする感光性樹脂製の転写層並びに高アスペクト比の構造体を有する成形体を簡便に作成する方法を確立する。
【解決手段】表面に凹凸の設けられた基板と表面に感光性樹脂層が形成された基材とを該凹凸と感光性樹脂層が内側になるように対向させ、次いで、前記基板と感光性樹脂層を圧着させた後、基材を感光性樹脂層から剥離することにより凹凸の設けられた基板上に感光性樹脂製の転写層を形成する方法において、前記感光性樹脂層が多官能エポキシ樹脂及び光カチオン重合開始剤を含有することを特徴とする前記転写層の形成方法、及びこのようにして得られた転写層にフォトリソグラフィーによるパターニングを施すことにより得られる高アスペクト比の構造体を有する成形体。 （もっと読む）