【課題】スジ状の膜厚ムラの発生を抑制することができる光学体を提供する。
【解決手段】光学体は、表面に凹凸面が設けられた光学層と、凹凸面上に設けられた波長選択反射層とを備える。波長選択反射層が、特定波長帯の光を選択的に指向反射するのに対して、特定波長帯以外の光を透過するものである。凹凸面は、光学層の表面内の第１方向に延在された複数の第１構造体と、光学層の表面内の第２方向に延在されると共に、離間して設けられた複数の第２構造体とを備え、第１方向と第２方向とは交差する。 （もっと読む）

【課題】取付面から脱落し難く、取り外しは容易にでき、かつ、取付面との違和感を少なくして見栄えが向上するフレネルミラー及びフレネルミラーの取付構造並びに、これらフレネルミラーを簡便に取外すことができる取外し方法を提供する。
【解決手段】取付面１０の貫通穴または非貫通穴により形成されたミラー取付部１１に、固定部材７によって、フレネルミラー本体２をその厚さの５０％以上を埋入させて取付け、固定部材７の固定力が、平面視でフレネルミラー本体２の中央部よりも少なくとも一端部において高く設定されている取付構造とし、フレネルミラー本体２を取り外す際には、把持部１８を有する取外し治具１７を、フレネルミラー本体２の前面に治具固定部材１９を介して取付け、把持部１８を手で掴んで取外し治具１７をフレネルミラー本体２に取付けた状態のままフレネルミラー本体２の前方側に向かって引っ張る。 （もっと読む）

【課題】集光過程でのエネルギー損失を抑制し、太陽光等の光エネルギーをより効率的に集光可能な集光装置を提供する。
【解決手段】本発明を例示する態様の集光装置１は、第１面１１から入射した光を第２面１２と第１面１１との間で複数回反射させて集光するプリズム状の集光部１０ａを有する集光部材１０と、反射面１６が第２面１２に対向して設けられた反射部材１５とを備える。集光部１０ａは、第１面１１に入射した光が、第２面１２を透過し反射面１６により反射されて第２面１２から集光部に再入射し、この再入射した光が第１面１１で全反射されるように構成される。集光部の頂角αは、再入射した光が第１面１１で全反射される角度範囲における最小値近傍の角度であるように構成される。 （もっと読む）

【課題】タワー式太陽熱発電システムに用いられるような、反射鏡から集熱器までの距離が数十メートルから数百メートルと長距離となる太陽光集光システムにおいても、高い集光効率を得ることができる太陽光集光用ミラー及びそれを用いた太陽光集光システムを提供する。
【解決手段】ミラーのメリジオナル面との交差断面とサジタル面との交差断面の曲率を変えることで、入射角が大きい時でも、ミラー反射部からの反射光束が円形に近づき、非点収差を解消でき、結果的に、集光効率がよい太陽光集光システムを実現することができる。 （もっと読む）

【課題】所定以上の粗面を有する被装飾体を用いた場合であっても、被装飾体の粗面と、プラスチックミラー積層体との間に生じる応力を効果的に吸収し、優れたミラー特性を効果的に発揮できるプラスチックミラー装飾体およびプラスチックミラー装飾体の製造方法を提供する。
【解決手段】被装飾体の表面にプラスチックミラー積層体を備えたプラスチックミラー装飾体およびその製造方法であって、プラスチックミラー積層体が、第１のポリエチレンテレフタレート樹脂シートと、接着剤層と、金属蒸着層と、第２のポリエチレンテレフタレート樹脂シートと、を下方から順次に含むプラスチックミラー積層体であり、かつ、被装飾体と、プラスチックミラー積層体との間に、２５％ひずみ時圧縮応力（ＪＩＳ Ｋ ６７６７に準拠して測定）が１，５００ｋＰａ以下の値であり、厚さ１，０００〜５，０００μｍの範囲内の値である応力吸収層を備える。 （もっと読む）

【課題】簡易な生産設備で製造でき、高い集光性能を備えたミラーとそれを用いた太陽光集光システムを提供する。
【解決手段】フレキシブルミラーＳＬが、ロール状に巻かれたフィルムミラーＦＭを切断して、基板ＳＴの凹状円筒面に貼り付けられることにより形成されているので、安価に大量生産できる。一方、このようなフレキシブルミラーＳＬを用いた場合でも、レンズ１３を通過させることで、集熱部１１には、Ｘ方向及びＹ方向に集光された太陽光を到達させることができ、これにより集光効率を増大できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、金属ミラーの表面におけるレーザ光の光反射率を向上させて、光化学反応におけるレーザ光の利用効率を高めることの可能な金属ミラーの表面の改質方法を提供することを課題とする。
【解決手段】光透過性反応用容器２１を囲むように配置され、かつ光化学反応に用いるレーザ光を反射する金属ミラー１９の表面１９ａの改質方法であって、金属ミラー１９の表面１９ａに、炭酸ガスレーザまたはチタンサファイヤレーザを照射して、金属ミラー１９の表面１９ａをアニーリングするアニーリング工程を有する。 （もっと読む）

【課題】同じ輝度であればより低消費電力な、或いは、同じ消費電力であればより高輝度な液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】薄膜トランジスタが形成されたＴＦＴ基板４０と、ＴＦＴ基板４０に対向する対向基板５０との間に液晶層６０を挟持し、ＴＦＴ基板４０に画素電極ＭＩＴと共通電極ＣＴとが絶縁層ＬＩを介して積層され、画素電極ＭＩＴと共通電極ＣＴのうち、液晶層６０から離れた電極は平面状に形成され、液晶層６０に近い電極は、複数のスリットＳＬを形成され、複数のスリットＳＬの端部が閉じている液晶表示パネル１０と、液晶表示パネル１０の光源となる照明手段２０と、を有する液晶表示装置１において、液晶表示パネル１０は、平面視でスリットＳＬの長手方向の端部、及びその近傍や、スリットＳＬの内側領域と一部が重なる照明装置２０側の面に形成された光を反射する反射手段１００を有してなる。 （もっと読む）

【課題】金属蒸着薄膜から成る光反射層を有するホログラム、または磁気層上にホログラムを設けた磁気カード等のカードにおいて、スパーク発生を防止し、製造上の火災、機械の損傷を防止し、かつホログラムの視認性が良好なものとする。
【解決手段】ホログラム形成層４と反射層５を有するホログラム層３を有する光学素子であって、該ホログラム形成層が、微小凹凸からなる回折構造を有し、該反射層が、平均径８０〜１２０μｍの金属材料からなる島部と該島部の間隔が３０〜６０μｍである海島構造を有する第１反射層６と、該第１反射層を覆うように、平均径０．０２〜１μｍの金属材料からなる島部と該島部の間隔が０．０１〜０．５μｍである海島構造を有する第２反射層７とを有する。 （もっと読む）

【課題】ロール状に席巻したり、二次加工を実施したりすることができ、機械的強度に優れたプラスチックミラー積層体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】厚さが１５０〜８００μｍの第１のポリエチレンテレフタレート樹脂シート１２と、所定厚さの接着剤層１１と、所定厚さの金属蒸着層１０ｂと、所定厚さの第２のポリエチレンテレフタレート樹脂シート１０ａと、を順次に含むプラスチックミラー積層体およびその製造方法であって、第１のポリエチレンテレフタレート樹脂シート１２が、押出キャスティング製法にて製造してなる非結晶性グリコール変性ポリエチレンテレフタレート樹脂シートであって、鏡面エンボスロール成形器により所定の表面粗さとなるよう表面平滑化処理がなされており、かつ、第２のポリエチレンテレフタレート樹脂シート１０ａが、結晶性ポリエチレンテレフタレート樹脂を含むとともに、９０％以上の値の全光線透過率を有している。 （もっと読む）

【課題】ヒートアイランド増長を抑制し、かつ、回折パターンの発生を抑制することができる光学体を提供する。
【解決手段】光学体は、ランダムな凹凸面を有する第１の光学層と、凹凸面上に形成された反射層と、凹凸面を埋めるように反射層上に形成された第２の光学層とを備える。反射層は、入射光のうち特定波長帯の光を拡散反射するのに対して、特定波長帯以外の光を透過する波長選択反射層、または、入射光のうちの一部の光を拡散反射するのに対して、残りの光を透過する半透過層である。 （もっと読む）

【課題】ヒートアイランド増長を抑制し、かつ、回折パターンの発生を抑制することができる光学体を提供する。
【解決手段】光学体は、ランダムな凹凸面を有する第１の光学層と、凹凸面上に形成された反射層と、凹凸面を埋めるように反射層上に形成された第２の光学層とを備える。反射層は、入射光のうち特定波長帯の光を拡散反射するのに対して、特定波長帯以外の光を透過する波長選択反射層、または、入射光のうちの一部の光を拡散反射するのに対して、残りの光を透過する半透過層である。 （もっと読む）

【課題】経済性やミラー特性に優れたプラスチックミラー積層体及びプラスチックミラー積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】第１のポリエチレンテレフタレート樹脂シート１２と、紫外線硬化性樹脂の紫外線硬化物からなる接着剤層１１と、金属蒸着層１０ｂと、第２のポリエチレンテレフタレート樹脂シート１０ａと、を順次に含むプラスチックミラー積層体５０等であって、第１のポリエチレンテレフタレート樹脂シートの表面粗さ（Ｒｚ）を０．２μｍ以下の値、あるいは０．２μｍを超えた値とし、かつ、第１のポリエチレンテレフタレート樹脂シートの表面に、紫外線硬化性樹脂からなる硬化前接着剤層が予め形成してあるとともに、当該硬化前接着剤層を紫外線硬化させて、紫外線硬化物からなる接着剤層としてある。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィシステム等、従来の比較的厚いミラーを採用するように設計された光学システムにおいて、比較的薄い電気鋳造ミラーが使用可能となるようなＥＵＶミラーシステム及び方法。
【解決手段】曲線状の上面２２を有する基板２０と、曲線状の電気鋳造ミラー３０とを備えるＥＵＶミラーモジュール１０が開示される。自己調整接着材料４０は、基板２０と電気鋳造ミラー３０との間に配置されている。この接着材料４０は、溶融温度で流動可能であり、基板２０と電気鋳造ミラー３０との間の領域を形状に合わせて充填され、基板２０と電気鋳造ミラー３０とを接着するように自己調整を行なう。基板２０は、ミラーモジュール１０を冷却するために、少なくとも一つの冷却チャネルを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】 特定の波長領域の光を選択的に指向反射する一方、その波長領域外の光を透過させる光学機能性フィルムなどとして好適な機能性積層体であって、外力や温度変化による膨張収縮などによって損なわれにくい機能性積層体、及びその機能性積層体を備えた機能性構造体を提供すること。
【解決手段】 機能性積層体として、所定の立体的形状に形成された無機物層を含有する機能性層１と；機能性層の２つの主面のそれぞれに密着し、機能性層１を狭持するように配置された第１の樹脂層２および第２の樹脂層３と；第１の樹脂層２の、機能性層１と接している面とは反対側の面、および第２の樹脂層の、機能性層１と接している面とは反対側の面にそれぞれ接して配置され、第１の樹脂層および前記第２の樹脂層に比べ弾性率が大きい、第１の支持体及び第２の支持体とを有する機能性積層体を形成する。 （もっと読む）

【課題】高温で反射性を維持する反射性物品を提供する。
【解決手段】基材（２０）、反射金属層（３０）及び基材と反射金属層との間にヘイズ防止層（４０）を含んでなり、この基材（２０）は、約１４０℃以上の熱変形温度、１．７ｇ／ｍＬ未満の密度、及びＡＳＴＭ Ｄ４５２６に従って測定して１０００ｐｐｍ未満の有機揮発分含量を有する非晶質熱可塑性樹脂を含み、またヘイズ防止層（４０）は、１×１０^−４Ωｃｍ以上の体積抵抗率及び約３×１０^５ｐｓｉ以上の引張弾性を有する物質を含む。 （もっと読む）

【課題】魔鏡の製造方法には、レーザー加工方法などのさまざまな方法が知られている。しかしながら、従来の方法には材料の厚み、意匠模様、焦点距離等が制限される欠点があった。また、熟練した職人の手による研磨などの工程を必要であった。
【解決手段】金属板の鏡面加工した面の反対面にフォトエッチング法などにより、所定の模様の凹凸を形成させる。その後、プレス加工により鏡面加工した面が凸になるように金属板に曲面を付ける事により、表面に肉眼では可視不可能な微細な凹凸を付けることにより、魔鏡とする。このときの曲面の角度によって投影される意匠模様の焦点距離を変える事が出来る。本体を湾曲させ表面の中に凸面の模様を、曲面を出す事によって作り出し平面の焦点距離の中に凸面の模様を他の部分より暗い影を像として現れるようにする。その事により、細い線での細かい模様から、太い線での模様などさまざまな表現が可能となった。 （もっと読む）

【課題】光を上空に効率良く戻すことができる光学体を提供する。
【解決手段】光学体は、帯状の形状を有するとともに、光が入射する入射面を有する光学層と、光学層内に形成された、コーナーキューブ形状を有する反射層とを備える。反射層は、入射角（θ、φ）で入射面に入射した光を指向反射し、コーナーキューブの稜線の方向が、帯状の光学層の長手方向と略平行である光学体である。（但し、θ：入射面に対する垂線ｌ₁と、入射面に入射する入射光または入射面から出射される反射光とのなす角、φ：コーナーキューブの稜線と、入射光または反射光を入射面に射影した成分とのなす角） （もっと読む）

【課題】反射率および耐熱性に優れた電子部品を提供する。
【解決手段】電子部品１０は、基板１１と、基板１１上に形成された高反射性の金属薄膜層１２と、金属薄膜層１２上に形成されたＳｎＯ_２系の保護層１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】より容易にマイクロミラーアレイ基板を製造すること。
【解決手段】基板３上に配列させた金属柱２２を封止膜２３で被覆し、封止膜２３と金属柱２２の表面が略面一となるように研削して、封止膜２３の表面から金属柱２２の上端面２２ａを露出させる際、その上端面２２ａを研磨して鏡面加工を施し、光反射面２として形成することにより、マイクロミラーアレイ基板１Ａのミラー面に複数の光反射面２を一括して形成することを可能にした。 （もっと読む）