【課題】 光導波路型のホログラム記録媒体において、参照光を伝播させる記録層の選択にあたって従来のメカニカルな可動部を不要とする。
【解決手段】各記録層（２１〜２４）には参照光Ｂ１を光導波路（コア層２）に結合するためのグレーティング５が設けられ、コア層２が外部電界に応じて屈折率が変化するエレクトロリフラクティブ材料により構成され、また各記録層の各々を挟み込むようにして透明電極層（２５〜２９）が設けられている。駆動電圧が印加されない状態での各層の屈折率を同一とすることで、各層にてグレーティング５は光学的に顕在化せず参照光Ｂ１はいずれの記録層にも伝播しない。駆動電圧が印加された記録層でのみコア層２の屈折率が上昇してグレーティング５が顕在化し、駆動電圧を印加する記録層を選択することで、参照光Ｂ１を伝播させる記録層を選択することができる。これにより、従来のメカニカルな可動部は省略できる。 （もっと読む）

【課題】 精度のよいリッジ型構造の加工が可能な光導波路デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】 （ａ）強誘電体材料からなる第一基体１１に、リッジ型構造形成面１６を加工する工程、（ｂ）第一基体材料より屈折率の小さい材料が第一基体のリッジ型構造形成面１６と接するようにして、第一基体１１のリッジ型構造形成面側に固着される第二基体１２を設ける工程、（ｃ）第一基体のリッジ型構造形成面１６とは反対側である裏面を薄片化処理して、薄片化処理面１７を形成する工程、により、先にリッジ型構造を形成した後に、薄片化処理を行うようにする。 （もっと読む）

【課題】光配線中の自由な位置に光路変換のためのミラー等の光素子が配置された光・電気配線基板を提供し、ダイシングソーなどを用いずに精度のよいミラーが搭載された光・電気配線基板を形成し、作製工程を簡略化することを課題とする。
【解決手段】電気配線３を有する基板４と、基板の少なくとも一方の面に位置する光配線層５と、光素子搭載のために光配線内に設けた孔部６と、孔部に搭載した、例えばミラーからなる光素子７を有する。孔部は、レーザ加工やドライエッチングによって形成し、孔部の断面形状は、５回以上の回転対称性を持たないようにする。 （もっと読む）