【課題】 光導波路を開発する。
【解決手段】 下部クラッド層（Ａ）と、コア層（Ｂ）と、上部クラッド層（Ｃ）で構成される光導波路であって、上部クラッド層（Ｃ）が、熱可塑性樹脂、軟化温度が０℃〜３００℃の範囲である活性エネルギー線硬化型樹脂組成物であって、下部クラッド層（Ａ）及び上部クラッド層（Ｃ）とコア層（Ｃ）の屈折率差が０．１％以上であって、上部クラッド層（Ｃ）を形成する合成樹脂シートの軟化温度が、コア層（Ｂ）を形成する樹脂層の軟化温度よりも低い温度であることを特徴とする光導波路。 （もっと読む）

【目的】光電気混載基板の製造において電気回路配線と光導波路の相互の位置あわせを容易にし、また電気回路配線を設計するさいに光銅波路の設計の負担を軽減し、電気回路配線の設計自由度を高める光電気混載用基板を提供する。
【構成】基板面に平行な面内の少なくとも一部に、複数のコアがクラッドを介して並列に配置されていて、各コア近傍にはコアを特定するための識別符号が形成されていることを特徴とする光回路用基板であり、またこの光回路用基板に光の入出部を形成する工程を含む光回路基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 光接続損失を小さく抑えつつ、構造が簡単・小型で、高感度、温度依存性がなく、製造コストの安い、変位や振動、加速度等を計測できる光導波路型センサー。
【解決手段】 基板４上に３個の透明ブロック１〜３が相互に端面を近接した状態で並列されてなり、両側の透明ブロック１、３は基板４上に固定され、中央の透明ブロック２は基板に弾性部材５を介して固定されており、各透明ブロック１〜３内に横断するように光導波路１１〜１３が形成されており、静止状態において隣接する透明ブロック１〜３の光導波路１１〜１３が相互に接続状態にされている光導波路型センサー１０。 （もっと読む）

【課題】基板と素子、素子と光導波路の位置合わせが容易で、薄型化が可能で歩留まりの良い光導波路形成基板を提供すること。
【解決手段】本発明の光導波路形成基板の製造方法は、基板２の開口２５に、基板２より厚さが厚い素子１をその上面側が開口２５から突出するように挿入する工程と、基板２の下面側に導体層３を形成し、素子１の下面側の端子１０５を導体層３の所定部位に電気的に接続する工程と、基板２の上面側の素子１を除く部分に接着層７および絶縁層６を介して導体層５を形成する工程と、素子１の上面側の端子１０３をワイヤ８にて導体層５の所定部位に電気的に接続する工程と、導体層５上および素子１の上面上に光導波路またはその一部（例えばクラッド層９１）を形成する工程とを有する。前記導体層５の形成は、その上面が素子１の上面とほぼ同一面を形成するように行われる。 （もっと読む）

【課題】 高精度かつ高集積な光導波路をリソグラフィ技術のみで精度良く製造する方法及びそれに用いる露光マスクを提供すること。
【解決手段】 光入出射面２、３が斜面形状に形成されたコア４と、クラッド５とからなる光導波路１を製造するに際し、コア４の成形に用いる感光材９の露光に用いられるグレートーンマスク６において、コア４に対応する主パターン開口７を複数隣接して配列し、この配列方向における主パターン開口７間に、ダミーパターン開口８を形成し、これによって前記配列方向における主パターン開口７及びダミーパターン８開口を含む各パターン開口間の間隔を均一化し、このグレートーンマスク６を用いて感光材９を露光し、この露光された感光材９の現像で得られたマスクを用いてコア４の成形型を作製する、光導波路１の製造方法、及びそれに用いる露光マスク６。 （もっと読む）

【課題】 歩留りの向上および特性の安定化を図ることが可能な小型可変分波器を提供する。
【解決手段】 小型可変分波器は、ベース媒体としてのＳｉＯ₂層２と、導波路アレイと、外部屈折率変調手段としてのヒータ４、ヒートシンク５とを備える。導波路アレイはＳｉＯ₂層２上に配置される。導波路アレイは、複数の導波路としてのＳｉ細線導波路３からなる。ヒータ４およびヒートシンク５は、導波路アレイにおいて、Ｓｉ細線導波路３の延びる方向と垂直な方向に、複数のＳｉ細線導波路３の間で可変な屈折率勾配を形成する。Ｓｉ細線導波路３は、Ｓｉ細線導波路３の延びる方向において１次元フォトニック結晶構造を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、少ない活性エネルギー線の照射量で硬化することで、低コストで量産性に優れた製造に適した、光導波路用材料、それを用いた光導波路を提供することである。
【解決手段】スルホニウムカチオンと下記一般式（１）で表されるボレートアニオンとを含んでなり、波長３６５ｎｍのモル吸光係数が、５００から２５０００の範囲である酸発生剤（Ａ）、および、カチオン重合性化合物（Ｂ）を含んでなる光導波路形成用材料。 （もっと読む）

【課題】光導波路アレイを構成するリッジ型の光導波路の延伸方向と直交する方向の強度を高める。
【解決手段】光導波路アレイ１０３は、複数本のリッジ型の光導波路１３５，１３６が、その延伸方向（Ｘ方向）と直交する方向（Ｙ方向）に、所定間隔をもって並べて配置されている。Ｘ方向に間隔ｄ1をもって、各光導波路１３５，１３６と隣接する他の光導波路を接続する補強梁部１３８を設ける。補強梁部１３８は、Ｙ方向に延びるものであり、かつ光導波路１３５，１３６と同一材質のものとされている。補強梁部１３８ａを設けることで、光導波路１３５，１３６のＹ方向の強度が高まり、物理的外乱に強いものとなる。補強梁部１３８を光導波路１３５，１３６と同一材質のものとすることで、当該補強梁部１３８を光導波路１３５，１３６と同一のプロセスで同時に形成でき、製造が容易となる。 （もっと読む）

【課題】
光伝搬損失を大きくすることなく導体パターンを形成することができる光電気混載基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
離型基材１上に金属箔２が形成されてなる金属転写シート４の前記金属箔２上にアンダークラッド層３を形成し、前記アンダークラッド層３上にコア層５を形成し、前記コア層５上にオーバークラッド層６を形成した後、前記離型基材１を前記金属箔２から剥離し、前記金属箔２をエッチングすることにより、所定の導体パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】有機電界発光素子や液晶表示素子などにおけるＴＦＴ基板用平坦化膜や半導体素子の絶縁膜、光導波路のコアやクラッド材などの光学材料などとして透明性、耐熱性に優れた硬化膜、および感度に優れたパターン硬化膜形成が可能なネガ型感光性樹脂組成物を得ること。
【解決手段】（ａ）シロキサンポリマー、（ｂ）露光により酸または塩基を発生し、（ａ）のシロキサンポリマーを架橋させる化合物する化合物、（ｃ）熱処理により気化する、および／または光退色反応する増感剤を含有する組成物の硬化膜が、膜厚１μｍあたりの波長４００ｎｍでの光透過率が９８％以上であり、パターン形成に必要な最低露光量が１０〜１０００Ｊ／ｍ^２（波長３６５ｎｍでの露光量換算）を有するネガ感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】可視波長領域に吸収がなく、カドミウムや砒素等の有害な物質を用いることなく、簡単な方法により製造することが可能となる屈折率周期構造を備えた光学素子の製造方法および光学素子を提供する。
【解決手段】前記屈折率周期構造の母材に電磁波または電子線の照射もしくは加熱によって屈折率が変化するアルカリハライドを用い、該母材に紫外レーザ光線あるいは電子線を強度変調して照射することにより、それらの照射強度に応じた屈折率の異なる領域を有する２次元周期構造を前記母材に形成する、周期構造形成工程を有する構成とする。また、この２次元周期構造を構成するパターンの一部を変更し（図３（ａ））、光導波路（図３（ｂ））を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 フォトニック結晶を用いて構成されるアイソレータを提供する。
【解決手段】 特定の物質中に誘電率が異なる物質を周期的に配列したフォトニック結晶誘電体複合物質と、周期構造を持たない高誘電率誘電体物質と、周期構造を持たない低誘電率誘電体物質とを用いて構成されるものであり、電磁波の入力端４側から出力端５側に向かって、フォトニック結晶複合物質からなる入力側フォトニック結晶部分６と、高誘電率誘電体物質からなる入力側結晶欠陥部分７と、フォトニック結晶誘電体複合物質からなる中間フォトニック結晶部分８と、低誘電率誘電体物質からなる出力側結晶欠陥部分９と、フォトニック結晶誘電体複合物質からなる出力側フォトニック結晶部分１０とが順次配置され、中間フォトニック結晶部分８の、入力端４側から出力端５側までの長さは、周期構造におけるほぼ１周期分の長さに相当するようにされる。 （もっと読む）

【課題】 実装時における個々のケースに応じた設計、製造の必要をなくして、製品化までのリードタイムを短縮し、かつ、コストの低減を図ることができる光導波路およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 クラッド層１とコア層２とを含み、コア層２を介して信号光を入射−伝播−出射する光導波路１０である。コア層２の少なくとも一部が、格子状に形成されている。クラッド層が下部クラッド層１と上部クラッド層とからなる上記光導波路の製造方法である。下部クラッド層１の塗工後に、塗工された下部クラッド層１に対し凹凸パターンが形成されたモールドをプレスして、凹凸パターンを下部クラッド層１表面に転写することにより下部クラッド層１に溝部を形成し、溝部内にコア層２を塗工する。 （もっと読む）

【課題】小型かつ高性能にして多チャンネルの光導波路を容易に製造可能な光導波路の製造方法を提供する。
【解決手段】溝付き部材１の溝形成面上に適量の紫外線硬化樹脂３を滴下する。溝付き部材１の表面部分１ｂと板状部材２の遮光部２ａとを対向に配置させて、溝付き部材１の溝形成面と板状部材２の遮光部形成面との間で紫外線硬化樹脂３を展伸し、溝１ａ内に紫外線硬化樹脂３を充填する。次に、板状部材２の外面から所定波長の樹脂硬化光４を照射して、溝１ａ内に充填された紫外線硬化樹脂３のみを選択的に硬化し、板状部材２の剥離後、未硬化の紫外線硬化樹脂３を除去する。最後に、溝付き部材１の溝形成面上にコア５を覆うクラッド材の上ハーフ６を被着して、クラッド材１，６の間にコア５が配置された光導波路を得る。 （もっと読む）

【課題】 配線板間の接続のための新たな部品を要することがなく、従って、接続箇所を減らすことができ、これにより製造コストおよび接続損失の低減を図ることができる光導波路およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 クラッド層１とコア層２とを含み、コア層２を介して信号光を入射−伝播−出射する光導波路である。配線板内に配設される実装用導波路部１１と、複数の配線板間、または、配線板と光学素子との間を接続する接続配線用導波路部１２と、からなる。クラッド層が下部クラッド層１と上部クラッド層とからなる上記光導波路の製造方法である。下部クラッド層１の塗工後に、塗工された該下部クラッド層１に対し凹凸パターンが形成されたモールドをプレスして、凹凸パターンを下部クラッド層１表面に転写することにより下部クラッド層１に溝部を形成し、溝部内にコア層２を塗工する。 （もっと読む）

【課題】 コア層の本数が同じ一つの導波路層を有する場合でも、従来に比しより大容量かつ多種の光信号を伝送することができ、これにより省スペース化や高実装密度に対する要請を満足することができる光導波路およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 クラッド層とコア層とを含み、コア層を介して信号光を入射−伝播−出射する光導波路である。コア層１が、少なくとも一部において複数のコア部１ａ、１ｂの集合により形成されている。クラッド層が下部クラッド層２と上部クラッド層３とからなる光導波路の製造方法である。下部クラッド層２の塗工後に、塗工された下部クラッド層２に対し凹凸パターンが形成されたモールドをプレスして、凹凸パターンを下部クラッド層２表面に転写することにより下部クラッド層２に溝部を形成し、溝部内に順次、所定高さで複数のコア部１ａ、１ｂを塗工して、コア層を形成する。 （もっと読む）

本発明は、光導波路デバイスの製造方法及び光導波路デバイスに関し、第１のクラッド層（１）の上に、所定パターンのコア層（２）を形成するとともに、該コア層（２）の一部分を除く領域に、該一部分の特定方向にエッチングレートを変化させるマスクパターンを有するエッチングマスク（５）を形成し、該エッチングマスク（５）をマスクとして該コア層（２）を部分的にエッチングするという極めて簡易な製造工程により、低コストでコア層２に縦型テーパ形状に設けることができる。
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【課題】 光回路内の光導波路から出射された光の少なくとも一部を、基板の上面または下面に配置された光学素子へ光路変換するミラーを含む光回路において、クロストークの劣化を防ぐ。
【解決手段】 基板３１上に形成された石英系ガラス材料からなる光回路であって、光導波路３７の出射方向の光軸上に、光導波路３７を形成するときに異方性堆積を用いて堆積された傾斜面を有し、光導波路３７と光学的に結合する第２の光導波路４０を備え傾斜面に形成された反射膜３８がミラーとなって、基板３１の上面に配置された光学素子４１へ光路変換する。 （もっと読む）

【課題】 進行方向の漏れ光を低減させることが可能な光システム及び光合分波器を提供する。
【解決手段】 本発明による光システム(1)は、光をマルチモードで伝搬可能なマルチモード光導波路(2)と、マルチモード光導波路(2)の光の進行方向(2a)における一方の側(2b)に接続された第１の光導波路(4)と、マルチモード光導波路(2)の光の進行方向(2a)における他方の側(2C)に接続された第２の光導波路(6)及び第３の光導波路(8')とを有する。マルチモード光導波路(2)と第３の光導波路(8')との接続角度(α１)が、マルチモード光導波路(2)と第２の光導波路(6)との接続角度(α２)と異なっている。それにより、第１の光導波路(2)から第２の光導波路(4)に光が伝搬されるときの第１の光導波路(2)から第３の光導波路(8)への漏れ光を低減させる。 （もっと読む）

【課題】基板上に意図どおりの安定な形状を有し、表面粗さの点でも優れた微細パターンの形成方法を提供することを課題とするものである。
【解決手段】基板１２、シリコンアルコキシドのオリゴマーを含む有機／無機複合電離放射線硬化性樹脂組成物からなる成形用層１３、および所望の深さおよび幅の溝からなる成形用パターン１５を有する成形用型１４を重ね、成形用型１４側から電離放射線１７を照射して成形用層を硬化させ、脱型を行ない、その後、加熱、焼成を行なうことにより、微細パターンを形成することができた。 （もっと読む）