【課題】 波長変動や製造プロセス変動に対するトレランスを高める。ハイΔ化しても大型化することのないようにする。平坦化帯域の高帯域化。
【解決手段】 入力光導波路１０１と、出力光導波路１０２と、導波路アレイ１０７と、入力側カプラー導波路１０５と、出力側カプラー導波路１０６と、入力側接続部導波路１０３と、出力側接続部導波路１０４とを有するＡＷＧにおいて、入力側接続部導波路１０３は、０次モード光と1次モード光とを混合させるモード混合部とモード間の干渉を行わせるモード干渉部とを有するモード変換導波路１０８によって構成し、出力側接続部導波路１０４は、テーパ導波路１０９によって構成する。 （もっと読む）

【課題】屈折率が３以下の材料を使用した場合、曲がり導波路においては光路を曲げることができない、分岐導波路においては分岐することができない、仮に光路を曲げたり分岐したりすることが可能であったとしても、ほとんど実用に耐えないものしか実現できないと言った問題点があった。
【解決手段】曲がり導波路あるいは分岐導波路として作用させるために導波路内の曲がり部分・分岐部分に導波路と異なる屈折率を持つ構造物を設ける事を特徴としている。この構造物により曲がり部分・分岐部分の電磁界分布の乱れを低減することにより、低屈折率材料を用いても曲がり導波路および分岐導波路を実現する。 （もっと読む）

【課題】 ゲートデバイスを使用しないで、構成を簡略化かつ小型化し、低損失、高Ｓ／Ｎ比が得られ、かつ低価格の光フィルタを提供する。
【解決手段】 2つのアレイ導波路格子（１３−１．１３−２）の間を、位相調節用の屈折率制御部（１５）を設けた導波路（１４）で接続し、入力側のアレイ導波路格子の入力ポートのうちの２つのポートに2入力２出力の方向性結合器（１２−１）を接続するとともに、出力側のアレイ導波路格子の出力ポートのうちの2つのポートに２入力2出力の方向性結合器（１２−２）を接続する。各波長成分に対して、等価的にマッハツェンダ型干渉計を構成することができ、ゲートデバイスを使用しないで光フィルタを実現できる。 （もっと読む）

【課題】 電気光学効果膜における屈折率を容易且つ正確に制御し、装置の更なる小型化にも対応可能な光学素子を実現する。
【解決手段】 光導波路４のコア層１２において、反強誘電体相転移点に対応した所定電圧を境界としてディジタル的に屈折率が大きく変化し、当該所定電圧の前後で屈折率がほぼ一定値となることを利用して、電圧制御手段６は、当該所定電圧の前後における第１の電圧と第２の電圧との２値で光導波路４における光の屈折率を制御する。 （もっと読む）

第１領域内に第１光モードと、第２領域内に第２光モードとをサポートるシングル・モード導波路（７００）を有する光通信デバイスを開示する。この導波路は、ガイド・レイヤー（７３０）を有し、このレイヤーは、該レイヤー（７３０）から外側に延びる、少なくとも一つのウィング（７５０）を有する。このガイド・レイヤー（７０３）は、該ウィングで断面形状で横切ったリブ導波路（７０６，７０７）を所望で有してもよい。ウィング（７５０）は、ガイド・レイヤーの長さに沿って幅が減少し、該ウィングにおけるリブ導波路モードをチャネル導波路モードに変換する。
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【課題】 簡易な構成で、電波を３次元的に閉じ込めることが可能な導波路を提供する。
【解決手段】 第１の誘電体により、誘電体層２を構成する。また、誘電体層２中の所定の欠陥領域（導波路領域４）を取り囲むようにして、第１の誘電体の誘電率よりも高い誘電率を有する第２の誘電体により、複数の高誘電体柱３を周期的に配列する。さらに、誘電体層２の上下に、一対の導体層５Ａ，５Ｂを設ける。所定の波長領域の電波Ｗ１に対して、誘電体層２の延在方向のみならず、この延在方向と直交する上下方向においても閉じ込めることができる。２次元フォトニック結晶を用い、伝播される波が電波（電波Ｗ１）の場合であっても、その波を３次元的に閉じ込めることができ、導波路領域４を選択的に伝播させることが可能な導波路を得る。 （もっと読む）

【課題】 周期性構造の元型となる微粒子をエッチングなどで除去する際にも、周期性構造物そのものが基板から剥がれ難い光学素子およびその作製方法を提供すること。
【解決手段】 コロイド溶液の毛管力、微粒子の自己組織化を利用して微粒子からなる周期性構造物（微粒子膜）を作製した後、微粒子間を光硬化型樹脂（またはチタニアナノ粒子）Ａにより充填し、その後のシリカ除去により、空隙３の周期構造を得る。本発明では、シリコン基板１の溝１１による定着部分４が存在するため、光硬化型樹脂Ａはシリコン基板１から外れずに固定される。アンカーボルトの役割を果たすためのシリコン基板１の溝の加工形状は、入り口面積より大きい面積の箇所を内部に有する形状が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 インバース構造において、欠陥ボリュームが制御された欠陥が導入された三次元フォトニック結晶などのための微粒子構造体、構造体全体の繰り返しを乱すことなく、局所的に欠陥が導入された周期的な微粒子構造体、このような三次元周期構造体を用いた導波路ならびに共振器を提供すること。
【解決手段】 材質ａ中に大きさの等しい複数の球状空間が三次元的に規則的に配列されており、該複数の球状空間のうちの選択された１以上の球状空間に材質ａとは異なる材質ｂ（例えば、芯粒子の材質ｂ１と外殻の材質ｂ２）が満たされた構造を有する三次元周期構造体である。材質ｂ１の芯粒子は球形状を有する。 （もっと読む）

【課題】 金属細線や金属微粒子による導波路への結合効率の高い、または偏光選択性を有するプラズモン結合素子を提供する。
【解決手段】 金属微粒子を直線状に配列した金属微粒子配列１（金属細線でも良い。）よりなる金属導波路と、前記金属導波路の入力端部に二次元的構造を有して配置された金属開口２を平滑な基板上に設けたプラズモン結合素子において、前記金属開口２と前記金属微粒子との電磁相互作用により、入力される表面プラズモンのエネルギーを前記金属導波路の入力端部に集中させるものである。このようにして、この金属導波路以外の伝搬モードの散乱を抑え、金属導波路内にプラズモンを結合させている。 （もっと読む）

【課題】可視波長領域に吸収がなく、カドミウムや砒素等の有害な物質を用いることなく、簡単な方法により製造することが可能となる屈折率周期構造を備えた光学素子の製造方法および光学素子を提供する。
【解決手段】前記屈折率周期構造の母材に電磁波または電子線の照射もしくは加熱によって屈折率が変化するアルカリハライドを用い、該母材に紫外レーザ光線あるいは電子線を強度変調して照射することにより、それらの照射強度に応じた屈折率の異なる領域を有する２次元周期構造を前記母材に形成する、周期構造形成工程を有する構成とする。また、この２次元周期構造を構成するパターンの一部を変更し（図３（ａ））、光導波路（図３（ｂ））を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 基板１と光導波路３との間に応力緩和層２を設けることにより、電気光学効果膜からなる光導波路３にバルク状の電気光学効果材料に匹敵する高い電気光学効果を生ぜしめ、微細化・高性能化の要請に十分答える信頼性の高い光偏向素子を実現する。
【解決手段】 光導波路３は電気光学効果膜１１，１２，１３が積層形成されてなるものであり、基板１と光導波路３との間に、熱膨張率が１０×１０^-6／℃以上の金属材料、例えばＡｕ、Ａｇ又はこれらの合金を主成分とする金属材料からなり、基板１に起因する光導波路３への拘束力を緩和する機能を有する応力緩和層２が形成される。 （もっと読む）

【課題】 設計の自由度が向上するとともに、小型化を図ることができ、さらには、高密度配線にも対応し易い多層プリント配線板を提供すること。
【解決手段】 複数の絶縁層と、導体回路と、光配線とが積層形成され、光学素子が実装された多層プリント配線板であって、上記光配線は、上記絶縁層間に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 光導波路ブラッググレーティングを作製する２光束干渉法で、ガウシアン分布のアポダイゼーションを高精度で確実に付与する方法と、光導波路ブラッググレーティング製造装置を提供
【解決手段】 紫外線レーザー光５を２つのビームに分岐し、２つのミラー２で反射させて光導波路４の位置で重ね合わせて干渉させる構成において、２つのミラーを互いに平行の角度から対称に回転αさせて、回折格子像を光導波路の位置で交差させて重ね合わせることで、光導波路ブラッググレーティングの中央部では２つのビームを強く干渉させ、端部では弱い干渉をあるいは干渉しないようにして、アポダイゼーションを光導波路ブラッググレーティングに付与する （もっと読む）

【課題】Ｅｒの１．５μｍ帯の誘導放出断面積がより平坦になるホストガラスとしての適性とともに、光ファイバ作製等にて重要な熱安定性にとくにすぐれ、たとえば広帯域かつ低雑音特性を有する光増幅器、レーザ装置、光源に使用してとくに有効な、高機能で汎用性の高い光機能導波路材料を提供する。
【解決手段】光ファイバまたは光導波路用の材料ガラスであって、０＜Ｔａ₂ Ｏ₅ ≦１２（モル％）、０＜（ＢａＯ＋ＳｒＯ）≦２０（モル％）、８０≦ＴｅＯ₂ ≦９７（モル％）、または、６＜Ｔａ₂ Ｏ₅ ≦１２（モル％）、０＜（ＢａＯ＋ＳｒＯ）≦２０（モル％）、８０≦ＴｅＯ₂ ≦９７（モル％）、０＜Ａｌ₂ Ｏ₃ ≦４（モル％）の組成を有する。 （もっと読む）

【課題】 より容易に製造することが可能な積層構造体、積層構造体の製造方法、積層構造体を含む光学素子、及び光学素子を含む光学製品を提供する。
【解決手段】 積層構造体は、基板、基板の表面における少なくとも一つの方向に関して周期的な形状を備えた水素シルセスキオキサンを含む層、及び水素シルセスキオキサンを含む層に積層された周期的な形状と同一の形状を備えた単数又は複数の層を含む。積層構造体の製造方法は、基板の表面に水素シルセスキオキサンを含む液体を塗布して、水素シルセスキオキサンを含む層を形成する段階、基板における少なくとも一つの方向に関して周期的な形状を反転した形状を備えた型を用いて、水素シルセスキオキサンを含む層に周期的な形状を転写する段階、及び周期的な形状が転写された水素シルセスキオキサンを含む層に周期的な形状と同一の形状を備えた単数又は複数の層を積層させる段階を含む。 （もっと読む）

【課題】 フォトニック結晶構造を有する光学素子の光透過効率を向上させる。
【解決手段】 光学素子１０は、第１の媒質からなる通常媒質領域１１と、第１の媒質中に円孔１５が二次元的に配列された、第２の屈折率から成る平均屈折率を有するフォトニック結晶領域１２と、通常媒質領域１１からフォトニック結晶領域１２に向かって屈折率が第１の屈折率から第２の屈折率に徐々に変化する中間領域１３とを有する。中間領域１３には、突起付き円孔１６が周期的に形成され、突起付き円孔の突起の角度は、中間領域１３とフォトニック結晶領域１２との境界面１４から２０度傾いている。光は、境界面１４の垂線に関して突起の傾き方向とは逆の方向に、境界面１４の垂線から１０度傾いて入射される。 （もっと読む）

【課題】３％を越える高い比屈折率差Δにおいても吸収損失の小さくかつ屈折率制御性が高く緻密な高品質のＳｉＯＮ膜をコアとする、光導波路型の光素子が提供できるようにする。
【解決手段】基板１０１の表面を熱酸化することで膜厚１０μｍ程度の酸化シリコン膜を形成することで、基板１０１の上に下部クラッド層１０２が形成された状態とする。次に、下部クラッド層１０２の上にＥＣＲプラズマＣＶＤ法により膜厚３μｍのＳｉＯＮ膜を堆積する。ついで、堆積形成したＳｉＯＮ膜を公知のフォトリソグラフィ技術とエッチング技術とにより微細加工することで、下部クラッド層１０２の上にコア１０３が形成された状態とする。 （もっと読む）

【課題】小型で、環境変動に対し安定で制御しやすい光遅延回路を得ること。
【解決手段】フォトニック結晶の周期的な屈折率分布構造に対して導入される線状の欠陥によって形成される欠陥導波路３ａ，３ｂが複数並列に配置されてなる光遅延回路１であって、欠陥導波路３ａ，３ｂは、欠陥導波路３ａ，３ｂ間の距離が近接して配置され、光の合分波を行う合分波部４ａ，４ｂと、合分波部４ａ，４ｂから分岐し、欠陥導波路３ａ，３ｂ中を伝送する光が互いに干渉しない欠陥導波路間の距離を有して配置される光遅延部と、を備え、複数の欠陥導波路３ａ，３ｂ間の構成を異ならせる。 （もっと読む）

【課題】 優れた光学特性を有するフォトニック結晶素子および結晶制御が可能なフォトニック結晶素子の製造方法を提供する
【解決手段】 まず、２次元周期的に配列された孔１０１が形成された基板１００を準備する。次いで、液中で基板１００の孔１０１に微粒子１１１を自己組織化によって周期的に配置させる。次に、液中で基板１００上に配置された微粒子１１１の上にさらに微粒子１１１を積層し、３次元の周期構造を形成する。微粒子１１１が堆積して形成される微粒子構造体１２１は基板１００の２次元周期構造を反映する。この方法により、基板１００全面に単結晶・単一ドメインで構成され、無欠陥の良質なフォトニック結晶を作製することができる。また、基板に欠陥を形成すれば、微粒子のフォトニック結晶にも所望の欠陥を導入することができる。 （もっと読む）

【課題】従来の接触を評価する手段としては接触した瞬間、接触部を機械的に稼動させ電気的な接触をOn/Offさせる。あるいは圧電素子による電場を発生させる等が行われてきた。これら方法では高感度を得ようとすると誤動作が多くなる。またこれらに使用される接触センサーにおいては支持体が湾曲した場合接点間にばらつきが生じ、動作自体がばらついてしまい正確な動作が得られない。さらに従来の機械的なスイッチ方式の接触センサーでは透明にするのが困難であり、例えばショウケース等に使用される透明なガラスあるいはプラスティック自体を防犯に使用する用途への使用は困難であった。
【解決手段】この改善策として光導波路の導波面に物体が接触すると導波する光が大きく減衰する原理を利用することにより簡便に且つ高感度に検知できる、また検知部が湾曲しても問題なく動作する。また検知部は支持体を透明体とすることで、全体を透明にできる。 （もっと読む）