【課題】撮像素子基板上に集光機能を有するカラーフィルタを効率的に作製する。
【解決手段】撮像素子基板20上に、光電変換素子毎に対応する開口22aを有する格子状の分離壁22を形成し、その開口２２aにカラーレジスト42を塗布、露光および現像してカラーフィルタを作製する。カラーレジスト42の露光は、所定のマスク開口52を有するフォトマスク50を用いた縮小倍率ｒの縮小投影露光により行う。また、フォトマスク50は、分離壁22の開口22aの面積をＳとしたとき、マスク開口52の開口面積Ｓｍが、Ｓｍ＜Ｓ／ｒであるものを用い、分離壁22の表面位置57におけるカラーレジスト42の露光面積が分離壁22の開口22aの面積以下となるように、露光光Lを分離壁22の表面位置57よりも上方位置56で集光させる。 （もっと読む）

【課題】平坦化処理における着色パターンの表面荒れを抑制することができるカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び固体撮像素子を提供する。
【解決手段】第１の着色層を第１の着色組成物により形成する工程、第１の着色層に複数の第１の貫通孔が形成されるようにドライエッチングによりパターニングする工程、第１の着色層上に第２の着色組成物による第２の着色層を積層する工程、第１の貫通孔とは別の複数の第２の貫通孔をドライエッチングによりパターニングして、複数の第１の着色画素を形成する工程、第１着色層上に、第３の着色組成物による第３の着色層を含む１層以上の着色層を積層する工程、及び第１の着色層上に積層された１層以上の着色層を第１の着色層が少なくとも露出するまで平坦化処理する工程を有するカラーフィルタの製造方法。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ製造工程における高温加熱工程時及びヒートサイクル時に、着色層（塗膜）表面の結晶の析出を抑制することができ、高コントラスト化の要求を達成する顔料分散液、カラーフィルタ製造工程における高温加熱工程時に結晶の析出が抑制され、高コントラストな着色層を作製可能な、カラーフィルタ用赤色樹脂組成物、当該カラーフィルタ用赤色樹脂組成物を用いて作製された高コントラストなカラーフィルタ、当該カラーフィルタを備えた高コントラストな液晶表示装置及び有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】ジケトピロロピロール系顔料と、特定の構造の顔料誘導体と、顔料分散剤と、溶媒とを含有する、顔料分散液。 （もっと読む）

【課題】色ムラが抑制され、パターンエッジ形状に優れた着色パターンを、残渣の発生を抑制しながら作製できるカラーフィルタ用着色組成物を製造できるカラーフィルタ用着色組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】濁度が３０ｐｐｍ以下であり色素を含む重合溶液を用いて色素多量体を作製する色素多量体作製工程と、少なくとも、前記色素多量体と、重合性化合物と、溶剤と、を混合する混合工程と、を有するカラーフィルタ用着色組成物の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】押圧耐性に優れてセルギャップ制御性の良好な、高精細化したカラー液晶表示装置に用いるカラーフィルタにおいて、カラーフィルタに形成する固定スペーサが、製造工程中で剥がれることがなく、安定して製造できる構造のカラーフィルタと、それを簡単に製造するための製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶表示セルのセルギャップを制御するための複数の固定スペーサを表面に配置したカラーフィルタであって、固定スペーサ６が帯状であり、連続した一つの固定スペーサの中で長手方向の位置により膜厚に高低差を設けた。 （もっと読む）

【課題】分散性に優れた顔料分散体、また、該顔料分散体を用いた、明度が高く黄色の色相に優れ、分光特性および表示コントラストが高い画像表示を可能とするカラーフィルター用黄色レジスト組成物、インク組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも、分散媒体中、一般式（１）


で表される化合物とベンゾピロール基を有するイエロー顔料を含む事を特徴とする顔料分散体。［一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ’１、Ｒ’２、Ｒ’３は、各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】プラスチック基材上に供給された第１液を十分に液切りした後、プラスチック上に第２液を供給する。
【解決手段】基材処理装置１０は連続的に供給される帯状のカラーフィルター用プラスチック基材２に対して第１液Ａを供給する第１液供給ノズル１３を含む第１液室１１と、第１液室１１内で第１液Ａが供給されたプラスチック基材２に対して第２液Ｂを供給する第２液供給ノズル２３を含む第２液室２１との間に、第１液室１１からの第１処理位置Ｐ１にあるプラスチック基材２を第１処理位置Ｐ１より高い上昇位置Ｐ３まで上昇させる段差形成江アリ３０が設けられている。段差形成エリア３０において上昇位置Ｐ３をとるプラスチック基材２は、その後第２液室２１へ送られて第２処理位置Ｐ２まで降下する。 （もっと読む）

【課題】ダイコータによる塗布の直前に吐出口を複数の清掃部材で拭取るのは、安定した塗布膜を得るために効果的な方法であるが、ノズルを交換する毎に、清掃部材を取り替えて、個々に吐出口にフィットするように調整するのは、時間がかかっていた。
【解決手段】塗布装置は、支持部材上に支持された清掃部材による清掃ユニットと、前記清掃ユニットを前記拭取り方向に複数個載置可能で、上面に垂直な回転軸を有するθステージと、前記θステージを支持する台座を含む拭取りユニットを有し、前記清掃ユニットの前記支持部材と前記θステージには、高さ調節部材を挟持するための高さ調節面が形成されている清掃手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ディスペンサ方式、インクジェット方式、針式等のカラーフィルタ修正用インキ組成物の塗布方式において、塗布媒体上やノズル部で乾燥による目詰まりを起こすことなく修正箇所に塗布され、修正箇所において、塗布液が広がることのない、インキ安定性および溶剤耐性に優れたカラーフィルタ修正用インキ組成物の提供。
【解決手段】有機顔料（Ａ）と、下記一般式（１）で表されるエチレン性不飽和二重結合を１個有する単官能モノマー（Ｂ）と、下記一般式（２）で表される熱硬化性メラミン化合物[Ｃ１]またはその部分縮合物の混合物[Ｃ２]を含むメラミン化合物（Ｃ）と、インキ組成物全量を基準として１０重量％以下の有機溶剤（Ｄ）と、多官能モノマー（Ｅ）と、光重合開始剤（Ｆ）とを含有することを特徴とするカラーフィルタ修正用インキ組成物により解決される。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板又はＴＦＴ基板上に着色層（ＲＧＢ他）およびブラックマトリックス（ＢＭ）などのカラーフィルタが形成されたカラーフィルタ製造におけるレーザー修正において、修正箇所のレーザーアブレーションに伴う下地の損傷を発生させることなく、効率的に、且つ、選択的にカラーフィルタ層のみを修正することができるカラーフィルタの欠陥修正方法、及び、その欠陥修正方法によって欠陥部分が修正されたカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも着色層、ブラックマトリックスが形成されたカラーフィルタの欠陥修正方法において、予め前記カラーフィルタの欠陥修正部分にレーザーを照射して、前記欠陥修正部分を熱分解・熱変性に起因する炭化作用により着色させる段階と、その後前記欠陥修正部分にレーザー光を照射して前記欠陥修正部分をレーザーアブレーションにより除去する段階と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】基板を連続搬送しながら、基板搬送方向と直交する方向に並べた小型のフォトマスクを用いて露光を行う小型マスク連続露光方式において、露光中の基板とフォトマスクとの位置合わせを高精度に行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光ヘッド３の上流側に傾き観察用の撮像装置８が配置されている。撮像装置８は、基板１０上の露光領域１１内に形成されている遮光層（ブラックマトリックスまたは電極層）を撮影する。撮像装置８によって撮影された画像から、基板搬送方向（ｙ軸）に対する遮光層の傾きが求められる。駆動装置１２は、フォトマスク４を回転させて、ｙ軸に対する画素形成用パターン５の対する傾きを、ｙ軸に対する遮光層の傾きに一致させる。 （もっと読む）

【課題】オーバーコート層と、透明導電膜との段差に起因する液晶表示不良を抑制した液晶表示装置用カラーフィルタ基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板上に、ブラックマトリクス、着色画素、これらを被覆するオーバーコート層、およびオーバーコート層上にパターン形成された透明導電膜、とを有する液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法であって、以下の工程を順次行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。（１）透明基板上に開口部を有するブラックマトリクスを形成する工程（２）ブラックマトリクスの開口部に赤、緑、青の各画素を形成する工程（３）透明基板上のブラックマトリクスの開口部に赤、緑、青の各画素が形成された基板上にオーバーコート層を形成する工程 （もっと読む）

【課題】パターン形成における現像時間の依存性が小さく、耐光性の高い着色硬化膜を形成しうる着色硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ−１）下記一般式（Ｉ）で表される化合物と金属原子又は金属化合物とを含む錯体、（Ａ−２）フタロシアニン系顔料、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）光重合開始剤、及び（Ｅ）有機溶剤を少なくとも含む着色硬化性組成物。
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【課題】設備効率を上げ、再生専用処理装置による再生処理に要する薬液の削減と再生専用処理時の基板の割れ等の発生を防ぐことを可能とするカラーフィルタ用基板の再生処理システムを提供する。
【解決手段】少なくとも基板を製造工程に投入する投入装置と、基板にフォトレジストを塗布する塗布装置と、前記フォトレジストの膜厚を検査する膜厚検査機と、基板に付着する異物を検査する異物検査機と、前記基板に塗布されたフォトレジストを露光した後現像処理する現像装置と、前記膜厚検査機と異物検査機によって検査された前記不良基板を一時収納するバッファ装置と、を備え、且つ、前記バッファ装置に収納された前記不良基板の払い出し指示発行手段と、前記不良基板に塗布されたフォトレジストを剥離する手段と、前記フォトレジストが剥離された基板の払い出し先を判断する手段と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタ用基板の再生処理システム。 （もっと読む）

【課題】外部からの情報の読み取りを高精度に行うことに寄与し得る表示装置用のカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】基板５０は、光センサ８１を有する背面側基板７０に対向して配置される。基板は、基材５１と、光センサに対面するようになる位置に形成された光フィルタ部６１と、を有する。波長が３８０ｎｍ〜５００ｎｍである光についての光フィルタ部の最大透過率が１％以下である。波長が５５０ｎｍ〜６３０ｎｍである光についての光フィルタ部の最大透過率が１％以下である。波長が６３０ｎｍ〜７５０ｎｍである光についての光フィルタ部の最大透過率が２％以下である。 （もっと読む）

【課題】カラー液晶表示装置に用いるカラーフィルタにおいて、着色画素上のＶＡパターンやＰＳパターンの欠陥をレーザ光で除去する際に、除去すべき欠陥の周辺に対してダメージを最小にする欠陥の修正方法を提供すること。
【解決手段】欠陥部の下地に相当する画素を含む欠陥部近傍の比較参照樹脂のレーザ光透過率に応じて、レーザ光の照射強度を変更する、あるいは、欠陥部の高さに応じて、レーザ光照射系のレンズ倍率を変えて焦点深度を調整する。 （もっと読む）

【課題】樹脂のブラックマトリクスの形成において額縁部と線パターンの接続部分における線パターンの線幅細りを無くす。
【解決手段】基板上に形成した黒色感光性樹脂層に、フォトマスクを用いてブラックマトリクスのパターンを露光する露光工程を第１回目の露光工程と第２回目の露光工程で構成し、前記第１回目の露光工程と前記第２回目の露光工程では、前記フォトマスクと前記黒色感光性樹脂層との間隙を異ならせ、かつ、前記フォトマスクの面方向の位置を、カラーフィルタの画素のピッチの整数倍のピッチでずらして配置して露光することでブラックマトリクスを有するカラーフィルタを製造する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、カラーフィルタにおける同一機能部材を形成するのに有用な、階調マスクを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を、所定の透過率特性を有する半透明膜を備える階調マスクを用いて露光し、現像して、感光性樹脂からなる高さの調整された２種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】逆オスカー型の研磨装置において、上定盤の外部のカラーフィルタ上に研磨液を滴下させて研磨を行っても、研磨量の制御が容易で、安定した研磨のできる研磨装置を提供する。
【解決手段】上定盤３３に対向する下定盤１への荷重の分布を上定盤の外周部のみとするために、上定盤は上定盤上層３３ａと上定盤下層３３ｂで構成し、上定盤の下面を中凹状５０にする調整機構として押込みボルト３１を上定盤上層３３ａの中心部ｑを除く内面部ｒから外周部ｔに向かって複数個設けたこと。上定盤４３を厚さ方向を２分するスリット４４を中心部を除く内面部から外周部に向かって設け、押込みボルト４１を上定盤上半部４３ａの中心部を除く内面部から外周部に向かって複数個設けたこと。 （もっと読む）