【課題】より低減された光の透過率及びより低減されたサイズを備えた積層体を設計する方法を提供する。
【解決手段】第一の表面領域及び第二の表面領域を有する基板、第一の表面領域に設けられた第一の被覆層、並びに第二の表面領域に設けられた第二の被覆層を含む、積層体を設計する方法であって、基板の材料を選択すること、第一の被覆層の材料を選択すること、第二の被覆層の材料を選択すること、並びに、基板、第一の被覆層、及び第二の被覆層を透過する光の波長を選択すること、基板、第一の被覆層、及び第二の被覆層を透過する光の波長、並びに、基板、第一の被覆層、及び第二の被覆層を透過する光の波長についての、基板の材料の複素屈折率、第一の被覆層の材料の複素屈折率、及び第二の被覆層の材料の複素屈折率に基づいて、基板、第一の被覆層、及び第二の被覆層を透過する光の透過率が極小であるように、基板の厚さ、第一の被覆層の厚さ、及び第二の被覆層の厚さを決定することを含む、積層体を設計する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】表示品位の良好な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１波長範囲の光を透過する第１カラーフィルタＣＦ１と、第１波長範囲よりも長波長の第２波長範囲の光を透過する第２カラーフィルタＣＦ２と、前記第２カラーフィルタの上に配置された第１スイッチング素子ＳＷ１と、前記第２カラーフィルタの上に配置された第２スイッチング素子ＳＷ２と、前記第１スイッチング素子と電気的に接続され、前記第１カラーフィルタの上方に位置する第１画素電極ＰＥ１と、前記第２スイッチング素子と電気的に接続され、前記第２カラーフィルタの上方に位置する第２画素電極ＰＥ２と、を備えたアレイ基板を具備することを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用カラーフィルタ基板や画素電極基板に、ポジ型フォトレジストを用いて液晶セルギャップ制御用の固定スペーサと液晶配向ドメイン規制用突起部とを一括形成するためのフォトマスクを最適化し、工程条件によるバラツキの少ないカラーフィルタ基板とその製造方法、または画素電極基板とその製造方法、高品質の液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板１１、または画素電極基板に、ポジ型フォトレジストを用いて固定スペーサ５とドメイン規制用突起部６とを一括形成するためのフォトマスク２０であって、固定スペーサのフォトマスクパターンは、遮光部８の周囲に全透過スリットを含むグレートーン部９を有し、ドメイン規制用突起部のフォトマスクパターンは、複数の平行帯状の遮光部８５に挟まれた全透過スリット８０を含むグレートーン部９０を有する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用カラーフィルタ基板や画素電極基板に、ポジ型フォトレジストを用いてセルギャップ制御用の固定スペーサを形成するためのフォトマスクを最適化し、工程条件によるバラツキの少ないカラーフィルタ基板とその製造方法、および画素電極基板とその製造方法を提供し、高品質の液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板１１、または画素電極基板に、ポジ型フォトレジストを用いて液晶セルギャップ制御用の固定スペーサ５を形成するためのフォトマスク２０であって、固定スペーサのフォトマスクパターンとして、遮光部８の周囲に全透過スリットを含むグレートーン部９を有する。 （もっと読む）

【課題】薄膜が密で、スペクトル特性が温度や空気湿度に対して安定しているカラーフィルター薄膜システムを作製する。
【解決手段】ある一つの基礎材の上にカラーフィルター薄膜システムパターンを作成するため、リフトオフ法により、レジスト薄膜面領域とレジスト薄膜のない領域を持つパターン化されたレジスト薄膜（３２）を装着し、次ぎにカラーフィルター薄膜システムを装着し（３１）、その後にレジスト薄膜面領域とともにその上の領域に装着されているカラーフィルター薄膜システムを除去するため、そのカラーフィルター薄膜システム（３１）の装着を、最高１５０℃までの温度でプラズマを利用して被膜形成することにより行う。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの製造工程で生じる突起欠陥、白欠陥、黒欠陥を全て容易に修正し、良品率を大幅に向上させることができるカラーフィルタの欠陥修正方法を提供することを目的とする．
【解決手段】カラーフィルタの欠陥修正方法において、レーザ光の照射によりカラーフィルタの欠陥部を除去する際に、レーザ光の径を欠陥部を含む円形修正領域に設定し、円形修正領域の除去後、円形修正領域にレーザＣＶＤ法によって厚み１０００オングストローム以上の金属膜を蒸着させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】薄膜が密で、スペクトル特性が温度や空気湿度に対して安定しているカラーフィルター薄膜システムを作製する。
【解決手段】ある一つの基礎材の上にカラーフィルター薄膜システムパターンを作成するため、リフトオフ法により、レジスト薄膜面領域とレジスト薄膜のない領域を持つパターン化されたレジスト薄膜（３２）を装着し、次ぎにカラーフィルター薄膜システムを装着し（３１）、その後にレジスト薄膜面領域とともにその上の領域に装着されているカラーフィルター薄膜システムを除去するため、そのカラーフィルター薄膜システム（３１）の装着を、最高１５０℃までの温度でプラズマを利用して被膜形成することにより行う。 （もっと読む）

カラーフィルターアレイ及び大気バリアを製造する方法は、基材上に半反射性材料層をコーティングする工程、半反射性層の上に実質的に透明な層を蒸着して１つの厚さを有する光干渉層を形成する工程、及び１つ又は２つ以上の段階であって、それぞれの段階が、光干渉層上に印刷することによりパターン化層を生成させること、パターン化層全体にわたって実質的に透明な層を蒸着して最初の又は前の光干渉層と組み合わされた場合に光干渉層を提供すること、溶剤によりパターン化層を除去することを含む。次いで、最後の光干渉層の上方に第２の半反射性材料層をコーティングする。
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【課題】画素のサイズにかかわらず、斜め入射光に起因する混色を確実に抑制し、高い色分離機能、低い雑音、および高い波長感度を有する固体撮像装置およびカメラを提供する。
【解決手段】多層干渉フィルタ１５は、フォトダイオード１３の配置方向に沿う方向において、濾光領域Ａ、Ｂ、Ｃと境界領域Ｄ、Ｅとを有する。多層干渉フィルタ１５では、境界領域Ｄ、Ｅにおいて、λ／４多層膜（層１５１〜１５３の積層体および層１５８〜１６０の積層体）で挟まれる層１５６、１５７の膜厚が、合計で９１［ｎｍ］に設定されている。ここで、多層干渉フィルタ１５では、層１５６、１５７が領域Ｄ、Ｅにおけるスペーサ層に相当する。 （もっと読む）

【課題】製造効率を向上させることが容易に可能であって、コストダウンを実現する。
【解決手段】第１カラーフィルタ層４１１Ｒにおいて形成されている誘電多層膜ＤＦと、第２カラーフィルタ層４１１Ｇにおいて形成されている誘電多層膜ＤＦと、第３カラーフィルタ層４１１Ｂにおいて形成されている誘電多層膜ＤＦとのそれぞれを、互いに同じ層構成になるように層が積層され、かつ、層厚が互いに異なるように形成する。 （もっと読む）

【課題】セルサイズに関わらず、優れた光学特性を有し、且つ、高い歩留まりおよび低い製造コストでの製造が可能な多層干渉フィルタおよび固体撮像装置を提供する。
【解決手段】多層干渉フィルタ１６は、複数の二酸化チタンタンタル層１６１、１６３、１６６、１６８、１７１、１７３と、複数の二酸化シリコン層１６２、１６７、１７２と、複数のスペーサ層１６４、１６５、１６９、１７０とから構成されている。固体撮像装置１０では、領域Ａ、Ｂ、Ｃごとの層構成により、多層干渉フィルタ１６の膜厚が相違している。タンタルのドープ量については、組成式Ｔｉ_{（１−ｘ）}Ｔａ_ｘＯ_２において、０＜ｘ≦０．１の関係を満たすように設定されている。 （もっと読む）

【課題】平坦化膜の膜厚を測定する場合に、常に同じ領域を特定して膜厚を測定する。
【解決手段】半導体基板上の画素が形成されない非画素領域に所定パターンの反射膜５を形成し、反射膜５が形成された半導体基板上にカラーフィルタ膜２０を形成し、カラーフィルタ膜２０上に、反射膜５に相当する領域が所定の膜厚になるように平坦化膜２２を形成する。カラーフィルタ膜２０における反射膜５に相当する領域は、平坦化膜２２における反射膜５に相当する領域を特定するときに照射される光を透過させるように形成される。 （もっと読む）

【課題】画像表示装置がより少ない工程数によって作製され、光利用効率が高い。
【解決手段】光源１０１からの光は導光素子１０２へ導かれ、導光素子１０２内で光が反射を繰り返し、出射光に配置されたカラーフィルタ１０３へ達し、フィルタ１０３によって領域ごとに所定の光が出射され、透過型の空間光変調器である液晶素子１０４、偏光素子１０５によって画像が形成され、スクリーン面１０６に表示される。フィルタは、金属膜および非金属積層膜から成る積層膜が積層され、非金属積層膜には空孔によって所定ピッチの微細周期構造が形成されている。 （もっと読む）

【課題】ダイクロイックフィルタを用いてカラー撮像する固体撮像装置であって、画素を微細化しても高い生産性を達成することができる固体撮像装置を提供する。
【解決手段】固体撮像装置１は、Ｎ型半導体層１０１上にＰ型半導体層１０２、層間絶縁膜１０４、偏光カットフィルタ１０８及び集光レンズ１０９が順次積層されてなる。Ｐ型半導体層１０２の層間絶縁膜１０４側にはフォトダイオード１０３が画素毎に形成されている。層間絶縁膜１０４中には、遮光膜１０７、ダイクロイックフィルタ１０６及び支持体１０５が形成されている。ダイクロイックフィルタ１０６は画素毎に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の何れかの波長域の光を選択的に透過させる。支持体１０５はＰ型半導体層１０２の主面に対して傾斜角が４５度のテーパ面を有し、当該テーパ面上にダイクロイックフィルタ１０６を支持する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも光の透過率が高いカラーフィルタを備える固体撮像装置を提供する。
【解決手段】光電変換部１０３Ｒ，１０３Ｇ，１０３Ｂを有する半導体基板１０１と、半導体基板１０１上に配された誘電体膜１０４と、誘電体膜１０４上に配された半導体膜１０５とを備え、誘電体膜１０４のうちの各光電変換部に対応する各領域１０４Ｒ，１０４Ｇ，１０４Ｂは、それぞれ対応する光電変換部に入射させるべき光の波長域（中心波長６１０ｎｍ，５３０ｎｍ，４５０ｎｍ）に応じた膜厚２００ｎｍ，１７０ｎｍ，１４０ｎｍを有する。 （もっと読む）

【課題】デジタルカメラ等に搭載する小型の動的光学素子を提供する。
【解決手段】ダイナミック材料面を有する実質的に透光性の基板と、基板のダイナミック材料面の少なくとも一部上に形成された熱変色性材料（ＴＣ）材料の層と、ＴＣ材料の層に熱的に結合され、ＴＣ材料の層の温度を制御可能に変化させる加熱手段とを有する、動的光学素子。ＴＣ材料は、ＴＣ材料の層の温度がＴＣ材料の遷移温度未満のときにＴＣ材料が取る第１の温度依存性状態と、ＴＣ材料の層の温度が遷移温度より大きいときにＴＣ材料が取る第２の温度依存性状態とを有する。 （もっと読む）

【課題】感光性材料を含まない色素膜をパターン化することによるカラーフィルタの薄膜化を簡便に実現する。
【解決手段】カラー固体撮像素子の製造方法は、基板１０１上に配列された光電変換素子１０２と、光電変換素子１０２上にそれぞれ形成されたカラーフィルタ１１１とを備えるカラー固体撮像素子の製造方法において、カラーフィルタ１１１を形成する工程は、光電変換素子１０２が形成された基板１０１上に感光性樹脂層１０９を形成する工程と、感光性樹脂層１０９上に色素膜１２０を形成する工程と、色素膜１２０を通して感光性樹脂層１０９の露光を行なうことにより、感光性樹脂層１０９のうちの基板１０１上に残すパターン１０９ａを確定する工程と、現像により、パターン１０９ａ以外の感光性樹脂層をその上に位置する色素膜と共に除去し、それによって、感光性樹脂層及び色素膜の積層されたカラーフィルタ１１１を得る工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】小型化・省スペース化を図ることが可能な表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】発色体として赤色を発色する第１の構造色発色体と緑色を発色する第２の構造色発色体と青色を発色する第３の構造色発色体とを配列した表示部を有し、上記第１の構造色発色体と上記第２の構造色発色体と上記第３の構造色発色体とは、Ｘ方向の幅が７８０ｎｍ以下でＹ方向に比べて均一、Ｙ方向の長さが不定、Ｚ方向の高さまたは深さが１０ｎｍ以上の多数の平面視方形の凸部または凹部をＸＹ方向に配列して形成された基板と、上記基板の凸部または凹部に倣うように、高い屈折率を有する高屈折率層と低い屈折率を有する低屈折率層とをＺ方向に交互に積層して形成した積層体とを有して構成される。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ、カラーフィルタアレイ及びその製造方法、並びにイメージセンサーを提供する。
【解決手段】基板と、所定色のための特定波長の光をフィルタリングするための、基板上に交互に繰り返して積層される、互いに異なる屈折率を有する第１無機膜と第２無機膜とを備え、第１無機膜と第２無機膜との屈折率差が少なくとも０．８以上であり、２〜５回繰り返して積層され、望ましくは、３回繰り返して積層され、第１無機膜と第２無機膜とは、４００〜７００ｎｍの可視光線領域で１．３〜６．０の屈折率を有し、ＳｉＯ_２、ＳｉＯＮ、ＳｉＮ及びＳｉから選択されるカラーフィルタである。 （もっと読む）

【課題】 高精度なアライメントが可能な固体撮像装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 固体撮像装置の製造方法は、画素領域から外れた領域１８ｄ内にアライメントマーク３２が形成された半導体基板を準備する工程と、複数の誘電体層からなる第１のλ／４多層膜３４を形成する第１の形成工程と、前記第１のλ／４多層膜３４上に絶縁体層４２を形成する第２の形成工程と、アライメントマーク上方に位置する前記絶縁体層４２の光学膜厚を、アライメント光が透過する厚みに調整する調整工程と、前記厚み調整された絶縁体層３６上に、複数の誘電体層からなる第２のλ／４多層膜３８を形成する第３の形成工程と、を含む。 （もっと読む）