【課題】より低減された光の透過率及びより低減されたサイズを備えた積層体を設計する方法を提供する。
【解決手段】第一の表面領域及び第二の表面領域を有する基板、第一の表面領域に設けられた第一の被覆層、並びに第二の表面領域に設けられた第二の被覆層を含む、積層体を設計する方法であって、基板の材料を選択すること、第一の被覆層の材料を選択すること、第二の被覆層の材料を選択すること、並びに、基板、第一の被覆層、及び第二の被覆層を透過する光の波長を選択すること、基板、第一の被覆層、及び第二の被覆層を透過する光の波長、並びに、基板、第一の被覆層、及び第二の被覆層を透過する光の波長についての、基板の材料の複素屈折率、第一の被覆層の材料の複素屈折率、及び第二の被覆層の材料の複素屈折率に基づいて、基板、第一の被覆層、及び第二の被覆層を透過する光の透過率が極小であるように、基板の厚さ、第一の被覆層の厚さ、及び第二の被覆層の厚さを決定することを含む、積層体を設計する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】次世代の情報家電、ロボット等における光通信には、小型の波長フィルタリング装置が求められている。上述した従来技術による表面プラズモン共鳴による波長フィルタ装置はプリズムを要することから、波長フィルタリング装置として小型化が達成される可能性は低い。そこで、上述の問題点を解消し、特定狭帯域の波長をフィルタリングすることが可能であり、簡便で且つ小型構造の波長フィルタ、及び該波長フィルタを使用した波長フィルタリング方法及び装置を提供することを本発明の主な目的とする。
【解決手段】（i）２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下厚さの第一金属層、（ii）５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下厚さの誘電体層、及び（iii）少なくとも５０ｎｍ以上厚さの第二金属層を有し、該誘電体層が該第一金属層と該第二金属層に挟まれた積層構造を有する波長フィルタ。 （もっと読む）

【課題】性能低下が抑制される干渉フィルターを提供すること。
【解決手段】干渉フィルター５は、ギャップＧを介して対向する２つの反射膜５６，５７と、反射膜５６，５７を支持する基板５１，５２と、を備え、反射膜５６，５７は、純銀膜５６１，５７１と銀合金膜５６２，５７２とを含み、基板５１，５２には、基板５１，５２側から順に純銀膜５６１，５７１、及び銀合金膜５６２，５７２が設けられ、銀合金膜５６２，５７２は、銀（Ａｇ）、サマリウム（Ｓｍ）、及び銅（Ｃｕ）を含有するＡｇ−Ｓｍ−Ｃｕ合金膜、又は銀（Ａｇ）、ビスマス（Ｂｉ）、及びネオジム（Ｎｄ）を含有するＡｇ−Ｂｉ−Ｎｄ合金膜であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プロジェクタにおいて、青色光源からの青色光のカラーホイールからの反射を防止し、光の有効利用をする。
【解決手段】カラーホイール本体２４に蛍光体層２３の両側に、低屈折率層２１、高屈折率層２２の誘電体薄膜を単位として、繰り返して積層される周期的誘電体層Ａ、Ｂ（総数Ｘ）、Ｃ（総数Ｙ）を設ける。周期的誘電体層Ａに入射する青色光は、多重干渉効果が強められて蛍光体層２３に光が集中し、蛍光体層２３から発光した緑色光は、周期的誘電体層Ｂにより多重干渉効果が少なくなり、周期的誘電体層Ｃにより反射され、逆の道筋で出射される。本発明によれば、従来よりも青色光が有効に利用される。 （もっと読む）

【課題】少なくとも一つの測定方向で互いに可動自在で配置されている二つの対象物の、位置を検出するための位置測定装置を提供する。
【解決手段】位置測定装置には光源および、光源から送られた光線を二つ以上の分光光束に分割する分光手段を含んでいる。分光光束は、少なくとも二つの分光光路を通過する。分光光路からの干渉分光光束が、多数の光電式検知要素に当たるので、変位に従う位置信号を検知要素を介して検出することができる。光源は、ファイバ格子逆カップリング手段付き半導体レーザとして構成されている。 （もっと読む）

【課題】 ＶＩＰＡ板の温度を変えることなく、かつ自由スペクトル領域を狭めることなく、ＶＩＰＡ板の動作波長を変化させることができる波長分散光学装置を提供する。
【解決手段】 出射光学系が光線束を出射する。出射光学系から出射した光線束がＶＩＰＡ板に入射する。ＶＩＰＡ板は、入射した光線束を、波長ごとに相互に異なる方向に出射させる。再入射光学素子が、ＶＩＰＡ板から出射された光線束を、ＶＩＰＡ板から出射した光の進行方向によって、ＶＩＰＡ板の相互に異なる位置に再入射させる。出射光学系から出射し、ＶＩＰＡ板へ入射する光線束の入射角が変化するように、入射角調節機構が、ＶＩＰＡ板と出射光学系の出射部との相対的な位置関係を変化させる。 （もっと読む）

太陽反射鏡が、焦点区域を有する成形ガラス基板と、その凸状表面を覆う反射コーティングと、その凹状表面を覆うナトリウムイオンバリア層とを備える。この成形基板は、底部区域に半径方向張力歪みを、及び基板の外周部に円周方向圧縮歪みを有する歪みパターンを有する。成形基板の外周部からの距離が増大するにつれて、円周方向圧縮歪みは、円周方向張力歪みが生じ始める位置である「移行ライン」まで縮小する。移行ラインからガラス基板の底部区域の方向への距離が増大するにつれて、円周方向張力は上昇する。成形ガラス基板における歪みパターンを補償してバリア層の座屈及び表面クラックを回避するために、シリコン及びアルミニウムからなる酸化物を含むバリア層の厚さは、とりわけ、応じて変化する。成形セクションから太陽鏡を製造する方法もまた開示される。
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【課題】微粒子の配列構造が安定的に維持され、特定の波長の光を反射することができ、光の入射角の変化によって反射光のピーク波長が変化する反射光の角度依存性を十分に低減することが可能な微粒子分散体を提供すること。
【解決手段】平均粒子径が５０ｎｍ〜１０μｍの範囲にあり且つ粒子径のＣｖ値が１０％以下である第一微粒子が媒質中に分散してなる微粒子分散体であって、
前記分散体中における前記第一微粒子の配列構造が、アモルファス構造であり且つ下記条件（Ａ）及び（Ｂ）：
［条件（Ａ）］
前記分散体の走査型電子顕微鏡写真に基いて下記式：
ｇ（ｒ）＝｛１／〈ρ〉｝×｛ｄｎ／ｄａ｝
［式中、ｇ（ｒ）は動径分布関数を示し、〈ρ〉は平面内の平均粒子密度を示し、ｄｎは任意の第一微粒子からの距離ｒの円と距離ｒ＋ｄｒの円との間の領域中に存在する第一微粒子の数を示し、ｄａは前記領域の面積（２πｒ・ｄｒ）を示す。］
を計算して求められる平面内の動径分布関数において、前記動径分布関数の第一の極大値における前記距離ｒの値が前記第一微粒子の平均粒子径の１〜２倍の値であること、
［条件（Ｂ）］
前記動径分布関数の前記第一の極大値と前記第一の極大値に隣接する第二の極大値との間にある前記動径分布関数の極小値が０．５以下の値であること、
を満たす短距離秩序構造を有していること、
を特徴とする微粒子分散体。 （もっと読む）

【課題】 応力緩和層や反射層の、面内の膜質の差に起因する応力分布を除去する。
【解決手段】 基板１０上に応力緩和層１２を介して反射層１１を積層する。応力緩和層１２は、反射層１１の内部応力を相殺するための、均一な膜厚分布をもつ応力緩和部１２ａと、膜厚分布を二次偶関数近似した応力分布除去部１２ｂを有する。応力は膜厚にほぼ比例するので、任意の膜厚分布を形成することで応力分布を制御することができるが、設計値による膜厚分布を変えることは光学特性の劣化につながる。そこで、応力分布を除去するための応力分布除去部１２ｂの膜厚分布を二次偶関数で近似することで、膜厚分布による収差を光学系の調整によって低減可能とする。 （もっと読む）

【課題】 粉末材料を圧粉成形し長波長透過型テラヘルツ電磁波フィルタを作製する手法を提供すること。
【解決手段】 テラヘルツ電磁波は数〜数十マイクロメートルの粒径を有する粉末物質により散乱される。したがって散乱を利用することで電磁波の透過フィルタを作製することが可能である。また２種類以上の粉末を混合することでカットオフ波長より長波長領域におけるテラヘルツ電磁波の透過率を制御することができる。 （もっと読む）

【課題】 ２００ｎｍ未満のレーザシステムに用いられる素子において、表面／界面の粗さおよび不均一性を増加させずに、１９３ｎｍで高反射率を達成する。
【解決手段】 基体２０；各々が、高屈折率フッ化物材料の少なくとも１つの層４０および低屈折率フッ化物材料３０の少なくとも１つ層を含む、１つ以上の周期のフッ化物コーティング材料；および非晶質シリカ、非晶質ＦドープトＳｉＯ₂、非晶質Ａｌ₂Ｏ₃ドープトＳｉＯ₂、および非晶質ＮドープトＳｉＯ₂からなる群より選択される少なくとも１つの層の非晶質ＳｉＯ₂材料５０を含む素子。高屈折率フッ化物材料は１．６５から１．７５の範囲の屈折率を有し、低屈折率フッ化物材料は１．３５から１．４５の範囲の屈折率を有する。 （もっと読む）

【課題】イオンビームを利用した多層膜のミリングにおいて、サブナノメートル精度で反射波面の位相を補正するとともに加工時間の短縮を実現した多層膜の表面形状加工方法及び表面形状加工装置を提供することを課題とする。
【解決手段】屈折率に差がある複数の物質を周期的に積層した多層膜のイオンビームによるミリングに際し、反射位相変化の小さい方の物質を基準としてミリングの深さを検知することを特徴とする多層膜の表面形状加工方法及び表面形状加工装置によって解決される。 （もっと読む）

光信号の複数回のフィルタ通過が行われて光信号から目標スペクトル成分を除去することができるノッチフィルタシステムが提供される。有利なことに、このノッチフィルタシステムは調整可能である。カスケードの形に構成された多重ノッチフィルタを含むカスケードノッチフィルタシステムが提供され、フィルタのそれぞれが、スペクトルフィルタリング特性を有し、また、その中を光信号が通るときに目標スペクトル成分が光信号からフィルタ除去されるように、適切なフィルタ角度で光信号の経路内に配置される。光信号がフィルタ中を通過するときに目標スペクトル成分が光信号からフィルタ除去されるように、スペクトルフィルタリング特性を有するノッチフィルタと、光信号が適切な角度でフィルタ中を複数回フィルタ通過するように導くための光学アセンブリとを含むマルチパスノッチフィルタシステムが提供される。
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【課題】積層体そのものが所望の全ての物理、化学または光学特性を有していない問題を解決する。
【解決手段】多層ポリマーフィルムは、光学積層体の層とは異なる機械、光学または化学特性を有するスキン層を備えた、複数のポリマー層を含む光学積層体を含む。
【選択図】図９
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【課題】極端紫外線用の反射鏡の多層膜構成を簡略化し、製作効率の向上および製造コストの低減を図る。
【解決手段】第１材料Ａと第２材料Ｂからなる２層構成の第１積層体２の上に、第１材料Ａと第２材料Ｂと第３材料Ｃからなる３層構成の第２積層体３を積み重ねた多層膜反射鏡を製造する。２層構成と３層構成を組み合わせることで、全体が３層構成の多層膜反射鏡に比べて膜構成の複雑化を抑制することができる。多層膜反射鏡の入射面に近い３層構成の第２積層体３の周期数を２層構成の第１積層体２の周期数より小さくして、全体を３層構成にした状態と同等の反射率を得られるよう、層数および厚さを最適化する。 （もっと読む）

【課題】1-3keV（波長：0.4-1.2nm）のエネルギーをもつX線領域において、高い回折効率および高い耐熱性をもつ、回折格子に多層膜を適用した斜入射による全反射を利用した斜入射型の多層膜回折格子分光器を提供する。
【解決手段】ラミナー型回折格子基板１、またはブレーズド型の格子溝を表面に有する回折格子基板に、モリブデン（Mo）２と窒化ホウ素（BN）３、またはMo２と酸化ケイ素（SiO₂）３を成膜材料として用いた、Mo/BN多層膜、またはMo/SiO₂多層膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】発散性線源からのｘ線を集束させ結像させる際に使用するための光学的に湾曲した素子を提供する。
【解決手段】この素子は、少なくともその一部が該光学的に湾曲した素子を少なくとも一つの方向で横切って変化する間隔ｄにより隔てられた湾曲した複数の原子反射面を含む。複数の湾曲した反射面の上に二重に湾曲した光学表面を配置する。該複数の原子反射面の間隔ｄは、該光学表面の少なくとも一部にブラッグ角で該光学表面に衝突する発散性の線源からのｘ線の入射角との適合を高めるため少なくとも一つの方向で連続的に変化する。二重に湾曲した光学表面は楕円形、放物面状、球状、又は非球状のプロフィルを持つことができる。 （もっと読む）

【課題】界面拡散層が薄く、かつ界面粗さの小さな膜を得る多層膜の製造方法及び多層膜を提供する。
【解決手段】多層膜の製造方法は、薄膜原料を基材とするターゲット１４を有し、ターゲット１４の表面近傍に磁場の作用でプラズマを集中させてスパッタリングを行うマグネトロン・スパッタ装置１を用い、構成元素、組成、結晶構造の少なくとも一つが相違する層を積層させた多層膜を形成する方法である。ターゲット１４の表面に平行な磁場の強度をターゲット１４の表面で０．３Ｔ（テスラ）以上に設定する磁石装置を用意する。次に、積層方向において互いに隣接するように膜を成膜すると共に、積層方向に互いに隣接する膜の界面に存在する界面拡散層の厚みが、隣接する膜のうち薄い側の層の厚みの５０％以下となるように設定する成膜工程を実施する。 （もっと読む）

【課題】 多層膜における物質の積層数を減らすことなく、多層膜全体の応力を低減できる多層膜反射鏡および露光装置を提供する。
【解決手段】 軟Ｘ線領域の光（ＥＵＶ光）を反射する多層膜１１が基板１２の表面に形成され、多層膜は、軟Ｘ線領域における屈折率の異なる第１層２１と第２層２２とが交互に積層され、第１層と第２層のうち少なくとも何れか一方の層（例えば第１層２１）は、該層を構成する第１物質が、該第１物質とは異なる第２物質により複数の薄層２Ａに分割され、第２物質の薄層２Ｂの膜厚Ｄ_MBは０.７ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】 小型化した場合であっても、密着強度等に関する膜の信頼性を維持しつつ、波面精度等の光学部品として必要な性能を得ることができる光学部品、この光学部品を有する光ヘッド及びこの光ヘッドを用いて光ディスク等の光記録媒体にデータの記録又は再生を行う光記録再生装置を提供する。
【解決手段】 開示される光学部品は、光学基板２上に、１８０〜２２０ＭＰａの引張応力を有する高屈折率膜４と、−２２０〜−２６０ＭＰａの圧縮応力を有する低屈折率膜５との対を複数積層した多層膜３が成膜されて構成されている。 （もっと読む）