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Fターム[2H048GA03]の内容

光学フィルタ (54,542) | 干渉フィルタ (5,046) | 材料 (863)

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【課題】より低減された光の透過率及びより低減されたサイズを備えた積層体を設計する方法を提供する。
【解決手段】第一の表面領域及び第二の表面領域を有する基板、第一の表面領域に設けられた第一の被覆層、並びに第二の表面領域に設けられた第二の被覆層を含む、積層体を設計する方法であって、基板の材料を選択すること、第一の被覆層の材料を選択すること、第二の被覆層の材料を選択すること、並びに、基板、第一の被覆層、及び第二の被覆層を透過する光の波長を選択すること、基板、第一の被覆層、及び第二の被覆層を透過する光の波長、並びに、基板、第一の被覆層、及び第二の被覆層を透過する光の波長についての、基板の材料の複素屈折率、第一の被覆層の材料の複素屈折率、及び第二の被覆層の材料の複素屈折率に基づいて、基板、第一の被覆層、及び第二の被覆層を透過する光の透過率が極小であるように、基板の厚さ、第一の被覆層の厚さ、及び第二の被覆層の厚さを決定することを含む、積層体を設計する方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】チャンネルの阻止帯域を縮減することが可能な光フィルターを提供する。
【解決手段】光フィルター1は、ガラス基板10およびろ過膜20を備える。ろ過膜20は、ガラス基板10に配置され、高屈折率フィルムと低屈折率フィルムとが交互に積層して構成した複数のファブリペロー共振器22を有する。高屈折率フィルムおよび低屈折率フィルムは、基本の光学的厚さが入射光の中心波長の四分の一(即ちλ0/4)である。ファブリペロー共振器22は、順によってガラス基板10に重なり、二層の高反射フィルム221と、二層の高反射フィルム221の間に位置する一層の隔離層222とを有する。これにより、光フィルター1は、チャンネルの阻止帯域を縮減することができる。 (もっと読む)


【課題】光通信、光集積回路基板に利用可能な光路長の温度依存性が小さい材料を提供する。
【解決手段】SrTiOにYAlOを添加した(Sr1−X,Y)(Ti1−X,Al)O複合酸化物材料は、0<X<0.50の範囲において光路長温度係数(OPD、ここでOPD=1/S・dS/dT=CTE + 1/n・dn/dTであって、Sが光路長、CTEが線熱膨張係数、nが屈折率、dn/dTが屈折率の温度係数である)が制御可能であり、特に0.04<X<0.50の範囲においてはその絶対値が6ppm/℃以下と光路長の温度依存性が極めて小さく、光通信用フィルター、光集積回路基板などに利用可能である。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成で分解能の低下を抑制可能な波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び電子機器を提供する。
【解決手段】波長可変干渉フィルター5は、平坦な固定対向面51Aを有する固定基板51と、固定対向面51Aに対向する平坦な可動対向面52Aを有する可動基板52と、固定対向面51Aに設けられた固定電極561と、可動対向面52Aに設けられ、電極間ギャップG2介して固定電極561に対向する可動電極562と、可動対向面52Aに設けられ、固定対向面51A及び可動対向面52Aと平行で、かつ固定対向面51Aに対向する平坦な反射膜固定面57Aを有し、固定電極561より厚み寸法が大きい中間層57と、反射膜固定面57Aに設けられた可動反射膜55と、固定対向面51Aに設けられ、反射膜間ギャップG1を介して可動反射膜55に対向する固定反射膜54と、を具備した。 (もっと読む)


【課題】本願発明の目的は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、安価で大面積化が可能で、温湿度変化後にも、柔軟性が維持され、かつ可視光透過性に優れ、赤外線遮蔽性に優れる赤外線遮蔽フィルムおよび赤外線遮蔽体を提供することにある。
【解決手段】基材上に、第一の金属酸化物の粒子および第一のバインダーを含有する低屈折率層と、該低屈折率層に隣接し第二の金属酸化物の粒子および第二のバインダーを含有し、該低屈折率層より屈折率が0.2以上高い高屈折率層とを有するユニットを有する赤外線遮蔽フィルムであって、該低屈折率層および該高屈折率層の少なくとも1層が、樹脂粒子を含有することを特徴とする赤外線遮蔽フィルム。 (もっと読む)


【課題】EUV光以外の他の光を取り除き、EUV光のみをマスクに供給することができる露光装置を提供する。
【解決手段】ミラー510の表面には、Mo/Siの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝513が形成される。EUV光源装置1から入射する光203,301は、ミラー510に入射し、反射または回折する。EUV反射光204(EUV回折光を含む)と、他の波長の光301A,301Bとは、反射角度または回折角度が異なるため、進行方向が異なる。アパーチャやダンパによって他の光301A,301Bを除去することにより、純度の高いEUV光をマスク600に照射することができる。 (もっと読む)


【課題】光通信、光集積回路基板に利用可能な光路長の温度依存性が小さい材料を提供する。
【解決手段】SrTiOにLaAlOを添加した(Sr1−X,La)(Ti1−X,Al)O複合酸化物材料は、0<X<0.80の範囲において光路長温度係数(OPD、ここでOPD=1/S・dS/dT=CTE + 1/n・dn/dTであって、Sが光路長、CTEが線熱膨張係数、nが屈折率、dn/dTが屈折率の温度係数である)が制御可能であり、特に0.04<X<0.80の範囲においてはその絶対値が6ppm/℃以下と光路長の温度依存性が極めて小さく、光通信用フィルター、光集積回路基板などに利用可能である。 (もっと読む)


【課題】容易に配線を接続可能な波長可変干渉フィルター、光モジュール、光分析装置、及び波長可変干渉フィルターの製造方法を提供すること。
【解決手段】波長可変干渉フィルター5では、第1基板51の第2基板52との対向面に第1電極53、第1電極53から延出する第1電極引出部531L,532L、および少なくとも一部が第2電極引出部542Lと対向する第3電極引出部543Lを設け、第2基板52の第1基板51との対向面に第2電極54および第2電極54から延出する第2電極引出部542Lを設け、第2電極引出部542Lおよび第3電極引出部543Lが設けられた引出部形成溝515と、引出部形成溝515と外部とを連通する貫通孔524と、貫通孔524に接続される引出部形成溝515に配置され第2電極引出部542Lと第3電極引出部543Lとを導通させる導電性部材とを備える。 (もっと読む)


【課題】分解能の低下を抑制できる光モジュール、および光分析装置を提供する。
【解決手段】測色センサーは、固定反射膜56を有する固定基板51、固定基板51に対向し、可動反射膜57を有する可動基板52、および固定基板51に設けられた第一電極544を備えた波長可変干渉フィルター5と、モジュール基板30と、波長可変干渉フィルター5およびモジュール基板30を接合する異方性導電層301を備え、固定基板51は、モジュール基板30に対向する固定対向電極516Aと、第一電極544および固定対向電極516Aを電気的に接続する導電接続部516と、を有し、モジュール基板30は、固定対向電極516Aに対向するモジュール電極302を有し、異方性導電層301は、固定対向電極516Aと、モジュール電極302とを導通させる。 (もっと読む)


【課題】テラヘルツ波の周波数を正確に校正することができるエタロンフィルタと、周波数校正システム、周波数校正方法を提供する。
【解決手段】ダイヤモンド基板等の光及びテラヘルツ帯で透過性を有する2枚の基板にスペーサーを接合することで2枚の基板の間に空隙を設けたエタロンフィルタを構成する。このエタロンフィルタに光源からの光を透過させて光の自由スペクトル間隔を測定し、また、テラヘルツ波をエタロンフィルタに照射することで、テラヘルツ波の自由スペクトル間隔を測定する。光を透過したときの自由スペクトル間隔と、テラヘルツ波を透過したときの自由スペクトル間隔を比較することで、テラヘルツ波の周波数を制御する。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成で、反射膜間のギャップ寸法を変化させた場合でも分解能の低下を抑制できる波長可変干渉フィルター、光モジュール、および光分析装置を提供する。
【解決手段】波長可変干渉フィルター5は、固定電極541および可動電極542を備えた静電アクチュエーター54を具備する。そして、固定電極541は、平面視で同一形状に形成される複数の固定部分電極543を備え、これらの固定部分電極543は、等角度間隔で配置され、可動電極542は、平面視において固定部分電極543と同一形状に形成され、かつ固定部分電極543と重なる複数の可動部分電極544を備え、互いに対向する固定部分電極543および可動部分電極544により部分アクチュエーター55が構成される。そして、これらの部分アクチュエーター55は、2つの前記電圧印加用部分アクチュエーター間で電気的に直列に接続される。 (もっと読む)


【課題】基板に生じる撓みを低減させた波長可変干渉フィルターの製造方法、波長可変干渉フィルター、光モジュール、および光分析装置を提供する。
【解決手段】固定基板11と、可動部121および保持部122を有する可動基板12と、固定反射膜16と、可動反射膜17と、固定反射膜16および可動反射膜17のギャップGを可変させる静電アクチュエーター14と、を備えた波長可変干渉フィルター1の製造方法であって、第一熱膨張係数を有する素材により、可動基板12よりも大きい剛性を有する固定基板11を製造する固定基板製造工程と、第一熱膨張係数よりも値が大きい第二熱膨張係数を有する素材により、可動基板12を製造する可動基板製造工程と、固定基板11および可動基板12を第一温度まで加熱した状態で接合する接合工程を備える。 (もっと読む)


【課題】各波長域に対応する複数の液晶パネルにおける液晶層の層厚の面内ばらつきに起因する色相ムラを効果的に解消することのできる投射型表示装置および光学ユニットを提供すること。
【解決手段】投射型表示装置において、各色光が入射する3つの反射型の液晶パネル100(赤色用液晶パネル100R、緑色用液晶パネル100G、青色用液晶パネル100B)では、青色用液晶パネル100Bにおいて共通電極21を構成するITO膜の膜厚は、赤色用液晶パネル100Rおよび緑色用液晶パネル100Gにおいて共通電極21を構成するITO膜の膜厚に比して薄い。また、赤色用液晶パネル100Rおよび緑色用液晶パネル100Gで共通電極21の構成するITO膜の膜厚は等しい。 (もっと読む)


【課題】分光領域の変形を抑制して分解能を向上することができ、且つ、製品ごとの分解能のばらつきを低減することのできるファブリペロー干渉計の製造方法を提供する。
【解決手段】可動ミラー構造体を形成する工程として、第1高屈折率層を犠牲層上に形成する工程と、第1低屈折率層を、第1高屈折率層上における分光領域の可動ミラー形成位置及び周辺領域に形成する工程と、第2高屈折率層を、第1低屈折率層を含んで第1高屈折率層を覆うように形成する工程と、エッチングにより、周辺領域の第1低屈折率層上に位置する第2高屈折率層の少なくとも一部を、第1低屈折率層をエッチングストッパとして除去する工程と、エッチングにより、第2高屈折率層の除去された部分を介して、周辺領域の第1低屈折率層を除去する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】基板に生じる撓みを低減して分解能を向上させた波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置を提供する。
【解決手段】エタロン5(波長可変干渉フィルター)は、固定基板51と、固定基板51に対向する可動基板52と、固定基板51に設けられた固定反射膜56と、可動基板52に設けられ、固定反射膜56とギャップを介して対向する可動反射膜57と、固定基板51に設けられた固定電極541と、可動基板52に設けられ、固定電極541と対向する可動電極542と、を備え、可動電極542は、圧縮応力を有する圧縮電極層と、引張応力を有する引張電極層と、が積層されて構成された。 (もっと読む)


【課題】性能低下が抑制される干渉フィルターを提供すること。
【解決手段】干渉フィルター5は、ギャップGを介して対向する2つの反射膜56,57と、反射膜56,57を支持する基板51,52と、を備え、反射膜56,57は、純銀膜561,571と銀合金膜562,572とを含み、基板51,52には、基板51,52側から順に純銀膜561,571、及び銀合金膜562,572が設けられ、銀合金膜562,572は、銀(Ag)、サマリウム(Sm)、及び銅(Cu)を含有するAg−Sm−Cu合金膜、又は銀(Ag)、ビスマス(Bi)、及びネオジム(Nd)を含有するAg−Bi−Nd合金膜であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】形態操作による半導体光路の修正を提供する。
【解決手段】光デバイスは、基板と、基板の上に位置付けされた半導体層とを含む。光路は、導波路コア領域をさらに含む半導体層を含む。コア領域は、第1の型の形態および第1の屈折率を有する第1の半導体領域を含む。第1の半導体領域は、第2の型の形態と、第1の屈折率とは異なった第2の屈折率とを有する第2の半導体領域に隣接して位置付けされている。 (もっと読む)


【課題】高分解能で、かつ低コストで製造可能な干渉フィルターを提供する。
【解決手段】エタロン5は、下部基板51と、下部基板51に対向する上部基板52と、下部基板51に設けられる下部反射膜56と、上部基板52に設けられるとともに、下部反射膜56に対してギャップを介して対向する上部反射膜57と、を備え、下部基板51の上部基板52に対向する面のうち、少なくとも下部反射膜56が設けられる下部反射膜形成面511Aには、上部基板52に対向する表面が平滑面となる平滑膜512が設けられ、下部反射膜56は、平滑膜512の表面に設けられる。 (もっと読む)


【課題】光学実装工程を簡易化し、歩留まりを向上させ、コストを削減する。
【解決手段】光受信器は、表面に受光素子501〜504が形成され、裏面にV溝700〜704が形成された基板5001と、凸部800〜804が形成された基板5002を備える。V溝700の一方の斜面にはミラー300が形成され、他方の斜面には無反射膜600が形成され、V溝704の一方の斜面にはバンドリジェクションフィルタ204が形成され、V溝701〜703の一方の斜面にはバンドリジェクションフィルタ201〜203が形成され、他方の斜面には無反射膜601〜603が形成される。基板5002は、凸部800〜804がバンドリジェクションフィルタ201〜204と無反射膜600〜603とミラー300とに接するよう基板5001と接合される。 (もっと読む)


【課題】3波長を制御することが出来る光モジュールを製造コストの大幅な増加を伴うことなく、実現する。
【解決手段】シリコン単結晶基板4の主面41、42は、(111)結晶面に対して所定の角度θを持つように形成されている。シリコン単結晶基板4の主面41、42をエッチングすることによって傾斜面7,8が形成される。シリコン単結晶基板の第1の傾斜面7には第1のフィルタ膜9と第2のフィルタ膜10が形成され、第2の傾斜面8には反射膜11が形成されてフィルタ素子18を構成している。実装基板17には発光素子14と第1の受光素子15と第2の受光素子16が形成されている。このような構成によれば、フィルタ素子18と実装基板17を接着した3波長を制御することが出来る光モジュールを安価に製造することが出来る。 (もっと読む)


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