【課題】位置合わせなしに回折構造による絵柄と金属層による絵柄の位置が合った回折構造形成体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】基材表面の一部に回折構造を形成する工程と、前記回折構造が形成された表面全面に金属層を形成し、前記金属層の全面にレーザー光を万線状または網点状に照射し、回折構造における吸収を利用して回折構造上の金属層の一部を選択的に破壊する工程と、前記回折構造が形成された表面全面にフォトレジストを形成し、露光光を金属層の一部が選択的に破壊された部分を通すことによって生じた回折光を前記フォトレジストに照射して前記回折構造上のフォトレジストを硬化させ、現像して前記回折構造を覆うレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンをマスクとしてエッチングを行い、前記回折構造以外の部分の金属層を除去する工程とを有する回折構造形成体の製造方法。 （もっと読む）

【目的】波長分割多重化された信号光から所望の複数の波長成分を同時に取出す。
【構成】制御光として用いるレーザ光を２つに分割し，さらにこれらの分割制御光ビームを，それぞれ，交叉する角度が異なる３つの制御光ビーム部分Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３に分け，フォトリフラクティブ光導波路60に，プリズム50を介して垂直に照射する。これによって周期の異なる３つのグレーティングＧ１，Ｇ２，Ｇ３を光導波路60の異なる場所に同時に誘起させ，信号光Ｓに含まれる３つの異なる波長の信号成分を同時に回折させて取出す。 （もっと読む）

【課題】偽造防止効果をより一層向上させ、かつ一目で簡単に真偽判定が可能で、しかも偽造防止を要する透明カード等の表裏どちらの面からでも回折光を観察できるユニークな回折構造転写箔及びそれを用いた偽造防止媒体の提供にある。
【解決手段】支持体１の片面に剥離性保護層２を介して、異なる回折構造であるが形成されている複数の回折構造形成層３、６が積層され、該回折構造形成層３、６上には接着層９が施されている回折構造転写箔１３であって、少なくとも前記支持体１上には前記剥離性保護層２、回折構造であるエンボス加工面５が形成されている第一の回折構造形成層３、光反射層４、前記第一の回折構造形成層とは異なる回折構造であるエンボス加工面が形成されている第二の回折構造形成層６、光反射層７、接着層９の６層が順に積層されている回折構造転写箔１３である。 （もっと読む）

【目的】 簡単な構造で光を配光し、平面を略均一に照明するバックライト用回折光学素子及びそれを用いた液晶表示装置を提供する
【構成】 バックライト用回折光学素子であって、光源からの光を回折し、光軸中心よりも周辺部の方が強度の強い環状の強度分布で回折光を射出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】偽造を一層困難ならしめた情報記録媒体を提供し、併せて、この情報記録媒体か
ら、秘匿情報を確実に解読することのできる読取り装置を提供する。
【解決手段】情報記録媒体は、散乱反射層１２上に形成され、凹凸によって形成された互いに平行する複数の溝パターンが設けられた配向層１３と、配向層１３上に設けられ、液晶分子を有し該液晶分子が複数の溝パターンに沿って配向し固定された像形成層とを含んで構成され、配向層１３が複数の領域に分割され、この複数の領域の配列により秘匿情報を記録する。 （もっと読む）

【課題】回折光学素子から照明対象の方向以外の方向へ進行する光を有効に利用でき、光源部の異常発生時に光の射出を停止可能とし、かつ安定した光量の光を供給可能な照明装置、その照明装置を用いるプロジェクタ及びモニタ装置を提供すること。
【解決手段】光を射出する光源部１２Ｒと、光源部１２Ｒからの光を回折させ、照明対象へ回折光を進行させる回折光学素子１３Ｒと、光源部１２Ｒからの光を遮蔽可能に設けられた遮蔽部２１と、を有し、遮蔽部２１は、回折光学素子１３Ｒから照明対象の方向以外の方向へ進行する光を検出する光検出部２３による検出結果に応じて、光源部１２Ｒからの光の少なくとも一部を遮蔽する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、最適な回折格子の設計を、自動かつ迅速に行うことのできる回折格子設計プログラムを提供することにある。
【解決手段】コンピュータ１２をパラメータ設定手段２２、シミュレーション手段２４、評価手段２５、パラメータ変更手段２６として機能させるための回折格子設計プログラム２０であって、該シミュレーション手段２４は、バーチャルに回折格子を作ってその回折及び結像をシミュレーションし、該評価手段２５は、該シミュレーション手段２４で得られた回折像の結像状態を評価し、該パラメータ変更手段２６は、最適化したいパラメータを順次変更し、該パラメータ変更手段２６からのパラメータでのシミュレーション、該評価及び該パラメータの変更を自動に繰り返し、該評価手段２５での評価点が最も高くなるパラメータ最適値を自動に探索することを特徴とする回折格子設計プログラム２０。 （もっと読む）

【課題】大きな面積に波長と同程度の微細な凹凸パターンを精度良く容易に形成する凹凸パターン形成方法を提供する。
【解決手段】２つの光束を用いた干渉露光方式により感光性基板の表面に干渉縞パターンを露光し、前記感光性基板に凹凸パターンを形成する方法において、光軸に垂直な方向の光束幅が互いに異なる２つの帯状光束を、それぞれの前記帯状光束の短い方を一致するように重ね合わせて、前記帯状光束の幅の長い方向に周期を有する干渉縞パターンを形成する工程と、前記感光性基板の表面に前記干渉縞パターンを露光する際に、前記干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直の方向に、前記感光性基板と前記干渉縞パターンとを相対的に移動させながら露光する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】光利用効率を低下させることなく、回折光学素子と対象照明領域との位置合わせを行うことが可能な回折光学素子、照射装置及びプロジェクタを提供すること。
【解決手段】所定の被照射面１１における対象照明領域Ｓを照明する第１照明光Ｓ１と、対象照明領域Ｓ以外の領域を照明し対象照明領域Ｓと第１照明光Ｓ１との相対的な位置合わせを行う位置合わせ用の第２照明光Ｓ２とを生成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ラゲールガウシアンビームを効率的に生成できる、ラゲールガウシアンビーム生成用回折格子としてのホログラム２次元パターンを提供する。
【解決手段】ラゲールガウシアンビーム生成用回折格子としてのホログラム２次元パターン２００は、一様な流れの中におかれた湧源から周囲に一様に湧き出す２次元完全流体の流線に基づいて作製されている。 （もっと読む）

【課題】 この発明は、一回の露光で２つの記録層（または記録領域）を作製することができる光学素子を提供することを目的とする。
【解決手段】
この発明のホログラム光学素子２０は、第１のホログラム記録層２１と第２のホログラム記録層２１とを備え、第１のホログラム記録層２１のホログラム領域１で回折された光束と回折されない光束とが空間的に分離される距離だけ、第２のホログラム記録層２２が第１のホログラム記録層２１に離れて配置され、露光ビーム３１のうちホログラム領域１００外を通過した光とホログラム原版１０からの１次回折光３２が干渉する位置で第２のホログラム記録層２２が干渉露光され、第２のホログラム領域２が形成される。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、複数のレーザ光同士のコヒーレンスを低減させ、スペックルノイズを抑えた波長選択素子、波長選択素子の製造装置、光源装置及び画像表示装置を提供すること。
【解決手段】レーザ光を発光する複数の発光素子から射出されたレーザ光のうち所定の選択波長が選択される光選択領域が１つの基体に複数形成された波長選択素子であって、複数の光選択領域Ａ〜Ｄのそれぞれに、干渉縞が形成された干渉領域ａ〜ｄが設けられ、少なくとも一つの干渉領域ａ〜ｄの干渉縞の間隔が、残りの干渉領域ａ〜ｄの干渉縞の間隔と異なることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】構造が簡素で、入射光束を４光束に分岐することもできる新規な光束分岐素子を実現する。
【解決手段】入射光束を分岐する光束分岐素子であって、平面上で互いに直交するＸ方向およびＹ方向、上記平面に直交する方向をＺ方向として、基板の表面形状として第１〜第４の面積領域Ａ〜Ｄの配列を有し、第１の面積領域はＹ方向において第３の面積領域と交互に、Ｘ方向において第４の面積領域と交互に配列され、Ｙ方向に対して傾く斜め方向において、第２の面積領域と交互に配列され、Ｘ方向の偏光光束に対してＹ方向の回折格子として作用し、Ｙ方向の偏光光束に対してＸ方向の回折格子として作用するように、第１〜第４の面積領域Ａ〜Ｄの大きさと配列形態、および各面積領域のＸ、Ｙ方向の偏向光束に対する有効屈折率が定められている。 （もっと読む）

【課題】一つの光源からの入射光束を２光束以上に分割する光束分割素子を提供する。
【解決手段】光学異方性を示す領域と光学等方性を示す領域からなる周期的な構造を有し、互いに直交する偏向成分を透過または回折する偏向ホログラム素子であって、第１のホログラム素子１と第２のホログラム素子２を多段に配列し、第１のホログラム素子１の透過および回折により光束を分割し、第２のホログラム素子２の透過および回折により分割された光の光軸を調整することにより、従来のミラー分割によるミラー面精度ばらつきの影響及び配置誤差の影響によるビームスポット径劣化の不具合がなく、高価なハーフミラープリズムに比べて低コストな光束分割素子が提供できる。 （もっと読む）

【課題】高効率で低コストな偏光選択性液晶ホログラム素子の提供。
【解決手段】光学異方性を示す領域と光学等方性を示す領域からなる周期的な構造を有し、前記周期的な構造は非重合性液晶と、重合性モノマーあるいはプレポリマーと、光重合開始剤とからなる組成物を一対の透明基板間に保持し、前記組成物を二光束以上の多光干渉露光することにより、主にポリマーから成る層と主に非重合性液晶から成る層との周期的な相分離構造を形成したポリマー分散液晶型のホログラム素子において、前記組成物の前記非重合性液晶の常光屈折率をｎｏ、前記重合性モノマーあるいはプレポリマーの屈折率をｎｐとすると下記式（１）、
｜ｎｐ−ｎｏ｜＞０．００６ ・・・（１）
の関係を満たす前記組成物を用いて前記周期的な構造が形成されてなり、前記周期的な構造の配列方向に略垂直な偏光成分が回折することを特徴とする液晶ホログラム素子を主な発明とする。 （もっと読む）

【課題】所定面を効率良く照明できる照射光を生成できる光源装置を提供する。
【解決手段】所定面に照射するための照射光を生成する光源装置は、レーザ光を射出する複数のレーザ光源と、入射した光を回折させ、所定面に供給するための光を射出する回折光学素子と、レーザ光源のそれぞれから射出された複数のレーザ光が入射されるとともに、入射された複数のレーザ光を集光し、集光した光を回折光学素子に入射させる光学系とを備えている。光学系は、複数のレーザ光の少なくとも一部を所定面の中央側に集光し、回折光学素子に光を入射させる。 （もっと読む）

【課題】溝形成面（上面）全体に回折格子溝を形成することができ、且つ溝の方向を容易に確認することができるブレーズド型凹面回折格子を提供する。
【解決手段】凹面の平面形状を回折格子溝に平行な１辺を含む形状とし、その１辺の両端にある角部の角度を鈍角にする。例えば、平面形状を八角形とし、その八角形の１辺を回折格子溝に平行にする。これにより、平面形状が四角形である従来の角形凹面回折格子よりも角部の高さ及び勾配を小さくすることができ、それにより、溝作製時に照射されるイオンビームが角部により遮られることを防ぐことができる。そのため、溝形成面全体に回折格子溝を形成することができる。また、回折格子溝に平行な辺により、溝方向の設定が容易となる。 （もっと読む）

【課題】特性の改善された屈折率変調型回折光学素子を簡便かつ低コストで作製する。
【解決手段】屈折率変調型回折光学素子の作製方法は、剥離剤（６）を介してＤＬＣ膜（２）上に位相格子マスク（３ａ）を接触させて配置し、その位相格子マスクを介してＵＶ光（４ｂ）によってＤＬＣ膜を干渉露光し、それによってＤＬＣ膜の局所的な屈折率を高めて屈折率変調型回折格子を形成し、その後に、ＤＬＣ膜から位相格子マスクを剥離するとともに剥離剤を除去することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 露光前から露光後までにおいてＰＤＬＣ混合物とガラス基板との界面での屈折率差を極めて小さくして反射光量を減らし、高効率な回折効率を得る。
【解決手段】 誘電異方性を有する非重合性液晶と、重合性モノマーあるいはプレポリマーと、光重合開始剤とからなる混合物５４を一対の基板５３ａ、５３ｂ間に保持し、誘電異方性を有する非重合性液晶の常光と異常光屈折率をそれぞれｎｏ、ｎｅ、重合性モノマーあるいはプレポリマーの屈折率をｎ２とし、非重合性液晶と、重合性モノマーあるいはプレポリマーの体積比をα：（１−α）（ただし、０＜α＜１）としたとき、一対の透明基板の原板から遠いほうの基板屈折率ｎは、ｍｉｎ（ｎｏ，ｎ２）≦ｎ＜α・（２ｎｏ＋ｎｅ）／３＋（１−α）・ｎ２（ただし、ｍｉｎ（ｎｏ，ｎ２）はｎｏとｎ２のうち小さいほうの値）を満たし、ポリマーから成る層と非重合性液晶から成る層との周期的な相分離構造を形成する。 （もっと読む）

【課題】基板に対する貼付必要領域４２の位置決めを、特別な位置決め手段を形成することなく、簡易な方法で、かつ、高精度に行う。作業時のハンドリング性を良好にする。
【解決手段】貼付必要領域４２の外側に貼付不要領域４３が形成される。貼付不要領域４３は、その全部または一部が位置決め用領域として機能する。位置決め用領域は、多層フィルム４１の一部の構成そのものからなる簡素な構成であり、貼付不要領域４３の形成と同時に形成することが可能で、特別な位置決め手段を別途形成する必要がなくなる。また、貼付不要領域４３の存在により、貼付必要領域４２に触れることなく貼合までの作業や持ち運びが可能となる。さらに、貼付必要領域４２の外形に沿った第１のカットと、位置決め用領域の外形に沿った第２のカットとは同時に行われているので、貼付必要領域４２と位置決め用領域との相対的な位置関係を高精度に保つことができる。 （もっと読む）