【課題】 反応容器の中の不純物量の変動に影響されずに、休止後の再稼動時であっても、生産性を低下させない堆積膜形成方法を提供することにある。更に、特性バラツキを低減した堆積膜形成方法を提供することにある。
【解決手段】 減圧可能な真空処理容器を用いて堆積膜を形成する堆積膜形成方法において、前記堆積膜の形成を休止し（Ｓ５２１）、前記真空処理容器の中の不純物の量がほぼ飽和するまで前記真空処理容器を大気開放する（Ｓ５２２）。その後、ほぼ飽和した不純物の量に対応して予め定めた堆積膜形成条件（通常とは異なる堆積膜形成条件）を、再稼働時の堆積膜形成条件とする（Ｓ５３２）。 （もっと読む）

【課題】塗膜品質を確保すると共に、爆発、火災等の危険性を回避する静電スプレー塗工法による電子写真装置用部品などの塗装品の製造方法、及び塗装装置の提供。
【解決手段】塗工ブース内で被塗装物をスプレー塗工する塗装品の製造方法において、被塗装物の塗工面を移動させながら静電スプレーガンにより−５０ｋＶ以上−１５ｋＶ以下の電圧を印加して帯電をさせた塗装液粒子を、好ましくは塗装液粒子の噴射方向と略平行な方向の気流を形成して、被塗装物の塗工面に噴射することを特徴とする塗装品の製造方法および塗装装置。 （もっと読む）

【課題】円筒状基体に対して、その軸方向における膜厚および膜質が均質化された膜を形成できるようにし、その技術を適用して製造した電子写真用感光体を用いた場合に、品質および均一性の高い画像を形成できるようにする。
【解決手段】真空成膜室５に保持された円筒状基体３に対して、グロー放電により原料ガスを分解したときの分解成分を堆積させることにより薄膜を形成するプラズマＣＶＤ装置１において、真空成膜室５とは区画され、かつ円筒状基体３を予備加熱するための予備加熱室４と、円筒状基体３の外周面に対向して円筒状基体３の軸方向に延びる直線状に配置された線材からなる１または複数の発熱体４２と、をさらに備えた。 （もっと読む）

【課題】アモルファスシリコン系の電荷注入阻止層を有する電子写真感光体において、電荷注入阻止層に膜割れが生じることを抑制し、画像に黒スジなどが発生して画像特性が悪化することを抑制する。
【解決手段】グロー放電分解装置を用いてアモルファスシリコン系の電荷注入阻止層１１を有する電子写真感光体１を製造する方法であって、電荷注入阻止層１１および表面保護層１３を成膜するときの基体１０の温度の差Δ、および電荷注入阻止層１１を成膜するときのモノシランガスの流量に対するＲＦ投入電力の比率（Ｗ／ｃｃ）を、（１）Δ≦２５、Ｗ／ｃｃ≧０．７５、（２）Δ≦５０、Ｗ／ｃｃ≧１．００、（３）Δ≦７５、Ｗ／ｃｃ≧１．５０または（４）Δ≦１００、Ｗ／ｃｃ≧１．７５に設定する。 （もっと読む）

【課題】画像形成工程中の感光体表面のクリーニング工程における問題発生の防止および画像濃度ムラ等の低減が可能な感光体を生産性良く供給する電子写真用感光体の製造方法の提供。
【解決手段】第一の堆積膜形成装置内に円筒状基体を設置し、円筒状基体のいずれか一方の端部を堆積膜形成装置直近の壁面に接地した状態で原料ガスを高周波電力により分解し、少なくとも珪素原子を母材とし水素原子及び／またはハロゲン原子で形成される非単結晶珪素膜を円筒状基体に堆積し、非単結晶珪素膜を堆積した円筒状基体を第一の堆積膜形成装置から取り出し、第二の堆積膜形成装置内に取り出した円筒状基体を設置し、円筒状基体の両端部それぞれを堆積膜形成装置直近の壁面に接地した状態で、少なくとも炭化水素系の原料ガスを高周波電力により分解し、少なくとも炭素原子を母材とし水素原子及び／またはハロゲン原子で形成される非単結晶炭素膜を堆積する。 （もっと読む）

【課題】電位特性を低下させずに画像欠陥レベルを向上させることができる電子写真感光体とその製造方法を提供すること。
【解決手段】第１ステップとして、排気手段に接続され、原料ガス供給手段を備えた真空気密可能な成膜炉内に導電性の表面を有する円筒状基体を設置し、原料ガスを高周波電力により分解し、該基体上に少なくとも非単結晶材料から成る第１の下部阻止層を含む第１の層を堆積する工程と、第２ステップとして、前記第１の層を積層した基体を一旦成膜炉から取り出し、前記第１の層表面に対して、研磨加工を行う工程と、第３ステップとして、排気手段に接続され、原料ガス供給手段を備えた真空気密可能な成膜炉内に前記第２ステップの工程を終えた基体を設置し、少なくとも非単結晶材料からなる第２の下部阻止層と光導電層を含む第２の層を積層させる工程を有する。 （もっと読む）

【課題】 画像欠陥を低減させる効果を低下させずに第１の層と第２の層との密着性を向上させ、且つ全体のコストを低減することができる負帯電用電子写真感光体の製造方法及び、それによって製造された負帯電用電子写真感光体、および電子写真装置を提供する。
【解決手段】 第１の層を積層し、突起の少なくとも頭頂部を除去した基体を成膜炉内に設置し、少なくとも周期表第13族元素を含むガスと水素、アルゴン、ヘリウムから選ばれる少なくとも一つからなる希釈ガスで前記第１の層表面をプラズマ処理し、前記第１の層上に非単結晶材料からなる層を第２の層として積層させることを特徴とする負帯電用電子写真感光体の製造方法、及び負帯電用電子写真感光体、ならびに該負帯電用電子写真感光体を用いた電子写真装置。 （もっと読む）